本发明涉及玻璃制造领域，特别涉及一种oled玻璃组合物及其制备方法。
背景技术：
1、tft-lcd玻璃基板原料中实质上不含碱金属化合物，且氧化铝含量高，导致玻璃熔制过程比常规钠钙硅酸盐玻璃难度大很多，玻璃熔制温度高，黏度大，气泡难以排除。
2、oled玻璃基板熔化、澄清温度比tft-lcd玻璃基板还要高50~70℃（最高约1700℃），配合料熔化难度大、易挥发，玻璃液黏度高，气泡难以排出，均化、澄清工艺难度大。
3、玻璃制备过程中，气泡是一种最为常见的缺陷，它会影响玻璃制品的外观、透过率、机械强度和硬度等，当玻璃基板残存有一定数量微气泡且均质性不好时，进而无法满足显示用玻璃基板要求。
4、oled玻璃基板成形温度比普通钠钙硅玻璃高200℃以上，超高黏度、极短料性的玻璃液均匀展薄成形及其困难，且oled玻璃基板的表面微观质量、厚薄差等质量指标要求更高。
技术实现思路
1、本发明的目的在于提供一种应变点高达720℃以上，弹性模量可达80gpa以上，气泡少，且均质性良好的oled玻璃基板，提供一种oled玻璃基板组合物及其制备方法。
2、本发明解决其技术问题所采用的技术方案如下：
3、一种oled玻璃基板组合物，其特征在于由以下质量百分比的组份构成：sio2 61~63%、al2o3 17~20%、cao 4~8%、b2o3 0.5~2%、mgo 3~6%、sro 0~4%、bao 2~8%、sno2 0.15~0.3%、sr(no3)2 0.07%~0.8%，其中，sio2+al2o3 80~82%。
4、进一步，所述oled玻璃基板组合物还可由以下质量百分比的组份构成：sio2 61.8~62.5%、al2o3 17.6~18.2%、cao 4.5~7%、b2o3 1~2%、mgo 4.4~5.9%、sro 0.3~3.8%、bao 3.2~7.5%、sno2 0.17~0.23%、sr(no3)2 0.28%~0.75%，其中，sio2+al2o380~82%。
5、一种oled玻璃基板组合物及其制备方法，其特征在于采取以下步骤：
6、（1）按上述oled玻璃基板组合物氧化物组份配比，采用相应质量配比原料组成配合料，配合料置于高温炉铂金坩埚中在1660~1700℃高温下熔融7~12小时；
7、（2）待玻璃液达到熔融状态，采用铂金搅拌棒搅拌玻璃液，气泡更易排出，从而达到澄清、均化的目的；
8、（3）熔制、澄清好的玻璃液由铂金坩埚倒入到模具中成形；
9、（4）然后进入到马弗炉中精密退火，再对得到的玻璃进行切割与抛光工序即得到oled玻璃基板。
10、本发明的有益效果：本发明提供了铂金坩埚熔制并搅拌澄清、均化，制备出的oled玻璃基板应变点高达720℃以上，弹性模量可达80gpa以上，气泡少，且均质性良好。要实现应变点高达720℃以上、弹性模量可达80gpa，关键原料在于sio2+al2o3 80~82%，两者在配方组成中主要起限制玻璃应变点与弹性模量上下限的作用，两者决定了玻璃网络结构的紧密度，起到了增强玻璃强度的作用。
1. 一种oled玻璃基板组合物，其特征在于由以下质量百分比的组份构成：sio2 61~63%、al2o3 17~20%、cao 4~8%、b2o3 0.5~2%、mgo 3~6%、sro 0~4%、bao 2~8%、sno2 0.15~0.3%、sr(no3)20.07%~0.8%，其中，sio2+al2o380~82%。
2. 根据权利要求1所述一种oled玻璃基板组合物，其特征在于：所述oled玻璃基板组合物由以下质量百分比的组份构成：sio2 61.8~62.5%、al2o3 17.6~18.2%、cao 4.5~7%、b2o3 1~2%、mgo 4.4~5.9%、sro 0.3~3.8%、bao 3.2~7.5%、sno2 0.17~0.23%、sr(no3)2 0.28%~0.75%，其中，sio2+al2o380~82%。
3.如权利要求1或2所述的一种oled玻璃基板组合物的制备方法，其特征在于采取以下步骤：
4.根据权利要求3所述一种oled玻璃基板组合物的制备方法：其特征在于，制备出的oled玻璃基板应变点高达720℃以上，弹性模量可达80gpa以上，气泡少，且均质性良好。