镀膜玻璃制备方法及镀膜玻璃与流程

本申请涉及玻璃，更具体地说，是涉及一种镀膜玻璃制备方法及镀膜玻璃。

背景技术：

1、以铬作为金属层膜材料的热反射镀膜玻璃的应用采取的是以铬或者镍铬合金平面靶为靶材，氩气作为工艺气体，中频交流反应式磁控溅射沉积的，现有的工艺控制方法是：通入适量的氩气，仅仅通过增加或者减少溅射功率来控制膜层的厚度。利用铬金属原子有序排列形成膜层对光进行有效遮蔽及高反射效果来降低遮阳系数。随着城市高层建筑对玻璃的大量使用，光污染对人们的出行和生活造成影响，降低建筑外饰玻璃反射率的需求十分迫切。

技术实现思路

1、本申请的目的在于提供一种镀膜玻璃制备方法及镀膜玻璃，旨在解决现有技术中存在的通过现有方法制备得到的镀膜玻璃反射率高而造成的光污染问题。

2、第一方面，为实现上述目的，本申请采用的技术方案是：提供一种镀膜玻璃制备方法，具体为，依次在玻璃基体同侧镀设第一氮化硅层、氮化铬层、金属层、第二氮化硅层；其中，磁控溅射沉积所述氮化铬层时，以铬靶作为靶材，通入氩气和氮气的混合气体，且所述混合气体中所述氮气的占比大于所述氩气的占比。

3、在其中一个实施例中，磁控溅射沉积所述氮化铬层时，所述混合气体中氩气与氮气的流量比为ar：n2＝(0.6～0.7)，将金属铬原子溅射出来后与氮气进行化合反应生成氮化铬。

4、在其中一个实施例中，在磁控溅射沉积所述第一氮化硅层时，以硅靶或硅铝靶作为靶材，通入氩气和氮气的混合气体，所述氩气的流量为800～1000sccm，所述氮气的流量为600～800sccm。

5、在其中一个实施例中，在磁控溅射沉积所述第二氮化硅层时，以硅靶或硅铝靶作为靶材，通入氩气和氮气的混合气体，所述氩气的流量为800～1000sccm，所述氮气的流量为600～800sccm。

6、在其中一个实施例中，在磁控溅射沉积所述金属层时，以镍铬靶作为靶材，以氩气作为保护气体，所述氩气的流量为700～1000sccm。

7、第二方面本申请还提供了一种镀膜玻璃，所述镀膜玻璃由上述实施例所提供的制备方法制备，所述镀膜玻璃包括玻璃基体以及依次镀设在所述玻璃基体同侧面上的第一氮化硅层、氮化铬层、金属层、第二氮化硅层。

8、在其中一个实施例中，所述金属层采用镍铬金属合金，厚度为1nm-3nm。

9、在其中一个实施例中，所述第一氮化硅层的厚度为40nm-60nm。

10、在其中一个实施例中，所述第二氮化硅层的厚度为20nm-30nm。

11、在其中一个实施例中，所述氮化铬层的厚度为10nm-20nm。

12、本申请所提供的镀膜玻璃制备方法及镀膜玻璃的有益效果在于，本申请的镀膜玻璃制备方法设置了氮化铬层，在玻璃制备的过程中，磁控镀设沉积氮化铬时采用氮气比例多、氩气比例少的氩气-氮气混合气体作为反应气体，通过将金属铬原子溅射出来后通过与氮气进行充分化合反应生成化合物，大幅度降低金属铬的自由电子，从而降低膜层对光的共振作用，大幅度减少电子次玻反射，改善膜层对光的透射和反射颜色，降低反射率，提升透过率。

13、本申请所提供的镀膜玻璃不仅仅具有金属层，还具有氮化铬层，铬充分与氮气进行反应，生成氮化铬，有效地降低反射率，本镀膜玻璃可见光透过率大于40％，外反射≤15％，遮蔽系数≤0.55，形成了金色镀膜玻璃。

技术特征：

1.镀膜玻璃制备方法，其特征在于，依次在玻璃基体同侧镀设第一氮化硅层、氮化铬层、金属层、第二氮化硅层；其中，磁控溅射沉积所述氮化铬层时，以铬靶作为靶材，通入氩气和氮气的混合气体，且所述混合气体中所述氮气的占比大于所述氩气的占比。

2.如权利要求1所述的镀膜玻璃制备方法，其特征在于，磁控溅射沉积所述氮化铬层时，混合气体中氩气与氮气的流量比为ar：n2＝(0.6～0.7)，将金属铬原子溅射出来后与氮气进行化合反应生成氮化铬。

3.如权利要求1所述的镀膜玻璃制备方法，其特征在于，在磁控溅射沉积所述第一氮化硅层时，以硅靶或硅铝靶作为靶材，通入氩气和氮气的混合气体，所述氩气的流量为800～1000sccm，所述氮气的流量为600～800sccm。

4.如权利要求1所述的镀膜玻璃制备方法，其特征在于，在磁控溅射沉积所述第二氮化硅层时，以硅靶或硅铝靶作为靶材，通入氩气和氮气的混合气体，所述氩气的流量为800～1000sccm，所述氮气的流量为600～800sccm。

5.如权利要求1所述的镀膜玻璃制备方法，其特征在于，在磁控溅射沉积所述金属层时，以镍铬靶作为靶材，以氩气作为保护气体，所述氩气的流量为700～1000sccm。

6.镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜玻璃由权利要求1-5任一项所述的制备方法制备，所述镀膜玻璃包括玻璃基体以及依次镀设在所述玻璃基体同侧面上的第一氮化硅层、氮化铬层、金属层、第二氮化硅层。

7.如权利要求6所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述金属层采用镍铬金属合金，厚度为1nm-3nm。

8.如权利要求6所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述第一氮化硅层的厚度为40nm-60nm。

9.如权利要求6所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述第二氮化硅层的厚度为20nm-30nm。

10.如权利要求6所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述氮化铬层的厚度为10nm-20nm。

技术总结
本申请适用于玻璃技术领域，具体提供一种镀膜玻璃制备方法及镀膜玻璃，具体为，依次在玻璃基体同侧镀设第一氮化硅层、氮化铬层、金属层、第二氮化硅层；其中，磁控溅射沉积所述氮化铬层时，以铬靶作为靶材，通入氩气和氮气的混合气体，且所述混合气体中所述氮气的占比大于所述氩气的占比。旨在解决现有技术中存在的通过现有方法制备得到的镀膜玻璃反射率高而造成的光污染问题。

技术研发人员：董清世,汤庭喜,虞海田
受保护的技术使用者：信义玻璃工程（东莞）有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15