一种LaSm共掺杂ITO靶材及其制备方法与应用与流程

文档序号:36284238发布日期:2023-12-07 00:21阅读:47来源:国知局
一种的制作方法

本发明属于ito靶材,具体涉及一种lasm共掺杂ito靶材及其制备方法与应用。


背景技术:

1、ito(氧化铟锡)靶材是一种用于物理蒸发或磁控溅射等薄膜制备技术的材料,在电子工业中具有重要作用。ito靶材是由铟和锡的氧化物按照适当的比例组成,具有透明导电性,因此可以用于制作透明电极,例如液晶显示器、有机发光二极管、触摸屏和太阳能电池等。

2、在太阳能电池板的制备过程中,其硅片一般需要经过清洗、制绒、扩散和减反射膜沉积等工艺处理。减反膜是一种用于减少光学器件表面反射的薄膜涂层,以提高光学元件的透过率和性能,常用的减反射膜由氮化硅制成,虽然ito膜也具有较好的透光性,但是其反射率比氮化硅膜,减反效果不如氮化硅膜,会影响太阳能电池的效率。


技术实现思路

1、本发明的目的之一在于提供一种lasm共掺杂ito靶材,解决常规ito膜透光率;目的之二在于提供一种lasm共掺杂ito靶材的制备方;目的之三在于提供一种lasm共掺杂ito靶材应用。

2、本发明的目的可以通过以下技术方案实现:

3、一种lasm共掺杂ito靶材,原料包括纳米ito粉末和纳米lasm(bo3)2粉末。

4、一种lasm共掺杂ito靶材的制备方法,包括如下步骤:

5、步骤一:将六水合硝酸镧、六水合硝酸钐、甘氨酸和硼酸加入反应釜中,然后加入去离子水,在200-500r/min的条件下搅拌30-60min,得到混合液,将混合液装入坩埚并转移至马弗炉中,按照3-5℃/min的速率升温至800-850℃并保温3-4h,自然冷却后将产物球磨粉碎,过筛,得到颗粒直径为30-40nm的纳米lasm(bo3)2粉末;

6、步骤二:将五水合四氯化锡、硝酸铟和去离子水加入反应釜中搅拌混合,然后加入质量分数为25%的氨水并调节ph值至10,在200-500r/min的条件下搅拌120-150min,然后静置6-10h,再将反应液离心,收集沉淀并用去离子水洗涤3-5次,干燥,将沉淀装入坩埚并转移至马弗炉中,在氧气氛围下,按照3-5℃/min升温至500℃并保温2-2.5h,自然冷却后将产物球磨粉碎,过筛,得到颗粒直径为20-30nm的纳米ito粉末;

7、步骤三:将纳米ito粉末、纳米lasm(bo3)2粉末和质量分数为60%的乙酸溶液加入球磨机中球磨混合,调节固含量为65-70wt%,得到浆料,将浆料转移至模具中,在480±5mpa的压力下,按照10℃/min的速率升温至400-420℃并保温保压60-80min,自然冷却,得到坯体;

8、步骤四:将坯体转移至烧结炉中,在氧气氛围下,按照2-5℃/min的速率升温至1350-1400℃并保温3-3.5h,然后按照10℃/min的速率降温至350-400℃,自然冷却,得到lasm共掺杂ito靶材。该lasm共掺杂ito靶材能够应用于太阳能电池硅片溅镀减反膜。

9、进一步地,六水合硝酸镧、六水合硝酸钐、甘氨酸、硼酸和去离子水的用量比为34.3g:44.45g:25g:12.37g:250-300ml。

10、进一步地,五水合四氯化锡、硝酸铟和去离子水的用量比为18.32g:195.44g:1000ml。

11、进一步地,纳米ito粉末和纳米lasm(bo3)2粉末的用量比为113.74g:13.76-18.18g。

12、本发明的有益效果:

13、本发明lasm共掺杂ito靶材以纳米ito粉末和纳米lasm(bo3)2粉末为原料,纳米lasm(bo3)2粉末的添加有助于增减溅镀膜的透光率。在模具中通过500℃保温保压处理后,制备出具有较好结合力的坯体,无需使用有机粘合剂,减少了孔隙的产生,有助于保证烧结后lasm共掺杂ito靶材的密度,并且烧结过程使用的温度小于常用的1550℃,有助于避免晶粒和密度过大,防止对溅镀后薄膜的透光率产生影响。

14、纳米lasm(bo3)2粉末制备过程中,甘氨酸为燃烧剂,保温燃烧过程中产生水、二氧化碳和氮氧化物等气体,形成多孔的稀土硼酸盐烧结物,便于球磨粉碎,硼酸盐中含有硼与氧通过sp2杂化形成的硼酸基团,具有很高的还原性,能够防止纳米lasm(bo3)2粉末中稀土金属离子在烧结过程中被氧化,有助于提高其稳定性。

15、lasm共掺杂ito靶材的溅镀膜ito膜作为太阳能电池硅片的减反膜,可以降低电池的内阻,从而提高太阳能电池的输出功率。



技术特征:

1.一种lasm共掺杂i to靶材的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种lasm共掺杂i to靶材的制备方法,其特征在于,步骤一中所述六水合硝酸镧、六水合硝酸钐、甘氨酸、硼酸和去离子水的用量比为34.3g:44.45g:25g:12.37g:250-300ml。

3.根据权利要求1所述的一种lasm共掺杂i to靶材的制备方法,其特征在于,步骤二中所述纳米i to粉末和纳米lasm(bo3)2粉末的用量比为113.74g:13.76-18.18g。

4.根据权利要求1所述的一种lasm共掺杂i to靶材的制备方法,其特征在于,所述纳米lasm(bo3)2粉末的颗粒直径为30-40nm。

5.根据权利要求1所述的一种lasm共掺杂i to靶材的制备方法,其特征在于,所述纳米ito粉末通过如下步骤制备:

6.根据权利要求5所述的一种lasm共掺杂i to靶材的制备方法,其特征在于,所述五水合四氯化锡、硝酸铟和去离子水的用量比为18.32g:195.44g:1000ml。

7.根据权利要求5所述的一种lasm共掺杂i to靶材的制备方法,其特征在于,所述纳米i to粉末的颗粒直径为20-30nm。

8.一种lasm共掺杂i to靶材,其特征在于,通过权利要求1-7中任意所述制备方法制得。

9.根据权利要求8所述的一种lasm共掺杂i to靶材在太阳能电池硅片溅镀减反膜的应用。


技术总结
本发明公开了一种LaSm共掺杂I TO靶材及其制备方法与应用,属于I TO靶材技术领域,将纳米I TO粉末、纳米LaSm(BO3)2粉末和乙酸溶液球磨混合成浆料,在模具中,480±5MPa和400‑420℃保温保压60‑80mi n,自然冷却,得到坯体后在氧气氛围下,1350‑1400℃烧结3‑3.5h,制备出LaSm共掺杂I TO靶材;烧结温度小于常用的1550℃,避免晶粒和密度过大,防止对溅镀后薄膜的透光率产生影响;纳米LaSm(BO3)2粉末的添加有助于增减溅镀膜的透光率;LaSm共掺杂I TO靶材的溅镀膜I TO膜作为太阳能电池硅片的减反膜,可以降低电池的内阻,从而提高太阳能电池的输出功率。

技术研发人员:唐安泰,唐智勇,程波
受保护的技术使用者:株洲火炬安泰新材料有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/15
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