本申请涉及电子领域,具体涉及一种玻璃盖板及其制备方法、玻璃蚀刻液及电子设备。
背景技术:
1、为了提高电子设备的显示屏的抗冲击能力,通常在显示屏上设置保护玻璃盖板,然而,现有的保护玻璃盖板的反射率过高,透过率较低,影响了电子设备的显示屏的显示效果。
技术实现思路
1、本申请实施例提供一种玻璃盖板,其具有较低的反射率及较高的透过率。
2、本申请第一方面实施例提供了一种玻璃盖板,所述玻璃盖板包括位于所述玻璃盖板的表面的多个玻璃凸出部,所述玻璃凸出部的宽度s的范围为20nm≤s≤80nm。
3、本申请第二方面实施例提供了一种玻璃蚀刻液,所述玻璃蚀刻液按质量分数计包括:1.3%至1.7%的铝盐、无机酸、余量为水,所述玻璃蚀刻液的ph值的范围为3至6。
4、本申请第三方面实施例提供一种玻璃盖板的制备方法,其包括:
5、提供玻璃基材;以及
6、采用玻璃蚀刻液对所述玻璃基材进行湿法刻蚀,以得到所述玻璃盖板,其中,所述玻璃盖板包括位于所述玻璃盖板的表面的多个玻璃凸出部,所述玻璃凸出部的宽度s的范围为20nm≤s≤80nm。
7、本申请第四方面实施例提供一种电子设备,其包括:
8、显示屏;
9、本申请实施例所述的玻璃盖板或本申请实施例所述的玻璃盖板的制备方法制得的玻璃盖板;以及
10、处理器,所述处理器与所述显示屏电连接,用于控制所述显示屏进行显示。
11、本申请实施例的玻璃盖板包括多个玻璃凸出部,多个玻璃凸出部的宽度的范围为20nm至80nm,从而可以降低玻璃盖板的表面对光线的反射率,增加玻璃盖板的透光率,此外,还不会增加玻璃盖板的雾度,当玻璃盖板作为电子设备的显示屏的保护盖时,使得显示屏具有更好的显示效果。
1.一种玻璃盖板,其特征在于,所述玻璃盖板包括位于所述玻璃盖板的表面的多个玻璃凸出部,所述玻璃凸出部的宽度s的范围为20nm≤s≤80nm。
2.根据权利要求1所述的玻璃盖板,其特征在于,相邻两个玻璃凸出部之间的间距d的范围为0≤d≤150nm。
3.根据权利要求1所述的玻璃盖板,其特征在于,所述玻璃凸出部的高度h的范围为10nm≤h≤18nm。
4.根据权利要求1所述的玻璃盖板,其特征在于,所述玻璃盖板具有所述多个玻璃凸出部的表面的粗糙度ra的范围为5nm≤ra≤14nm。
5.根据权利要求1所述的玻璃盖板,其特征在于,所述玻璃盖板包括铝离子、钠离子及钾离子,自所述玻璃盖板的表面指向所述玻璃盖板的中间位置的方向:所述玻璃盖板中铝离子的浓度逐渐减小,所述玻璃盖板中钠离子的浓度逐渐增加,所述玻璃盖板中钾离子的浓度逐渐增加。
6.根据权利要求5所述的玻璃盖板,其特征在于,自所述玻璃盖板的表面指向所述玻璃盖板的中间位置的方向:所述玻璃盖板中铝离子的质量分数由32%逐渐减小至27%,所述玻璃盖板中钠离子的质量分数由4.8%逐渐增加9.2%,所述玻璃盖板中钾离子的质量分数由0.02%逐渐增加1%。
7.一种玻璃蚀刻液,其特征在于,所述玻璃蚀刻液按质量分数计包括:1.3%至1.7%的铝盐、无机酸、余量为水,所述玻璃蚀刻液的ph值的范围为3至6。
8.根据权利要求7所述的玻璃蚀刻液,其特征在于,所述铝盐包括氯化铝、硝酸铝中的至少一种。
9.根据权利要求7所述的玻璃蚀刻液,其特征在于,所述玻璃蚀刻液还包括ph缓冲剂,所述ph缓冲剂的质量分数为3.99%至4.62%;所述ph缓冲剂包括醋酸钠、草酸钠、柠檬酸钠、乙二胺四乙酸二钠中的至少一种。
10.根据权利要求7所述的玻璃蚀刻液,其特征在于,所述无机酸包括磷酸、硝酸、硫酸、盐酸中的至少一种,所述玻璃蚀刻液中,所述无机酸的质量分数的范围为0.172%至0.233%。
11.根据权利要求7-10任一项所述的玻璃蚀刻液,其特征在于,所述玻璃蚀刻液按质量分数计包括:1.3%至1.7%的铝盐、3.6%至4%的醋酸钠、0.23%至0.4%的草酸钠、0.16%至0.22%的柠檬酸钠、0.076%至0.13%的磷酸、0.095%至0.18%的硝酸、余量为水。
12.一种玻璃盖板的制备方法,其特征在于,包括:
13.一种电子设备,其特征在于,包括: