反应设备的制作方法

本申请涉及抛光，尤其涉及一种反应设备。

背景技术：

1、化抛即化学抛光，利用化学试剂与玻璃进行化学反应，将玻璃均匀咬蚀到一定的深度，造成玻璃表面雾化达到一定光学效果的制程。特别地，针对玻璃产品，化学抛光利用氢氟酸溶液和氢氧化钠溶液的化学腐蚀作用，使玻璃表面达到光滑。在化抛液中还添加了一些添加剂，使盐类溶解或使盐类缓慢溶解成细微粒。

2、现有的化学蚀刻中，通常将玻璃垂直插在架子里面，整个架子放进溶液中，设定一定的温度、时间，保证溶液的药水浓度，最后达到蚀刻的效果，但是玻璃和架子接触的地方会阻碍化学反应的发生，导致这个地方比其它地方高，显现出架子印。尤其是3d产品，与其架子接触的点和面较多，产品非常的薄，化抛后不能进行机械抛光修复，显现出来的架子印无法解决。

技术实现思路

1、本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型提出一种反应设备，所述反应设备能够避免在玻璃化学抛光过程中留下架子印，节省了后续进行加工打磨的步骤，节省了成本，简化了工序，缩短了加工时长。

2、根据本实用新型的反应设备，包括：机架，机架限定出反应腔，反应腔内设置有支撑架，支撑架上设有至少一个放置部，放置部的底部具有避让口；调整机构，调整机构包括至少一个推动部，推动部用于推动产品沿第一方向移动，推动部至少具有沿第一方向排列的第一位置和第二位置，推动部在第一位置和第二位置之间移动形成的轨迹穿过避让口；驱动结构，驱动结构设于机架上，驱动结构与推动部传动连接以驱动推动部移动。

3、根据本实用新型的反应设备，推动部包括基座，基座上设有至少两根推杆，任意两个推杆的固接端之间的距离小于两个推杆的自由端之间的距离。

4、可选地，推杆的上表面设有导向斜面，在沿推杆的自靠近基座的一端至远离基座的一端的方向上，导向斜面逐渐朝向靠近机架底部的方向倾斜。

5、根据本实用新型的反应设备，驱动结构还包括驱动部以及导向连接组件，驱动部通过导向连接组件与调整机构相连。

6、可选地，导向连接组件包括限位件，限位件用于限定调整机构在第一方向上的最低位置。

7、可选地，导向连接组件包括连接件和导向杆，导向杆沿第一方向延伸，连接件连接驱动部和推动部，连接件可活动地套设于导向杆上。

8、可选地，放置部包括多个，多个放置部沿第二方向排列，任意相邻的两个放置部之间设有间隔，间隔沿第一方向贯穿支撑架，放置部包括底板以及沿第三方向相对设置于底板上的第一挡板，底板上设有避让口，沿第二方向，底板的远离推动部的一侧设有第二挡板，第一挡板和/或第二挡板上设有第一进液口，第一挡板、第二挡板以及底板共同限定出放置位，第一方向、第二方向以及第三方向两两垂直。

9、可选地，第二挡板包括第一子板和第二子板，第一子板和第二子板间隔设置以间隔出第一进液口。

10、可选地，两个第一挡板彼此靠近的一侧均设有凸筋，凸筋沿第一方向延伸。

11、可选地，调整机构还包括立柱，立柱可活动地穿设于间隔中，立柱的第一端与连接件连接，立柱的第二端与推动部连接，第二方向垂直于第一方向，连接件包括相互连接的第一连接部和第二连接部，第一连接部位于驱动部和第二连接部之间。

12、根据本实用新型的反应设备，当反应设备运行使用时，第一方向为上下方向，反应腔内用于盛放化学溶液，用于与产品发生化学反应从而对产品进行加工，驱动部驱动推动部在第一位置和第二位置之间往复移动，驱动部为推动部的移动提供动力，例如，第一位置在第二位置之上(第二位置在第一位置之上同理)，在推动部带动产品由第二位置向第一位置处移动时，产品的一端随着推动部上升，另一端在放置部上移动，在推动部带动产品由第一位置处向第二位置处移动时，推动部下降时，产品一侧受到溶液的浮力会与推动部分离，产品的另一侧会在浮力的作用下抬起，从而使得整个产品与放置部之间无接触，产品在溶液中漂浮着缓慢下降，当下降到放置部处时，推动部即上升再次把产品的一侧抬起，依次循环，从而使得在整个反应的过程中，产品与放置部无固定接触点，较长时间处于漂浮状态中，进而防止在产品上留下印迹，节省了后续进行加工打磨的步骤，节省了成本，简化了工序，缩短了加工时长。

技术特征：

1.一种反应设备，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的反应设备，其特征在于，所述推动部(21)包括基座(23)，所述基座(23)上设有至少两根推杆(211)，任意两个所述推杆(211)的固接端的距离小于两个所述推杆(211)的自由端之间的距离。

3.根据权利要求2所述的反应设备，其特征在于，所述推杆(211)的上表面设有导向斜面(212)，在沿所述推杆(211)的自靠近所述基座(23)的一端至远离所述基座(23)的一端的方向上，所述导向斜面(212)逐渐朝向靠近机架(10)底部的方向倾斜。

4.根据权利要求1所述的反应设备，其特征在于，所述驱动结构(30)还包括驱动部(33)以及导向连接组件(34)，所述驱动部(33)通过所述导向连接组件(34)与所述调整机构(20)相连。

5.根据权利要求4所述的反应设备，其特征在于，所述导向连接组件(34)包括限位件(35)，所述限位件(35)用于限定所述调整机构(20)在所述第一方向上的最低位置。

6.根据权利要求5所述的反应设备，其特征在于，所述导向连接组件(34)包括连接件(31)和导向杆(32)，所述导向杆(32)沿所述第一方向延伸，所述连接件(31)连接所述驱动部(33)和所述推动部(21)，所述连接件(31)可活动地套设于所述导向杆(32)上。

7.根据权利要求1-6任一项所述的反应设备，其特征在于，所述放置部(13)包括多个，多个所述放置部(13)沿第二方向排列，任意相邻的两个所述放置部(13)之间设有间隔，所述间隔沿所述第一方向贯穿所述支撑架(12)，所述放置部(13)包括底板(15)以及沿第三方向相对设置于所述底板(15)上的第一挡板(16)，所述底板(15)上设有所述避让口(14)，所述底板(15)的远离所述推动部(21)的一侧设有第二挡板(17)，所述第一挡板(16)和/或所述第二挡板(17)上设有第一进液口(171)，所述第一挡板(16)、所述第二挡板(17)以及所述底板(15)共同限定出放置位，所述第一方向、所述第二方向以及所述第三方向两两垂直。

8.根据权利要求7所述的反应设备，其特征在于，所述第二挡板(17)包括第一子板(172)和第二子板(173)，所述第一子板(172)和第二子板(173)间隔设置以间隔出所述第一进液口(171)。

9.根据权利要求7所述的反应设备，其特征在于，两个所述第一挡板(16)彼此靠近的一侧均设有凸筋(161)，所述凸筋(161)沿所述第一方向延伸。

10.根据权利要求7所述的反应设备，其特征在于，所述调整机构(20)还包括立柱(22)，所述立柱(22)可活动地穿设于所述间隔中，所述立柱(22)的第一端与连接件(31)连接，所述立柱(22)的第二端与所述推动部(21)连接，所述第二方向垂直于所述第一方向，所述连接件(31)包括相互连接的第一连接部(311)和第二连接部(312)，所述第一连接部(311)位于驱动部(33)和所述第二连接部(312)之间。

技术总结
本申请涉及一种反应设备，所述反应设备包括：机架，机架限定出反应腔，反应腔内设置有支撑架，支撑架上设有至少一个放置部，放置部的底部具有避让口；调整机构，调整机构包括至少一个推动部，推动部用于推动产品沿第一方向移动，推动部至少具有沿第一方向排列的第一位置和第二位置，推动部在第一位置和第二位置之间移动形成的轨迹穿过避让口；驱动结构，驱动结构设于机架上，驱动结构与推动部传动连接以驱动推动部移动。根据本技术的反应设备，能够避免在玻璃化学抛光过程中留下印迹，节省了后续加工打磨的步骤。

技术研发人员：姜富有,彭思华,左燕红
受保护的技术使用者：蓝思科技股份有限公司
技术研发日：20230504
技术公布日：2024/1/15