本发明涉及隐私镀膜玻璃,尤其涉及一种隐私镀膜玻璃及制备方法。
背景技术:
1、隐私玻璃是一种特殊玻璃,该玻璃从外面很难看到内部,而内部却可以看到外面。隐私玻璃是单向透视型,一般附有特殊涂层,在玻璃生产过程中就加入了特制的颜料,令建筑隔断、遮挡、汽车两侧玻璃等位置使用暗色玻璃,起到遮挡遮蔽作用;在提高建筑、车内隐私性的同时,更避免了阳光的照射,起到阻隔可见光和一定的隔热作用。然而,在本领域中,透过率较低、颜色深且具有较好隐私功能的隐私玻璃依然存在市场空白。
技术实现思路
1、本发明的主要目的在于提供一种颜色深、透过率低且具有较强遮蔽功能的隐私镀膜玻璃及制备方法,填补隐私镀膜玻璃市场的空白。
2、为实现上述目的,本发明提供一种隐私镀膜玻璃,所述隐私镀膜玻璃自下而上依次包括基板和镀膜层,所述镀膜层自下而上依次包括第一介质层、第一光线吸收层、第二介质过渡层、第一电介质光线干涉层、第二光线吸收层、第三介质过渡层、第二电介质光线干涉层。
3、在本发明的一些实施例中,所述第一介质层包括tiox;
4、和/或,所述第一光线吸收层包括nicrnx;
5、和/或,所述第二介质过渡层包括azox;
6、和/或,所述第一电介质光线干涉层包括sinx;
7、和/或,所述第二光线吸收层包括cr;
8、和/或,所述第三介质过渡层包括azox;
9、和/或,所述第二电介质光线干涉层包括sinx。
10、在本发明的一些实施例中,所述第一介质层的厚度为40nm~42nm;
11、和/或,所述第一光线吸收层的厚度为9.5nm~11nm;
12、和/或,所述第二介质过渡层的厚度为4nm~6nm;
13、和/或,所述第一电介质光线干涉层的厚度为85nm~90nm;
14、和/或,所述第二光线吸收层的厚度为4nm~5nm;
15、和/或,所述第三介质过渡层的厚度为4nm~6nm;
16、和/或,所述第二电介质光线干涉层的厚度为18nm~22nm。
17、在本发明的一些实施例中,所述隐私镀膜玻璃还包括顶层保护层,所述顶层保护层设于所述第二电介质光线干涉层的上表面;和/或,所述隐私镀膜玻璃还包括gese层,所述gese层设于所述基板和第一介质层之间。
18、在本发明的一些实施例中,所述隐私镀膜玻璃还包括顶层保护层,所述顶层保护层的厚度为2nm~4nm;和/或,所述隐私镀膜玻璃还包括gese层,所述gese层的厚度为2nm~4nm。
19、本发明还提供一种如上所述隐私镀膜玻璃的制备方法,包括以下步骤:
20、在玻璃基片的表面溅射第一介质层;
21、在所述第一介质层的表面溅射第一光线吸收层;
22、在所述第一光线吸收层的表面溅射第二介质过渡层;
23、在所述第二介质过渡层的表面溅射第一电介质光线干涉层;
24、在所述第一电介质光线干涉层的表面溅射第二光线吸收层;
25、在所述第二光线吸收层的表面溅射第三介质过渡层;
26、在所述第三介质过渡层的表面溅射第二电介质光线干涉层。
27、在本发明的一些实施例中,在制备所述第一介质层的步骤中,以金属钛作为靶材;
28、在制备所述第一光线吸收层的步骤中,以镍铬作为靶材;
29、在制备所述第二介质过渡层的步骤中,以陶瓷氧化锌作为靶材;
30、在制备所述第一电介质光线干涉层的步骤中,以硅铝作为靶材;
31、在制备所述第二光线吸收层的步骤中,以cr为靶材;
32、在制备所述第三介质过渡层的步骤中,以陶瓷氧化锌作为靶材;
33、在制备所述第二电介质光线干涉层的步骤中,以硅铝作为靶材。
34、在本发明的一些实施例中,在氧气条件下制备所述第一介质层;
35、和/或,在氮气和氩气的条件下制备所述第一光线吸收层;
36、和/或,在氩气和氧气的条件下制备所述第二介质过渡层;
37、和/或,在氮气和氩气的条件下制备第一电介质光线干涉层;
38、和/或,在氩气和氧气的条件下制备第二光线吸收层;
39、和/或,在氩气和氧气的条件下制备第三介质过渡层;
40、和/或,在氮气和氩气的条件下制备第二电介质光线干涉层。
41、在本发明的一些实施例中,还在所述第二电介质光线干涉层的表面溅射顶层保护层;和/或,在所述玻璃基片的表面制备gese层,再在所述gese层的表面溅射所述第一介质层。
42、在本发明的一些实施例中,在所述第二电介质光线干涉层的表面溅射顶层保护层,在制备所述顶层保护层的步骤中,以金属锆作为靶材。
43、本发明所能实现的有益效果:
44、本发明使用常规的镀膜材料,通过改变膜层材料与膜层结构组合、利用多层膜层对光线的干涉、吸收特性,开发出了一款深色、透过率低且具有隐私功能的镀膜玻璃,可以满足城市建筑隐私功能以及美观要求,能够填补市场空白。
1.一种隐私镀膜玻璃,其特征在于,所述隐私镀膜玻璃自下而上依次包括基板和镀膜层,所述镀膜层自下而上依次包括第一介质层、第一光线吸收层、第二介质过渡层、第一电介质光线干涉层、第二光线吸收层、第三介质过渡层、第二电介质光线干涉层。
2.根据权利要求1所述的隐私镀膜玻璃,其特征在于,
3.根据权利要求1所述的隐私镀膜玻璃,其特征在于,
4.根据权利要求1所述的隐私镀膜玻璃,其特征在于,所述隐私镀膜玻璃还包括顶层保护层,所述顶层保护层设于所述第二电介质光线干涉层的上表面;和/或,所述隐私镀膜玻璃还包括gese层,所述gese层设于所述基板和第一介质层之间。
5.根据权利要求4所述的隐私镀膜玻璃,其特征在于,所述隐私镀膜玻璃还包括顶层保护层,所述顶层保护层的厚度为2nm~4nm;
6.一种权利要求1至5任意一项所述隐私镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
7.根据权利要求6所述隐私镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,在制备所述第一介质层的步骤中,以金属钛作为靶材;
8.根据权利要求6所述隐私镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,在氧气条件下制备所述第一介质层;
9.根据权利要求6至8任一所述隐私镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,还在所述第二电介质光线干涉层的表面溅射顶层保护层;和/或,在所述玻璃基片的表面制备gese层,再在所述gese层的表面溅射所述第一介质层。
10.根据权利要求9所述隐私镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,在所述第二电介质光线干涉层的表面溅射顶层保护层,在制备所述顶层保护层的步骤中,以金属锆作为靶材。