膜层结构及低辐射镀膜玻璃的制作方法

本发明涉及玻璃生产，特别涉及一种膜层结构及低辐射镀膜玻璃。

背景技术：

1、低辐射镀膜玻璃(low-e玻璃)是一种在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系产品，低辐射镀膜玻璃具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性，因此具有优异的隔热效果、遮阳性能和良好的透光性，既能满足室内采光的要求，又能阻隔太阳辐射进入室内，减少室内空调的荷载。

2、低辐射镀膜玻璃表面的膜层常以金属银作为红外反射材料，不仅成本高，且银层的寿命较短，从而降低了玻璃的光学性能。

技术实现思路

1、本发明的主要目的是提出一种膜层结构及低辐射镀膜玻璃，旨在提高低辐射镀膜玻璃膜层的使用寿命。

2、为实现上述目的，本发明提出的膜层结构包括沿厚度方向依次设置的第一电介质层、功能层以及第二电介质层，功能层为铝层或铜层。

3、在一实施方式中，功能层为铝层时，功能层的厚度为3nm-9nm；和/或，功能层为铜层时，功能层的厚度为15nm-21nm。

4、在一实施方式中，第一电介质层选自氧化钛层、氮化硅层、氧化铝层、氧化锌层中的一种，和/或，第二电介质层选自氧化钛层、氮化硅层、氧化铝层、氧化锌层中的一种。

5、在一实施方式中，第二电介质层作为膜层结构的最内层，第二电介质层为氧化钛层或氮化硅层。

6、在一实施方式中，第二电介质层的厚度为20nm-40nm。

7、在一实施方式中，第一电介质层作为膜层结构的最外层，第一电介质层的厚度为13nm-33nm。

8、在一实施方式中，功能层的外侧还设有保护层，在功能层为铝层的条件下，保护层为氧化铝保护层；在功能层为铜层的条件下，保护层为氮化硅保护层。

9、在一实施方式中，氧化铝保护层的厚度为4nm-12nm；和/或，所述氮化硅保护层的厚度为6nm-15nm。

10、本发明还提出一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃本体以及本发明的膜层结构，膜层结构设置在玻璃本体的一侧。

11、在一实施方式中，膜层结构至少设有一组。

12、本发明采用铝层或铜层作为膜层结构的功能层，不仅能满足所需的透射率、反射率和吸收率要求，而且性能稳定，不易与环境中的硫发生反应而影响其光学性能，从而延长了膜层的使用寿命。此外，铜和铝相较于现有的银价格低，可以降低制造成本。

技术特征：

1.一种膜层结构，其特征在于，包括沿厚度方向依次设置的第一电介质层、功能层以及第二电介质层，所述功能层为铝层或铜层。

2.如权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述功能层为铝层时，所述功能层的厚度为3nm-9nm；

3.如权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述第一电介质层选自氧化钛层、氮化硅层、氧化铝层、氧化锌层中的一种；

4.如权利要求3所述的膜层结构，其特征在于，所述第二电介质层作为膜层结构的最内层，所述第二电介质层为氧化钛层或氮化硅层。

5.如权利要求4所述的膜层结构，其特征在于，所述第二电介质层的厚度为20nm-40nm。

6.如权利要求3所述的膜层结构，其特征在于，所述第一电介质层作为膜层结构的最外层，所述第一电介质层的厚度为13nm-33nm。

7.如权利要求1至6任一项所述的膜层结构，其特征在于，所述功能层的外侧还设有保护层；

8.如权利要求7所述的膜层结构，其特征在于，所述氧化铝保护层的厚度为4nm-12nm；和/或，所述氮化硅保护层的厚度为6nm-15nm。

9.一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃本体以及权利要求1至8任一项所述的膜层结构，所述膜层结构设置在玻璃本体的一侧。

10.如权利要求9所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述膜层结构至少设有一组。

技术总结
本发明公开了一种膜层结构及低辐射镀膜玻璃，属于玻璃技术领域，其中，膜层结构包括沿厚度方向依次设置的第一电介质层、功能层以及第二电介质层，功能层为铝层或铜层。本发明采用铝层或铜作层为膜层结构的功能层，不仅能满足所需的透射率、反射率和吸收率要求，而且性能稳定，不易与环境中的硫发生反应而影响其光学性能，从而延长了膜层的使用寿命。此外，铜和铝相较于现有的银价格低，可以降低制造成本。

技术研发人员：欧阳斌,李文君,潘杰
受保护的技术使用者：湖南旗滨节能玻璃有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/11/7