一种等静压石墨高压浸渍用支架的制作方法

本技术涉及石墨高压浸渍支架，具体为一种等静压石墨高压浸渍用支架。

背景技术：

1、等静压石墨是国际上近50年来发展起来的新产品，与当今高科技紧密相联。石墨介绍不仅在民用上大有作为，在国防尖端上占有重要地位，属新型材料，令人瞩目。它是制造单晶炉、金属连铸石墨结晶器、电火花加工用石墨电极等不可替代的材料，更是制造火箭喷嘴、石墨反应堆的减速材料和反射材料的绝好材料。浸渍石墨又称浸塑石墨或浸渍不透性石墨。不透性石墨的一类。

2、目前公告号为cn202021749437.2的中国专利公开了一种普通石墨浸渍装置，本实用新型易于操作，能够满足石墨浸渍加工的需要，在石墨制品加工过程中能够有效地提高加工效率和质量，通过真空泵和加热棒为石墨浸渍提供高效的反应环境，有效提高浸渍剂与石墨制品的反应效率。

3、现有的等静压石墨在处理时，需要浸渍至浸渍罐中提升石墨的性能，而上述对比文件中有效提高浸渍剂与石墨制品的反应效率，但是上述装置不具备高压能力，不能很好的对等静压石墨制品进行处理，影响石墨后续使用的性能，并且上述装置不能很好的对浸渍支架进行调节使用，影响等静压石墨浸渍的方便性，降低装置的实用性，因此我们需要提供一种等静压石墨高压浸渍用支架。

技术实现思路

1、本实用新型提供了一种等静压石墨高压浸渍用支架，具有能够提高等静压石墨浸渍处理效果以及能够便于对等静压石墨浸渍支架进行调节使用的优点，从而解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：

3、一种等静压石墨高压浸渍用支架，包括：石墨浸渍机构，所述石墨浸渍机构包括固定底座，所述固定底座的一侧安装有操控面板，所述固定底座的顶部固定连接有支撑柱，且支撑柱的数量为四个，所述支撑柱顶部固定安装有浸渍筒，所述浸渍筒的表面安装有封闭调节组件，所述封闭调节组件的表面安装有浸渍支架组件，所述浸渍筒的表面安装有浸渍调节组件。

4、作为本实用新型公开的一个优选实施例，所述封闭调节组件包括条形座、电控升降杆、升降控制器、连接板和封闭筒盖，所述条形座固定安装于浸渍筒的表面，且条形座的数量为四个，所述电控升降杆固定安装于条形座中，所述升降控制器安装于条形座的表面，所述连接板固定连接于电控升降杆的输出端，所述封闭筒盖固定安装于连接板上，且封闭筒盖与浸渍筒配对使用。

5、作为本实用新型公开的一个优选实施例，所述浸渍支架组件包括转动电机、转动控制器、转动杆和安放支架构件，所述转动电机固定安装于封闭筒盖中，所述转动控制器安装于转动电机上，所述转动杆固定连接于转动电机的输出端，所述安放支架构件安装于转动杆的底端。

6、作为本实用新型公开的一个优选实施例，所述浸渍调节组件包括加热器、加热控制器、加压器、调压控制器、泄压管和电控泄压阀，所述加热器固定安装于浸渍筒的底部，所述加热器安装于加热器上，所述加压器固定安装于浸渍筒的一侧，所述调压控制器安装于加压器上，所述泄压管连通于浸渍筒的另一侧，所述电控泄压阀安装于泄压管上。

7、作为本实用新型公开的一个优选实施例，所述安放支架构件包括固定盘、安放筒、转动环、转调盘、安放盖、透液孔和透液槽，所述固定盘固定安装于转动杆的底端，所述安放筒固定安装于固定盘上，且安放筒的数量为多个，所述转动环滑动安装于转动杆上，所述转调盘固定安装于转动环上，且转调盘的直径小于固定盘的直径，所述安放盖固定安装于转调盘的底部，且安放盖与安放筒配对使用，所述透液孔开设于安放筒的表面，所述透液槽开设于固定盘的底部。

8、作为本实用新型公开的一个优选实施例，所述封闭筒盖的顶部固定安装有散热网，且散热网与转动电机配合使用。

9、作为本实用新型公开的一个优选实施例，所述透液孔的数量为多个，且多个透液孔呈等距分布。

10、本实用新型提供的等静压石墨高压浸渍用支架。具备以下有益效果：

11、该等静压石墨高压浸渍用支架，通过石墨浸渍机构、固定底座、操控面板、支撑柱、浸渍筒、封闭调节组件、浸渍支架组件和浸渍调节组件的设置，能够对等静压石墨进行浸渍处理，有利于对等静压石墨进行高压、高温浸渍操作，提升石墨浸渍处理的效果，提供石墨后续使用的性能，同时还能够对浸渍支架进行调节操作，有利于对石墨进行取放浸渍，为工作提供便利，提升装置的实用性。

技术特征：

1.一种等静压石墨高压浸渍用支架，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的等静压石墨高压浸渍用支架，其特征在于：

3.根据权利要求1所述的等静压石墨高压浸渍用支架，其特征在于：

4.根据权利要求1所述的等静压石墨高压浸渍用支架，其特征在于：

5.根据权利要求3所述的等静压石墨高压浸渍用支架，其特征在于：

6.根据权利要求2所述的等静压石墨高压浸渍用支架，其特征在于：所述封闭筒盖（10505）的顶部固定安装有散热网（108），且散热网（108）与转动电机（10601）配合使用。

7.根据权利要求5所述的等静压石墨高压浸渍用支架，其特征在于：所述透液孔（16）的数量为多个，且多个透液孔（16）呈等距分布。

技术总结
本技术公开了一种等静压石墨高压浸渍用支架，涉及石墨高压浸渍支架。包括石墨浸渍机构，所述石墨浸渍机构包括固定底座，所述固定底座的一侧安装有操控面板，所述固定底座的顶部固定连接有支撑柱，且支撑柱的数量为四个，所述支撑柱顶部固定安装有浸渍筒，所述浸渍筒的表面安装有封闭调节组件，所述封闭调节组件的表面安装有浸渍支架组件，所述浸渍筒的表面安装有浸渍调节组件；本技术能够对等静压石墨进行浸渍处理，有利于对等静压石墨进行高压、高温浸渍操作，提升石墨浸渍处理的效果，提供石墨后续使用的性能，同时还能够对浸渍支架进行调节操作，有利于对石墨进行取放浸渍，为工作提供便利，提升装置的实用性。

技术研发人员：祁琪,杨清海,丁柏康
受保护的技术使用者：四川宏瑞得新材料科技有限公司
技术研发日：20240326
技术公布日：2024/11/7