一种耐磨釉料及使用其制备抛釉砖的方法
【专利摘要】本发明提供一种耐磨釉料及使用其制备抛釉砖的方法。上述耐磨釉料原料按质量百分比包括如下组分：10～20％熔块、10～20％钾长石、15～40％锂辉石、5～20％烧滑石、8～15％碳酸钡、10～20％硅灰石、5～10％高岭土、0.5～5％白刚玉、5～10％氧化锌。将这种耐磨釉料布施在坯体表面，入窑炉烧成后，进行抛磨加工获得抛釉砖产品。和现有技术相比，本发明提供的耐磨釉料具有特别好的耐磨性能，而且其可以制备薄釉层的陶瓷砖产品，在产品的装饰性能、耐污性能都有较大提升，并且制造成本更低。
【专利说明】
一种耐磨釉料及使用其制备抛釉砖的方法
技术领域
[0001] 本发明涉及建筑陶瓷技术领域，尤其涉及一种耐磨釉料及使用其制备抛釉砖的方 法。
【背景技术】
[0002] 抛釉砖是一种高档的建筑装饰材料，其是指在砖坯表面具有釉层，通过抛光将之 成为具有光泽或哑光效果的产品，其中有些制品使用的是透明釉，在釉层下具有纹理，纹理 可以通过公知的各种装饰手段实现，例如布料形成的纹理，印花形成的纹理等。
[0003] 但因为目前釉料耐磨性是困恼业界的一个较大难题。在做为地面装饰材料时，对 釉料的耐磨性能具有较大的要求，否则很容易磨花，这点虽然较现有的微晶玻璃复合板有 较大改善，但现有釉料的耐磨性能还不能满足需求。
[0004] 对此，一些企业在用加厚釉层的方式解决此问题，但随着釉层加厚，对于砖坯表面 具有印花层的产品会有一定影响，同时随着釉层加厚，也增加制造成本，并且因为其需要抛 磨，厚釉层中会封闭一些气泡，这些气泡在抛磨过程会呈现出来，对最后制品的外观效果和 防污性能造成影响，而且这种加厚釉层的方式也仅能缓解釉料耐磨性能差的问题。
【发明内容】
[0005] 针对【背景技术】提出的问题，本发明提供一种耐磨釉料，通过在釉料中使用白刚玉 来提高其耐磨性能，同时使用大量的锂辉石做为熔剂，来提高釉料的铺展性能，进而使得釉 面更为平整，同时溶剂中使用氧化锌来提高釉料烧后的透明度，而且通过白刚玉和氧化锌 的混合使用，解决了釉层透明度和耐磨性能的矛盾。
[0006] 进一步，这种耐磨釉料，其原料按质量百分比包括如下组分：10~20%熔块、10~ 20 %钾长石、15~40 %锂辉石、5~20 %烧滑石、8~15 %碳酸钡、10~20 %娃灰石、5~10 % 高岭土、0.5~5%白刚玉、5~10%氧化锌。
[0007] 其中熔块可以采用公知的陶瓷熔块，其主要为熔剂作用。当然，优选为具有改良功 能的功能性熔块，例如:为提升其耐磨性能，可以使用高铝质的耐磨熔块，更为优选熔块的 原料按照质量百分比包括如下组分：20~30%钾长石、3~6%硅灰石、4~8%生滑石、5~ 8%碳酸钡、15~20%方解石、18~22%石英、10-14%氧化铝、2~4%氧化锌、1~3%碳酸 钾、1~2%碳酸锶。
[0008] 熔块作为一种助熔剂，也需要其具有较高的耐磨性能，因此在此组分中使用较大 量的氧化铝，而且使用稀土碳酸盐和氧化锌作为熔剂，使熔块具有较高的透明度和耐磨性 能，而且碳酸盐的使用，在熔块熔融过程中会充分排气，无封闭气泡在熔块中，这进一步使 得后续透明釉层中无针孔等因排气问题的缺陷。
[0009] 在本发明中提供的透明釉中，在其熔块中使用碳酸锶，加入量为1~2%，在不增加 釉层的孔隙度的同时，可有效提高透明釉的耐磨性，进一步改善透明釉的韧度和硬度，并且 还改善了高温面釉的熔融性能，获得良好的透明性和光泽度。
[0010]为了使上述熔块具有更好的使用效果，其在制备时的熔制温度为1450~1550°C。 熔制温度过低，会使其熔融不充分，熔制温度过高，会浪费能源。
[0011]当然，在上述耐磨釉中还可以含有少量的锆，将锆以换算成氧化锆的质量百分比， 氧化锆在釉料中质量百分数需小于0.2%。少量的锆可以提高釉层的耐磨性能，同时也不至 于影响釉层的效果，尤其是对于需要显示釉层下装饰纹理的透明釉，这点尤为重要。
[0012] 本发明还提供一种使用上述釉料制备抛釉砖的方法，将上述釉料布施在坯体表 面，入窑炉烧成后，进行抛磨加工获得抛釉砖产品。
[0013] 优选地，在以上方法中，在布施釉料前可以对坯体进行装饰，所述装饰可以为印 花、布施装饰性釉料、布施干粒熔块中的任意一种或组合。
[0014] 优选地，在以上方法中，印花为喷墨印花。
[0015]优选地，在以上方法中，在布施釉料前，可对坯体进行抛磨处理。
[0016] 优选地，在以上方法中，抛磨加工后的抛釉砖制品的釉层厚度<0.5mm。较薄的釉 层，可以使得坯体上的装饰效果得以较好呈现，而且通过抛磨获得的较薄的釉层，可以避免 其中的气泡、针孔缺陷，具有较好的防污性能。
[0017] 优选地，在以上方法中，抛磨加工所使用的磨块硬度高于刚玉。
[0018] 和现有技术相比，本发明提供的耐磨釉料具有特别好的耐磨性能，而且其可以制 备薄釉层的陶瓷砖产品，在产品的装饰性能、耐污性能都有较大提升，并且制造成本更低。
【具体实施方式】
[0019] 下面通过一些具体的实施方式来对本发明进行说明，需要说明以下实施方式仅为 示例性的，而且多为优选实施例。
[0020] 实施例1-5
[0021] 参照下表1，下表1为本实施例1-5所提供耐磨釉料的配方表(wt%)
[0022] 表 1
[0025]将以上釉料进行球磨，布施在常规陶瓷砖砖坯表面，所使用的陶瓷砖砖坯为公知 的砖坯，釉料球磨形成釉浆，采用淋釉的方式在砖坯表面形成1mm左右的釉料层，然后入窑 烧成，烧成温度1200_1250°C，烧成周期为2.5小时。这里需要说明，以上除了釉料组分外，其 它工艺流程均为建筑陶瓷生产公知的方式即可，在不同的生产线可以进行适当调整。这里 所使用的熔块为公知的普通陶瓷生产透明中温熔块，其适用的烧成温度为1150-1250°C，当 然在不同的工艺需求时可对其进行调整。
[0026]烧成后对制品进行抛磨加工，获得抛釉砖产品，测试其性能。
[0027] 使用GB/T4100-2006中的测试方法对制品釉面的耐磨性能进行测试，测试结果显 示，耐磨性能达到标准中4级要求，而在陶瓷砖制品中以耐磨性能的著称的抛光砖基本持 平，可以适用于行人来往频繁的地面装饰使用。
[0028] 为说明本发明方案的优点，通过两个对比实施例进行说明。
[0029] 对比实施1
[0030] 选择实施例1进行比较。
[0031] 在本对比实施例中，釉料配方组分中将锂辉石替换为常规的熔剂材料钠长石，同 时将白刚玉去掉，将硅灰石的比例调高为15(wt%)。
[0032] 测试结果表明，其釉层的耐磨性能仅能达到标准中的3级。
[0033] 对比实施例2
[0034]选择实施例3进行比较
[0035] 在本实施例中，将锂辉石替换为钠长石，结果表明制品釉层的耐磨性能有较大提 升，但釉层的质量较差，有较多针孔缺陷，不耐污，而且平整度较差。
[0036] 实施例6-8
[0037] 在本系类实施例中，其余组分与实施例4一致，所不同的是使用的熔块为如下组分 的原料经1450-1550 °C熔融后制得。配方组分为:20~30%钾长石、3~6%硅灰石、4~8%生 滑石、5~8%碳酸钡、15~20%方解石、18~22%石英、10-14%氧化铝、2~4%氧化锌、1~ 3 %碳酸钾、1~2 %碳酸锶。具体地：
[0038] 实施例6-8熔块组分如下表2(wt%)
[0039]表 2
[0041] 测试其耐磨性能，达到5级，而且釉面更为平整，可以抛磨至釉层厚度为0.3mm甚至 以下。这是因为熔块作为一种助熔剂，也需要其具有较高的耐磨性能，因此在此组分中使用 较大量的氧化铝，而且使用稀土碳酸盐和氧化锌作为熔剂，使熔块具有较高的透明度和耐 磨性能，而且碳酸盐的使用，在熔块熔融过程中会充分排气，无封闭气泡在熔块中，这进一 步使得后续透明釉层中无针孔等因排气问题的缺陷。
[0042] 在系列实施例提供的耐磨釉中，在其熔块中使用碳酸锶，加入量为1~2%，在不增 加釉层的孔隙度的同时，可有效提高透明釉的耐磨性，进一步改善透明釉的韧度和硬度，并 且还改善了高温面釉的熔融性能，获得良好的透明性和光泽度。
[0043] 实施例9
[0044] 在本实施例提供的釉料组分与实施例5基本一致，所不同的是，在本实施例中含有 质量百分数为〇. 2 %的氧化锆，其耐磨性能较实施例5有所提升，提升至耐磨转数为12000转 (实施例5为4000转）。
[0045] 实施例10
[0046] 在本实施例中，提供一种使用实施例8提供的耐磨釉料制备抛釉砖的方法，其包括 如下步骤：
[0047] (1)采用公知坯体原材料，进行混合球磨、喷雾造粒，并压制成型；
[0048] (2)干燥生坯，进行抛坯，并施底釉，再淋化妆面釉；
[0049] (3)采用丝网印花进行印花装饰；
[0050] (4)将步骤(3)的砖坯淋上述耐磨釉料，淋釉量为360g(制备的为800X800mm的砖）； [0051] (5)将淋釉后的砖坯采用油性渗花墨水喷墨进行渗花装饰，高温烧成；
[0052] (6)将烧成后的砖坯采用金刚模块进行平整抛光;烧成温度为1180°C，烧成周期为 2.5小时；
[0053] (7)粗、精抛光，精磨边，获得渗花效果的抛釉砖产品。
[0054]在本发明的一个实施例中，所使用的砖坯本身具有纹理，对其进行抛磨后，使其布 料形成的纹理进一步凸显，然后布施本发明实施例6制备的耐磨釉料，然后入窑烧成，经抛 磨加工后，获得抛釉砖产品，其通过砖坯内的纹理进行装饰，获得类似石材的效果，而且因 为表面覆盖一层釉层，光泽感和装饰效果更好。
[0055] 当然，这里装饰方式可以选择为布施装饰性釉料（例如具有金属光泽的釉料制 品），或对其进行布施干粒、印花等方式进行装饰。
[0056] 以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。这些描述只是为了解释本发明的 原理，而不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术 人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它【具体实施方式】，这些方式都将落入 本发明的保护范围之内。
【主权项】
1. 一种耐磨釉料，其原料按质量百分比包括如下组分：1〇~20%熔块、10~20%钾长 石、15~40%锂辉石、5~20%烧滑石、8~15%碳酸钡、10~20%硅灰石、5~10%高岭土、 0.5~5%白刚玉、5~10%氧化锌。2. 根据权利要求1所述的一种耐磨釉料，其特征在于，所述熔块为高铝质耐磨熔块。3. 根据权利要求2所述的一种耐磨釉料，其特征在于，所述高铝质耐磨熔块的原料按照 质量百分比包括如下组分:20~30%钾长石、3~6%硅灰石、4~8%生滑石、5~8%碳酸钡、 15~20%方解石、18~22%石英、10-14%氧化铝、2~4%氧化锌、1~3%碳酸钾、1~2%碳 酸锶。4. 根据权利要求3所述的一种耐磨釉料，其特征在于，所述高铝质耐磨熔块的熔制温度 为 1450 ~155(TC。5. -种使用上述权利要求1-4中任意一项所述耐磨釉料制备抛釉砖的方法，将上述耐 磨釉料布施在坯体表面，入窑炉烧成后，进行抛磨加工获得抛釉砖产品。6. 如权利要求5所述的制备抛釉砖的方法，其特征在于，在所述布施耐磨釉料前还包括 对坯体进行抛磨处理的步骤。7. 如权利要求5所述的制备抛釉砖的方法，其特征在于，在所述布施耐磨釉料前还包括 对坯体进行装饰的步骤，所述装饰为印花、布施装饰性釉料、布施干粒熔块中的任意一种或 组合。8. 如权利要求7所述的制备抛釉砖的方法，其特征在于，所述印花为喷墨印花。9. 如权利要求7所述的制备抛釉砖的方法，其特征在于，在所述对坯体进行装饰前还包 括对坯体进行抛磨处理的步骤。10. 如权利要求5所述的制备抛釉砖的方法，其特征在于，所述抛磨加工后的抛釉砖制 品的釉层厚度< 〇. 5mm。
【文档编号】C03C8/04GK105948820SQ201610281838
【公开日】2016年9月21日
【申请日】2016年4月29日
【发明人】金国庭, 罗宏, 程志坚, 周燕, 王华明, 麦炳浩, 李清莲, 黄焱墉
【申请人】佛山市东鹏陶瓷有限公司, 丰城市东鹏陶瓷有限公司, 佛山华盛昌陶瓷有限公司, 广东东鹏控股股份有限公司