一种超平釉面砖的制作方法
【专利摘要】本发明提供了一种超平釉面砖，包括坯体和釉层；所述釉层与所述坯体的上表面贴合；所述釉层包括底釉和面釉；所述面釉位于所述底釉上；所述底釉的厚度为0.1?0.8mm；所述面釉的厚度为0.5?1.0mm。其中，所述底釉和所述面釉均由特定的成分组成。该超平釉面砖莫氏硬度高、抗折强度大、吸水率低。
【专利说明】
一种超平釉面砖
技术领域
[0001] 本发明涉及瓷砖技术领域，具体涉及一种超平釉面砖。
【背景技术】
[0002] 釉是覆盖在陶瓷制品表面的无色或有色的玻璃质薄层，是用矿物原料（长石、石 英、滑石、高岭土等)和化工原料按一定比例配合(部分原料可先制成熔块)经过研磨制成釉 浆，施于坯体表面，经一定温度煅烧而成。釉经过窑火焙烧后，就紧紧附着在瓷胎上，使瓷器 致密化、光泽柔和，又不透水和气，给人明亮如镜的感觉。同时可以提高制品的强度和化学 稳定性，起到防止污染，便于清洗，减小腐蚀等作用。
[0003] 釉面砖是指砖体表面经过烧釉处理的砖。釉面砖的色彩和图案比较丰富，防污能 力强，因此受到广大消费者的欢迎。而超平釉面砖是釉面砖的一种，它是一款极具天然石材 效果和微晶石质感的仿石材瓷砖，在陶瓷市场上又称为全平釉砖、超晶石、高晶石等。超平 釉面砖最突出的特点是采用了硬抛技术，制造出顺滑平整的砖面，弥补了普通全抛釉产品 带有水波纹、平整度不高的缺陷。虽然超平釉面砖品质比全抛釉面砖的品质好，但是仍然存 在通透感和立体感较差、发色不好、气泡多、光泽度欠佳的现象，这些不足满足不了消费者 的需求。
【发明内容】
[0004] 本发明为了避免现有技术的不足之处而提供了一种超平釉面砖，该超平釉面砖光 泽明亮、花色纹理立体丰满、色彩过渡自然逼真、莫氏硬度高、耐磨、抗震抗龟裂能力强，且 带有玉石的温润质感。
[0005] 根据本发明所提供的一种超平釉面砖，包括坯体和釉层;所述釉层与所述坯体的 上表面贴合;所述釉层包括底釉和面釉;所述面釉位于所述底釉上;所述底釉的厚度为0. ΙΟ.8mm; 所述面釉的厚度为0.5-1.0mm。
[0006] 优选地，所述底釉包括按重量份以下成分： Al2O3 20-33 份； SiO2 50-65 份； CaO 1-5 份，
[0007] Μσ〇 1-4 份： ZnO 2-6 崎 K2Q 2-4 份： Na>0 .4-.8·份； ZrOi 10-18 份=
[0008] 更优选地，所述底釉包括按重量份以下成分： Al2O3 15-25 份； SiO2 55-60 份； CaO 2-4 份；
[0009] 2-3 份； ZnO 3-5 份； K2Q 3-4 份： Na2O 5-7 份； ZrOi 13-17 份。
[0010]优选地，所述面釉由按重量百分比以下成分组成：厚抛釉粉65-70%、羧甲基纤维 素钠0.1-0.3%、三聚磷酸钠0.1-0.5%和水25-35% ;上述成分的重量百分比之和为100%。
[0011] 优选地，所述面釉由按重量百分比以下成分组成：厚抛釉粉68.61%、羧甲基纤维 素钠0.15 %、三聚磷酸钠0.26 %和水30.98 %。
[0012] 优选地，所述厚抛釉粉包括熔块和生料;所述熔块和所述生料的质量百分比为(5-20)：100〇
[0013] 优选地，所述熔块包括按重量份计以下成分： AI 介 15-20 份； SiO; 50-60 份； CaO 10-15 份；
[0014] E2O 2-5 份； MgO 5-10 份:;： B2Cb 4-8 份。
[0015] 更优选地，所述熔块包括按重量份计以下成分： Al2O; 17-19 份; SK); 55-59 份； CaO 1 卜 13 份；
[0016] K2O 3-5 份； MgO 6-9 份； B办 5-7 份。
[0017]优选地，所述生料包括按重量份计以下成分： Al办 6-12 份； SiO2 48-60 份； K2O 3-8 份；
[0018] Na：0 1-5 #; ZnO 4-8 #; BaD 5-10 份、 MgO 4-8 份； CaO 6-Π 份。
[0019]更优选地，所述生料包括按重量份计以下成分： Al办 7-10 份； SiO2 50-60 份； K2O 5-8 份；
[0020] Na5D 3-5 份； ZnO 5-7 乂分， BaO 6-9 份、 MgO 5-7 儉； LdO 7-10 份。
[0021] 本发明所提供的技术方案可以包括以下有益效果：
[0022] ⑴本发明所提供的超平釉面砖，釉层包括底釉和面釉，面釉可以对底釉上的图案 进行保护。而底釉的厚度为〇. 1-0.8mm，面釉的厚度为0.5-1 .Omm。这种超平釉面砖抛光后， 釉层厚度较大，远远高于普通全抛釉砖的釉层，使得成品立体感强。且厚的釉层有利于抛光 工序的进行，使得抛光后产品的优等率更高。
[0023] (2)本发明所提供的超平釉面砖，其底釉和面釉中Al2O3成分含量比普通全抛釉面 砖中的Al 2O3成分高，而Al2O3有利提高釉层的莫氏硬度，所以该超平釉面砖的莫氏硬度较 高，耐磨。
[0024] (3)本发明所提供的超平釉面砖，底釉含有ZrO2，ZrO2能提高底釉的白度，使喷墨印 花时图案颜色不会受底釉发色影响。并且，ZrO2使底釉的温度提高，从而使喷墨印花在高温 烧成时发色受温度影响较小。本发明各组分的配比稳定且灵活，可以根据生产工艺和窑炉 烧成的条件在该各组分的范围内进行调整，灵活性强，可操作性优。
[0025] (4)本发明所提供的超平釉面砖，面釉包括的厚抛釉粉由熔块和生料组成，而生料 和熔块的配比可以根据不同窑炉的烧成范围进行调节，以减少成品中气泡的量。窑炉温度 较高时，可以增加生料添加量，减少熔块添加量;而窑炉温度较低时，可以增加熔块添加量， 减少生料添加量。即面釉的配方适用范围大，适合工业生产。且熔块的高温流动性好，使釉 面在高温下快速地流平，熔融性能良好。
[0026] (5)本发明所提供的超平釉面砖，光泽明亮，光泽度可达100-110度，高于普通全抛 釉面砖的95-100度;花色纹理立体丰满、色彩过渡自然逼真、莫氏硬度高、耐磨、抗震抗龟裂 能力强，且带有玉石的温润质感。
【具体实施方式】
[0027] 下面，结合【具体实施方式】，对本发明做进一步描述：
[0028] -种超平釉面砖，包括坯体和釉层;所述釉层与所述坯体的上表面贴合;所述釉层 包括底釉和面釉;所述面釉位于所述底釉上;所述底釉的厚度为0.1-0.8mm;所述面釉的厚 度为 0.5_1.5mm。
[0029] 其中，所述底釉包括按重量份以下成分： Al2O; 20-33 份； SiO2 50-6i5 份； UO 卜5 份，
[0030] MgO 1-4 份; ZiiO 2-6 份； K2O 2-4 份； Na2G 4-8 儉; ZrO2 12-18 份。：
[0031] 所述面釉由按重量百分比以下成分组成:厚抛釉粉65-70%、羧甲基纤维素钠0. Ιο. 3% 、三聚 磷酸钠0.1-0.5%和水 25-35% ; 上述成分 的重量百分比之和为100% 。且所述厚 抛釉粉包括熔块和生料;所述熔块和所述生料的质量百分比为(5-20): 100。
[0032] 所述熔块包括按重量份计以下成分： A1?0 15-20 份； SiO2 5 0-6 U 份； CaO 10-15 份；
[0033] I2O 2-5 份； MgO 5-10 份； B2O 4-8 份。
[0034] 所述生料包括按重量份计以下成分： AUh 6-12 份； SiO2 48-60 份； K2Q 3-8 份；
[0035] Na2O 卜5 份； ZnO 4-8 份； BaO 5-10 份、 MgO 4-8 份； CaO 6-12:份。
[0036]根据上述配方，获取了实施例1-5的超平釉面砖;对相关成分进行修改，获取了对 比例1-2的超平釉面砖。实施例1-5和对比例1-2中所用底釉的具体成分见表1;实施例1-5和 对比例1-2中所用面釉中的厚抛釉粉的具体成分见表2。
[0037] 表1实施例1-5和对比例1-2超平釉面砖底釉的成分表
[0041 ] 实施例1
[0042]根据下述制备方法获取超平釉面砖：
[0043] 1)坯体成型，把坯体在105°C的条件下干燥90min，得到干燥坯体；
[0044] 2)向干燥坯体的表面施加底釉，得到第一坯砖；底釉流速为4.77g/s，比重为 1.89g/ml，底釉施加量为590g/m 2细度为经325目筛后干料重量百分比为0.3% ;
[0045] 3)在第一坯砖的底釉上喷墨印花，得到第二坯砖;喷墨印花时，喷墨机的参数为： 喷墨机皮带速度20m/mim，打印尺寸为910 X 910mm;把预设图案分割喷印在12块第一坯砖上 (当这12块第一坯砖组合铺装时，能够得到带有完整图案的背景墙），且相邻的第一坯砖在 连接处设置重复印花;重复印花为印花本体外围O-Hmm处的印花；
[0046] 4)把第二坯砖在165°C的条件下干燥1.6min，得到第三坯砖；
[0047] 5)向第三坯砖设置有喷墨印花的一面施加面釉，得到第四坯砖;面釉包括厚抛釉 粉68.61 %、羧甲基纤维素钠0.15 %、三聚磷酸钠0.26%和水30.98% ;面釉流速为4.77g/s， 比重为1.89g/ml，面釉施加量为1300g/m2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.3 % ; [0048] 6)把第四坯砖在155 °C的条件下干燥2min，得到第五坯砖；
[0049] 7)把第五坯砖放置于1195°C的窑炉中，高温煅烧lh，得到第六坯砖；
[0050] 8)对第六坯砖进行抛光处理，抛光的工艺条件为:抛光机皮带速度20m/mim;依次 用以下磨头进行抛光处理:9组120目硬性磨块组成的磨头、4组150目硬性磨块组成的磨头、 3组150目弹性模块组成的磨头、3组180目弹性模块组成的磨头、4组240目弹性模块组成的 磨头、3组300目弹性模块组成的磨头、4组400目弹性模块组成的磨头、4组500目弹性模块组 成的磨头、4组600目弹性模块组成的磨头、3组800目弹性模块组成的磨头、5组1000目弹性 模块组成的磨头、3组1200目弹性模块组成的磨头、4组1500目弹性模块组成的磨头、2组 2000目弹性模块组成的磨头;随后依次进行磨边和打蜡处理，得到超平釉面砖。
[0051] 把实施例1得到的超平釉面砖进行性能测试，测试结果详见表3。当把这12块超平 釉面砖铺贴在墙面时，形成背景墙，背景墙的评价结果见表3。
[0052] 实施例2
[0053]根据下述制备方法获取超平釉面砖：
[0054] 1)坯体成型，把坯体在150°C的条件下干燥90min，得到干燥坯体；
[0055] 2)向干燥坯体的表面施加底釉，得到第一坯砖；底釉流速为4.77g/s，比重为 1.89g/ml，底釉施加量为590g/m 2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.4 % ;
[0056] 3)在第一坯砖的底釉上喷墨印花，得到第二坯砖;喷墨印花时，喷墨机的参数为： 喷墨机皮带速度20m/mim，打印尺寸为910 X 910mm;把预设图案分割喷印在12块第一坯砖上 (当这12块第一坯砖组合铺装时，能够得到带有完整图案的背景墙），且相邻的第一坯砖在 连接处设置重复印花;重复印花为印花本体外围〇-13_处的印花；
[0057] 4)把第二坯砖在150°C的条件下干燥Imin，得到第三坯砖；
[0058] 5)向第三坯砖设置有喷墨印花的一面施加面釉，得到第四坯砖;面釉包括厚抛釉 粉65.61 %、羧甲基纤维素钠0.25 %、三聚磷酸钠0.26%和水34.98% ;面釉流速为4.77g/s， 比重为1.89g/ml，面釉施加量为1300g/m2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.3 % ;
[0059] 6)把第四坯砖在150 °C的条件下干燥Imin，得到第五坯砖；
[0060] 7)把第五坯砖放置于1170°C的窑炉中，高温煅烧lh，得到第六坯砖；
[00611 8)对第六坯砖进行抛光处理，抛光的工艺条件为:抛光机皮带速度20m/mim;依次 用以下磨头进行抛光处理:9组120目硬性磨块组成的磨头、4组150目硬性磨块组成的磨头、 3组150目弹性模块组成的磨头、3组180目弹性模块组成的磨头、4组240目弹性模块组成的 磨头、3组300目弹性模块组成的磨头、4组400目弹性模块组成的磨头、4组500目弹性模块组 成的磨头、4组600目弹性模块组成的磨头、3组800目弹性模块组成的磨头、5组1000目弹性 模块组成的磨头、3组1200目弹性模块组成的磨头、4组1500目弹性模块组成的磨头、2组 2000目弹性模块组成的磨头;随后依次进行磨边和打蜡处理，得到超平釉面砖。
[0062] 把实施例2得到的超平釉面砖进行性能测试，测试结果详见表3。当把这12块超平 釉面砖铺贴在墙面时，形成背景墙，背景墙的评价结果见表3。
[0063] 实施例3
[0064] 根据下述制备方法获取超平釉面砖：
[0065] 1)坯体成型，把坯体在200°C的条件下干燥90min，得到干燥坯体；
[0066] 2)向干燥坯体的表面施加底釉，得到第一坯砖；底釉流速为4.77g/s，比重为 1.85g/ml，底釉施加量为590g/m 2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.3 % ;
[0067] 3)在第一坯砖的底釉上喷墨印花，得到第二坯砖;喷墨印花时，喷墨机的参数为： 喷墨机皮带速度20m/mim，打印尺寸为910 X 910mm;把预设图案分割喷印在12块第一坯砖上 (当这12块第一坯砖组合铺装时，能够得到带有完整图案的背景墙），且相邻的第一坯砖在 连接处设置重复印花;重复印花为印花本体外围〇-12_处的印花；
[0068] 4)把第二坯砖在110°C的条件下干燥1.5min，得到第三坯砖；
[0069] 5)向第三坯砖设置有喷墨印花的一面施加面釉，得到第四坯砖;面釉包括厚抛釉 粉69.61 %、羧甲基纤维素钠0.15 %、三聚磷酸钠0.26%和水29.98% ;面釉流速为4.77g/s， 比重为1.89g/ml，面釉施加量为1300g/m2,细度为经325目筛后干料重量百分比为0.6%; [0070] 6)把第四坯砖在160°C的条件下干燥1.5min，得到第五坯砖；
[0071] 7)把第五坯砖放置于1200°C的窑炉中，高温煅烧lh，得到第六坯砖；
[0072] 8)对第六坯砖进行抛光处理，抛光的工艺条件为:抛光机皮带速度20m/mim;依次 用以下磨头进行抛光处理:9组120目硬性磨块组成的磨头、4组150目硬性磨块组成的磨头、 3组150目弹性模块组成的磨头、3组180目弹性模块组成的磨头、4组240目弹性模块组成的 磨头、3组300目弹性模块组成的磨头、4组400目弹性模块组成的磨头、4组500目弹性模块组 成的磨头、4组600目弹性模块组成的磨头、3组800目弹性模块组成的磨头、5组1000目弹性 模块组成的磨头、3组1200目弹性模块组成的磨头、4组1500目弹性模块组成的磨头、2组 2000目弹性模块组成的磨头;随后依次进行磨边和打蜡处理，得到超平釉面砖。
[0073] 把实施例3得到的超平釉面砖进行性能测试，测试结果详见表3。当把这12块超平 釉面砖铺贴在墙面时，形成背景墙，背景墙的评价结果见表3。
[0074] 实施例4
[0075] 根据下述制备方法获取超平釉面砖：
[0076] 1)坯体成型，把坯体在300°C的条件下干燥90min，得到干燥坯体；
[0077] 2)向干燥坯体的表面施加底釉，得到第一坯砖；底釉流速为4.77g/s，比重为 1.91g/ml，底釉施加量为590g/m 2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.3 % ;
[0078] 3)在第一坯砖的底釉上喷墨印花，得到第二坯砖;喷墨印花时，喷墨机的参数为： 喷墨机皮带速度20m/mim，打印尺寸为910 X 910mm;把预设图案分割喷印在12块第一坯砖上 (当这12块第一坯砖组合铺装时，能够得到带有完整图案的背景墙），且相邻的第一坯砖在 连接处设置重复印花;重复印花为印花本体外围〇-15_处的印花；
[0079] 4)把第二坯砖在200°C的条件下干燥2min，得到第三坯砖；
[0080] 5)向第三坯砖设置有喷墨印花的一面施加面釉，得到第四坯砖;面釉包括厚抛釉 粉64.61 %、羧甲基纤维素钠0.15 %、三聚磷酸钠0.26%和水34.98% ;面釉流速为4.77g/s， 比重为1.89g/ml，面釉施加量为1300g/m2,细度为经325目筛后干料重量百分比为0.4%; [0081 ] 6)把第四坯砖在170 °C的条件下干燥Imin，得到第五坯砖；
[0082] 7)把第五坯砖放置于1190°C的窑炉中，高温煅烧lh，得到第六坯砖；
[0083] 8)对第六坯砖进行抛光处理，抛光的工艺条件为:抛光机皮带速度20m/mim;依次 用以下磨头进行抛光处理:9组120目硬性磨块组成的磨头、4组150目硬性磨块组成的磨头、 3组150目弹性模块组成的磨头、3组180目弹性模块组成的磨头、4组240目弹性模块组成的 磨头、3组300目弹性模块组成的磨头、4组400目弹性模块组成的磨头、4组500目弹性模块组 成的磨头、4组600目弹性模块组成的磨头、3组800目弹性模块组成的磨头、5组1000目弹性 模块组成的磨头、3组1200目弹性模块组成的磨头、4组1500目弹性模块组成的磨头、2组 2000目弹性模块组成的磨头;随后依次进行磨边和打蜡处理，得到超平釉面砖。
[0084] 把实施例4得到的超平釉面砖进行性能测试，测试结果详见表3。当把这12块超平 釉面砖铺贴在墙面时，形成背景墙，背景墙的评价结果见表3。
[0085] 实施例5
[0086] 根据下述制备方法获取超平釉面砖：
[0087] 1)坯体成型，把坯体在250°C的条件下干燥90min，得到干燥坯体；
[0088] 2)向干燥坯体的表面施加底釉，得到第一坯砖；底釉流速为4.77g/s，比重为 1.87g/ml，底釉施加量为590g/m 2，细度为经325目筛后干料重量百分比为0.4 % ;
[0089] 3)在第一坯砖的底釉上喷墨印花，得到第二坯砖;喷墨印花时，喷墨机的参数为： 喷墨机皮带速度20m/mim，打印尺寸为910 X 910mm;把预设图案分割喷印在12块第一坯砖上 (当这12块第一坯砖组合铺装时，能够得到带有完整图案的背景墙），且相邻的第一坯砖在 连接处设置重复印花;重复印花为印花本体外围O-Hmm处的印花；
[0090] 4)把第二坯砖在195°C的条件下干燥1.2min，得到第三坯砖；
[0091] 5)向第三坯砖设置有喷墨印花的一面施加面釉，得到第四坯砖;面釉包括厚抛釉 粉67.61 %、羧甲基纤维素钠0.2%、三聚磷酸钠0.21 %和水31.98%;面釉流速为4.77g/s， 比重为1.89g/ml，面釉施加量为1300g/m2,细度为经325目筛后干料重量百分比为0.6%; [0092] 6)把第四坯砖在240°C的条件下干燥1.3min，得到第五坯砖；
[0093] 7)把第五坯砖放置于1230°C的窑炉中，高温煅烧lh，得到第六坯砖；
[0094] 8)对第六坯砖进行抛光处理，抛光的工艺条件为:抛光机皮带速度20m/mim;依次 用以下磨头进行抛光处理:9组120目硬性磨块组成的磨头、4组150目硬性磨块组成的磨头、 3组150目弹性模块组成的磨头、3组180目弹性模块组成的磨头、4组240目弹性模块组成的 磨头、3组300目弹性模块组成的磨头、4组400目弹性模块组成的磨头、4组500目弹性模块组 成的磨头、4组600目弹性模块组成的磨头、3组800目弹性模块组成的磨头、5组1000目弹性 模块组成的磨头、3组1200目弹性模块组成的磨头、4组1500目弹性模块组成的磨头、2组 2000目弹性模块组成的磨头;随后依次进行磨边和打蜡处理，得到超平釉面砖。
[0095] 把实施例5得到的超平釉面砖进行性能测试，测试结果详见表3。当把这12块超平 釉面砖铺贴在墙面时，形成背景墙，背景墙的评价结果见表3。
[0096] 对比例1
[0097]对比例1中所用底釉的具体成分见表1;所用面釉包括厚抛釉粉68.61%、羧甲基纤 维素钠0.15%、三聚磷酸钠0.26%和水30.98% ;其中，厚抛釉粉的具体成分见表2。
[0098] 对比例1的超平釉面砖的制备方法与实施例1的不同之处在于，在喷墨印花时，没 有喷印重复印花。
[0099] 对对比例1得到的超平釉面砖进行性能测试，测试结果详见表3。把对比例1制备的 超平釉面砖铺贴成背景墙，背景墙的评价结果见表3。
[0100] 对比例2
[0101] 对比例2中所用底釉的具体成分见表1;所用面釉包括厚抛釉粉65.61%、羧甲基纤 维素钠0.25%、三聚磷酸钠0.26%和水34.98% ;其中，厚抛釉粉的具体成分见表2。
[0102] 对比例2的超平釉面砖的制备方法与实施例2的不同之处在于，在喷墨印花时，没 有喷印重复印花。
[0103] 对对比例2得到的超平釉面砖进行性能测试，测试结果详见表3。把对比例2制备的 超平釉面砖铺贴成背景墙，背景墙的评价结果见表3。
[0104]对实施例1-5和对比例1-2的超平釉面砖的相关性能进行测试，测试的指标包括釉 层厚度、莫氏硬度、抗折强度和吸水率，上述4个指标的测试方法均与常规测试方法相同，评 价指标参照《GB/T 4100-2015》。当把实施例1-5和对比例1-2的超平釉面砖贴成背景墙时， 用人工评价的方法对其"衔接性"进行评价，每个实施例和对比例均由相同的20人进行打 分，满分为10分，若平均分为8-10分(不包括8分)则记为优;若平均分为6-8 (不包括6分)则 记为良；若平均分为4-6分(不包括4分)则记为中；若平均分为1-4分则记为差。测试结果详 见表3。
[0105] 表3实施例1-5和对比例1-6相关性能记录表
[0107] 从表1的数据可得，实施例1-5所获得的超平釉面砖，其釉层厚度均在0.6mm以上， 较厚的釉层使得釉面砖的光泽度更好，层次和立体感更强;且实施例1-5的超平釉面砖的莫 氏硬度大，不易刮花，而对比例1-2莫氏硬度均较小，容易刮花，特别是对比例1，因为对比例 1所用釉料中的Al 2O3的含量较少。实施例1-5所获得的超平釉面砖，其抗折强度和吸水率均 比对比例优，表明了实施例1-5的超平釉面砖经久耐用，不易被损坏。另外，由于实施例1-5 的超平釉面砖在制备喷墨印花时，均设置有重复印花，铺贴成背景墙时，其"衔接性"均获得 了"优"等级，表明了铺贴误差小，没有出现错位的情况，最终形成的背景墙图案拼接完整， 连接过渡性好，大方美观。
[0108] 对本领域的技术人员来说，可根据以上描述的技术方案以及构思，做出其它各种 相应的改变以及形变，而所有的这些改变以及形变都应该属于本发明权利要求的保护范围 之内。
【主权项】
1. 一种超平釉面砖，其特征在于，包括坯体和釉层；所述釉层与所述坯体的上表面贴 合;所述釉层包括底釉和面釉;所述面釉位于所述底釉上;所述底釉的厚度为0.1-0.8mm;所 述面釉的厚度为0.5-1.0mm。2. 根据权利要求1所述的超平釉面砖，其特征在于，所述底釉包括按重量份以下成分： Al2Oi 2G-33 份； SiO2 50-65 份； CaO 1-5 份； MgO 1-4 份； .Zn.O 2-6 份； K.20.. 2-4.; Ka2O 4-8 份:； ZrO2 10-18 份。3. 根据权利要求1所述的超平釉面砖，其特征在于，所述面釉由按重量百分比以下成分 组成：厚抛釉粉65-70 %、羧甲基纤维素钠0.1-0.3 %、三聚磷酸钠0.1-0.5 %和水25-35 % ; 上述成分的重量百分比之和为100%。4. 根据权利要求3所述的超平釉面砖，其特征在于，所述面釉由按重量百分比以下成分 组成:厚抛釉粉68.61 %、羧甲基纤维素钠0.15%、三聚磷酸钠0.26%和水30.98%。5. 根据权利要求4所述的超平釉面砖，其特征在于，所述厚抛釉粉包括熔块和生料;所 述熔块和所述生料的质量百分比为(5-20): 100。6. 根据权利要求5所述的超平釉面砖，其特征在于，所述熔块包括按重量份计以下成 分： Al2O^ 15-2 U 份； SiO, 50-60 份； CaO 10-15 份； K2O 2-5 份； MgO 5-10 份; B2O3 4-8 份。7. 根据权利要求5或6所述的超平釉面砖，其特征在于，所述生料包括按重量份计以下 成分： M2O3 6-12 份； SiO, 48-60 份； K2O 3-8 份； Na2O 1-5 份； ZnO 4-8 份； BaO 5-10 份、 MgO 4-8 份； CaO 6-12 份。8. 根据权利要求2所述的超平釉面砖，其特征在于，所述底釉包括按重量份以下成分： Al2O3 15-25 份； SiO2 5:5-60 份； CaO 2-4 份； MgO 2-3 #·; ZnO 3:_5 份； K:20: .3-4 份； Na2O 5-7 ?分； 7ι0, 13-17 份。9. 根据权利要求6所述的超平釉面砖，其特征在于，所述熔块包括按重量份计以下成 分： Al2O3 17-19 份;：SiO2 55-59 份；CaO 11-13 份:； KjO 3-5 份； MgO 6-9 儉； BiQ3 5-7 份10. 根据权利要求7所述的超平釉面砖，其特征在于，所述生料包括按重量份计以下成 分： Al2O- 7-1 (Η分， SiO2 50-60 份； k O 5-8 份； Na2O 3-5 份; ZnO 5-7 份； BaO 6-9 份、 MgO 5-7 份; CaO 7-10 份。
【文档编号】C03C8/00GK106007377SQ201610341990
【公开日】2016年10月12日
【申请日】2016年5月20日
【发明人】邱军, 林金宏, 吴志坚, 邓荣
【申请人】河源市东源鹰牌陶瓷有限公司, 鹰牌陶瓷实业（河源）有限公司, 佛山石湾鹰牌陶瓷有限公司, 佛山石湾华鹏陶瓷有限公司