用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜及其制备方法
【专利摘要】本发明公开了一种用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜及其制备方法，所述用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜包括柔性基底、第一结构层、第一隐身功能层、中间层、第二隐身功能层和第二结构层，所述用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜从内向外方向依次为柔性基底、第一结构层、第一隐身功能层、中间层、第二隐身功能层和第二结构层。本发明在实现高可见光透过率，高隐身性能的基础上，采用即贴型方法可快速实现现役飞行器的隐身改进，降低隐身改进成本，增加维护性。膜层致密均匀、颜色柔和，工艺流程可控。
【专利说明】
用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜及其制备方法
技术领域
[0001]本发明涉及透明导电膜的制造领域，具体涉及一种用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜及其制备方法。
【背景技术】
[0002]飞行器座舱作为三大散射源之一会严重影响飞行器隐身性能，座舱隐身化成为现代飞行器特别是战斗机的显著特征，也是飞行器隐身设计的重要发展方向。座舱隐身主要通过在座舱玻璃上镀制一层电磁波控制薄膜将腔体强散射转化为座舱玻璃外表面弱散射，提高隐身性能。当前的座舱隐身膜系采用氧化铟锡单层膜或氧化钛/钛/氧化钛多层膜，其功能实现由氧化铟锡和金属钛完成，氧化钛用来实现对金属钛的保护，该两种膜系具有一定的电磁波反射能力，但需要达到比较优秀的雷达反射性能，需要将功能膜层加厚，由此将带来薄膜在颜色、可见光透过率等性能上的牺牲，甚至不能满足座舱基本需求。
[0003]同时，不同飞行器将在节能、防冰防雾等性能上有不同技术需求，根据不同飞行器的座舱玻璃特性，通过在线或离线镀膜生产技术在玻璃表面依次沉积单层或多层透明导电膜层，实现可见光、红外线、雷达波等光谱的选择性透过和反射，提高隐身性能，并提高飞行器的其他性能。飞行器工作状态各异，可能长期面临潮湿环境、风沙环境、湿盐环境、高温低温环境等恶劣工作状态，必然对飞行器外表面关键部位的耐腐蚀、耐候性、耐摩擦等机械性能提出更高要求。
[0004]用于飞行器隐身的座舱玻璃采用单一的氧化铟锡膜层或采用简单金属膜层实现电磁波反射，同时氧化铟锡膜层透光率较低，简单金属膜的耐腐蚀、耐候性、耐摩擦性较差。目前，缺乏一种透光率高、耐腐蚀好、耐候性好、耐摩擦性好的用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜及其制备方法。
【发明内容】
[0005]本发明的目的是针对上述问题，提供一种透光率高的用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜及其制备方法。
[0006]为达到上述目的，本发明采用了下列技术方案:本发明的用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜，所述用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜包括柔性基底、第一结构层、第一隐身功能层、中间层、第二隐身功能层和第二结构层，所述用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜从内向外方向依次为柔性基底、第一结构层、第一隐身功能层、中间层、第二隐身功能层和第二结构层。
[0007]进一步地，所述即贴型透明导电膜通过粘接层附着在飞行器座舱玻璃的上部，所述柔性基底的材质为PET或PI，所述柔性基底的厚度为0.05?0.2mm。
[0008]本发明通过粘接层附着在飞行器座舱玻璃上，完成隐身化改进，膜系具有隐身性能高、表面电阻低、可见光透过率高、膜层均匀致密、附着力强、耐磨耐腐蚀和耐候性能好，本发明通过各层厚度的优化调整，可实现电磁波高反射、可见光高透射、红外高反射、紫外线截止的自主调整，使反射回雷达的RCS降低10?18dB，可见光透过率>83%，满足飞行员视野要求，同时红外反射率可在68%以上，提高红外隐身性能和座舱节能效果，并实现一定的紫外截止能力，保护座舱内设备。
[0009]进一步地，所述的第一结构层由三个连续的膜层组成，所述三个连续的膜层包括第一氧化硅层或第一氮化硅层、氧化钛层或氮化钛层和第一透明导电氧化物层;所述第一结构层由内向外依次为第一氧化硅层或第一氮化硅层、氧化钛层或氮化钛层、第一透明导电氧化物层;第一结构层用于阻止柔性基底中的杂质离子元素进入第一隐身功能层影响隐身效果，提尚附着力；
[0010]所述第一氧化硅层或第一氮化硅层的膜层厚度为10?25nm，氧化钛层或氮化钛层的膜层厚度为8?20nm，第一透明导电氧化物层的膜层厚度为50?120nmo
[0011]更进一步地，所述第一透明导电氧化物层的材质为氧化锆、氧化铟锡、氧化锌铝、氧化铟镓锌或氧化镓锌中的任意一种。
[0012]进一步地，所述的第二结构层由两个连续的膜层组成，所述两个连续的膜层包括第二透明导电氧化物层和第二氧化硅层或第二氮化硅层，所述第二结构层顺序由内向外依次为第二透明导电氧化物层和第二氧化硅层或第二氮化硅层，所述第二透明导电氧化物层的膜层厚度为85?150nm，第二氧化娃层或第二氮化娃层的膜层厚度为100?200nm。第二结构层用于提高隐身性能并实现薄膜的耐磨耐划伤机械性能、耐腐蚀性能。
[0013]进一步地，所述第二透明导电氧化物层的材质为氧化锆、氧化铟锡、氧化镓锌中的任意一种。
[0014]更进一步地，所述的第一隐身功能层的材质为钛或金中的任意一种，所述第一隐身功能层的膜层厚度为6?1nm;所述的中间层为氧化钛或氧化铌中的任意一种，所述中间层的膜层厚度为12?30nm;所述的第二隐身功能层的材质为钛或金中的任意一种，第二隐身功能层的膜层厚度为5?8nm。采用金属钛或金属金为电磁波反射的主要功能层，金属钛具有优秀的耐腐蚀性能，可提高功能层耐候性能，金属金具有强的抗腐蚀性能，化学性能稳定，两种金属均可满足飞行器在潮湿、高盐、恶劣气象条件等环境下的使用性能；
[0015]第一隐身功能层实现电磁波反射，为实现隐身的主要功能层，同时具备红外反射能力，紫外线高反射。中间层用于对第一隐身功能层和第二隐身功能层的保护，同时调整可见光透光率，辅助提高隐身性能，辅助提高隐身性能，具备一定的导电性。第二隐身功能层进一步降低膜层表面电阻，提高膜层电磁波反射能力，结合第一隐身功能层综合改善膜层隐身性能，并实现红外高反射、紫外线防护。
[0016]通过第一隐身功能层、第二隐身功能层结合第一结构层、第二结构层的工艺调整可实现高电磁波反射率、可见光透过率的光电性能自主调整，同时也可进行辅助性能要求，如红外技术、紫外技术的综合调整。
[0017]为满足飞行器座舱对电磁波的反射性能，综合采用了第一隐身功能层、第二隐身功能层，两个隐身功能层的参数调整可实现电磁波反射率、可见光透过率、红外线反射性能的自主设计调整，并保持性能参数的稳定；
[0018]本发明所述的用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜的制备方法，包括如下步骤:
[0019](I)进行连续镀膜前，先进行抽真空，开启机械真空栗；
[0020](2)采用卷绕磁控溅射镀膜方式，将柔性基底以卷对卷方式进入卷绕镀膜设备，依次经过进膜室、缓冲室到达镀膜室，缓冲室气压为0.2?IPa，充入工作气体，镀膜室气压维持在0.1?0.8Pa之间，充入工作气体和工艺气体；
[0021](3)薄膜沉积过程中，在工艺气体氛围下，将基底镀膜面正对靶面，保持基底至靶面距离为6?20cm，连续开启磁控溅射镀膜设备的电源，起辉稳定后依次在基底上沉积第一结构层、第一隐身功能层、中间层、第二隐身功能层和第二结构层；
[0022](4)镀膜结束后，柔性基底依次经过缓冲室、出膜室后，卷绕收料，镀膜过程中卷绕速度保持平稳均匀，制得用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜。整个镀膜过程在真空环境下工作，保证镀膜质量。镀膜过程中可适当调整工艺参数，如气压、电源功率、卷绕速度等，以满足不同的隐身、可见光需求。
[0023]进一步地，在步骤(I)中，进行连续镀膜前，先进行抽真空，开启机械真空栗，当0.1?0.SPa时相应腔体室开启分子栗，抽真空至本底真空度要求:对缓冲室要求真空度〈0.1Pa,镀膜室真空度〈I?3 X 10—3Pa;镀膜环境要求洁净度万级以内、温度在15?18°C、湿度55%以下，阴极冷却水温度10?26°C;在步骤(2)中，所述卷绕磁控溅射镀膜方式为连续式磁控溅射方式;所述工作气体为氩气;所述工艺气体为氧气或氮气。
[0024]进一步地，在步骤(3)中，所述工艺气体为氧气或氮气;所述电源为中频或直流电源，采用的恒功率为I?35kw，恒电流为2?50A;在步骤(4)中，速度范围为0.3?1.5m/min。
[0025]有益效果:本发明在实现高可见光透过率，高隐身性能的基础上，采用即贴型方法可快速实现现役飞行器的隐身改进，降低隐身改进成本，增加维护性。可实现高雷达波反射率和红外反射率，低红外辐射率，薄膜附着力强，耐酸碱盐腐蚀性和耐摩擦等机械性能，膜层致密均匀、颜色柔和，工艺流程可控，性能可根据技术需求自主调整。
[0026]与现有技术相比，本发明具有如下优点:
[0027](I)与单层或简单的透明导电膜相比，结合座舱外形设计，可将反射回雷达的RCS，雷达散射截面降低10?18dB，同时，可见光透过率可提高至83%以上，为飞行员提供更好的飞行视觉效果。红外反射率可在68%以上，提高红外隐身性能，并具备一定的紫外截止能力，保护座舱内设备。
[0028](2)镀膜后的柔性基底以粘接方式附着在飞机座舱玻璃表面上，可快速用于现役飞行器隐身改进。为提高整个膜系的电磁波反射率，在第一结构层、第二结构层选择性的采用透明导电氧化物辅助实现更高的电磁波反射率，提高隐身性能;两个隐身功能层可实现高雷达波反射率和红外反射率、高可见光透过率、低红外辐射率，第一结构层、中间层、第二结构层可提高薄膜附着力、耐酸碱盐腐蚀性和耐摩擦等机械性能，膜层致密均匀、颜色柔和，工艺流程可控，性能可根据技术需求自主调整。
[0029](3)综合调整第一结构层、第一隐身功能层、中间层、第二隐身功能层、第二结构层的厚度和溅射工艺参数，可实现电磁波高散射、可见光高透射、红外高反射、紫外线截止的自主调整，膜系除具备基本的隐身性能需求外，也具备一定的节能性能，可实现光电性能的综合控制。
[0030](4)采用即贴型方式可方便快速对现役飞机座舱玻璃进行简单的粘接处理，可快速实现座舱玻璃隐身化。
【附图说明】
[0031]图1为本发明的用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜的示意图；
[0032]其中，I飞行器座舱玻璃、2粘接层、3柔性基底、41第一氧化硅层或第一氮化硅层、42氧化钛层或氮化钛层、43第一透明导电氧化物层、5第一隐身功能层、6中间层、7第二隐身功能层、81第二透明导电氧化物层、82第二氧化硅层或第二氮化硅层。
【具体实施方式】
[0033]为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明的实施方式作进一步地详细描述。
[0034]实施例1
[0035]如图1所示，本发明的用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜，所述用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜包括柔性基底、第一结构层、第一隐身功能层5、中间层6、第二隐身功能层和第二结构层，所述用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜从内向外方向依次为柔性基底、第一结构层、第一隐身功能层5、中间层6、第二隐身功能层7和第二结构层。
[0036]第一结构层用于阻止柔性基底中的杂质离子元素进入第一隐身功能层5影响隐身效果，提高附着力并综合调整膜层的可见光透光率，且耐磨耐腐蚀；
[0037]所述即贴型透明导电膜通过粘接层2附着在飞行器座舱玻璃I的上部，所述柔性基底3的材质为PET，所述柔性基底的厚度为0.05mm。
[0038]本发明通过粘接层2附着在飞行器座舱玻璃I上，完成隐身化改进，膜系具有隐身性能高、表面电阻低、可见光透过率高、膜层均匀致密、附着力强、耐磨耐腐蚀和耐候性能优秀等优点，本发明通过各层厚度的优化调整，可实现电磁波高反射、可见光高透射、红外高反射、紫外线截止的自主调整，使反射回雷达的RCS降低10?18dB，可见光透过率>83%，满足飞行员视野要求，同时红外反射率可在68%以上，提高红外隐身性能和座舱节能效果，并实现一定的紫外截止能力，保护座舱内设备。
[0039]所述的第一结构层由三个连续的膜层组成，所述三个连续的膜层包括第一氧化硅层41、氧化钛层42和第一透明导电氧化物层43;所述第一结构层由内向外依次为第一氧化硅层41、氧化钛层42、第一透明导电氧化物层43 ；
[0040]所述第一氧化硅层41的膜层厚度为25nm，氧化钛层42的膜层厚度为8nm，第一透明导电氧化物层43的膜层厚度为120nmo
[0041]所述第一透明导电氧化物层43的材质为氧化锆。
[0042]所述的第二结构层由两个连续的膜层组成，所述两个连续的膜层包括第二透明导电氧化物层81和第二氧化硅层82，所述第二结构层顺序由内向外依次为第二透明导电氧化物层81和第二氧化硅层82，所述第二透明导电氧化物层81的膜层厚度为85nm，第二氧化硅层82的膜层厚度为200nm。第二结构层用于提高隐身性能并实现薄膜的耐磨耐划伤机械性能、耐腐蚀性能。
[0043]所述第二透明导电氧化物层81的材质为氧化铟锡。
[0044]所述的第一隐身功能层5的材质为金属钛，所述第一隐身功能层5的膜层厚度为6nm;所述的中间层6的材质为氧化钛，所述中间层6的膜层厚度为30nm;所述的第二隐身功能层7的材质为钛，第二隐身功能层7的膜层厚度为5nm。
[0045]采用金属钛或金属金为电磁波反射的主要功能层，金属钛具有优秀的耐腐蚀性能，可提高功能层耐候性能，金属金具有强的抗腐蚀性能，化学性能稳定，两种金属均可满足飞行器在潮湿、高盐、恶劣气象条件等环境下的使用性能；
[0046]第一隐身功能层实现电磁波反射，为实现隐身的主要功能层，同时具备红外反射能力，紫外线高反射。中间层用于对第一隐身功能层和第二隐身功能层的保护，同时调整可见光透光率，辅助提高隐身性能，辅助提高隐身性能，具备一定的导电性。第二隐身功能层进一步降低膜层表面电阻，提高膜层电磁波反射能力，结合第一隐身功能层综合改善膜层隐身性能，并实现红外高反射、紫外线防护。
[0047]通过第一隐身功能层、第二隐身功能层结合第一结构层、第二结构层的工艺调整可实现高电磁波反射率、可见光透过率的光电性能自主调整，同时也可进行辅助性能要求，如红外技术、紫外技术的综合调整。
[0048]为满足飞行器座舱对电磁波的反射性能，综合采用了第一隐身功能层、第二隐身功能层，两个隐身功能层的参数调整可实现电磁波反射率、可见光透过率、红外线反射性能的自主设计调整，并保持性能参数的稳定；
[0049]本发明所述的用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜的制备方法，包括如下步骤:
[0050](I)进行连续镀膜前，先进行抽真空，开启机械真空栗，当0.1Pa时相应腔体室开启分子栗，抽真空至本底真空度要求:对缓冲室要求真空度〈0.1Pa，镀膜室真空度〈I X 10—3Pa;所述卷绕磁控溅射镀膜方式为连续式磁控溅射方式;镀膜环境要求洁净度万级以内、温度在15?18°C、湿度55%以下，阴极冷却水温度10?26°C ;在步骤(2)中，所述卷绕磁控溅射镀膜方式为
[0051](2)采用卷绕磁控溅射镀膜方式，将柔性基底以卷对卷方式进入卷绕镀膜设备，依次经过进膜室、缓冲室到达镀膜室，缓冲室气压为0.2Pa，充入工作气体，镀膜室气压维持在0.8Pa之间，充入工作气体和工艺气体;所述工作气体为氩气;所述工艺气体为氧气或氮气。
[0052](3)薄膜沉积过程中，在工艺气体氛围下，将基底镀膜面正对靶面，保持基底至靶面距离为6cm，连续开启磁控溅射镀膜设备的电源，起辉稳定后依次在基底上沉积第一结构层、第一隐身功能层5、中间层、第二隐身功能层7和第二结构层;所述工艺气体为氧气或氮气;所述电源为中频或直流电源，采用的恒功率为35kw或恒电流为2A;
[0053 ] (4)镀膜结束后，柔性基底依次经过缓冲室、出膜室后，卷绕收料，镀膜过程中卷绕速度保持平稳均匀，速度范围为1.5m/min。制得用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜。所述透明导电膜的可见光透光率83.8%，反射回雷达散射截面降低13dB。整个镀膜过程在真空环境下工作，保证镀膜质量。镀膜过程中可适当调整工艺参数，如气压、电源功率、卷绕速度等，以满足不同的隐身、可见光需求。
[0054]实施例2
[0055]实施例2与实施例1的区别在于:本发明的用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜，所述即贴型透明导电膜通过粘接层2附着在飞行器座舱玻璃I的上部，所述柔性基底3的材质为PI，所述柔性基底的厚度为0.1mm。
[0056]所述的第一结构层由三个连续的膜层组成，所述三个连续的膜层包括第一氮化硅层41、氧化钛层42和第一透明导电氧化物层43;所述第一结构层由内向外依次为第一氮化硅层41、氧化钛层42、第一透明导电氧化物层43 ；
[0057]所述第一氮化硅层41的膜层厚度为15nm，氧化钛层42的膜层厚度为12nm，第一透明导电氧化物层43的膜层厚度为80nm。
[0058]所述第一透明导电氧化物层43的材质为氧化铟锡。
[0059]所述的第二结构层由两个连续的膜层组成，所述两个连续的膜层包括第二透明导电氧化物层81和第二氮化硅层82，所述第二结构层顺序由内向外依次为第二透明导电氧化物层81和第二氮化硅层82，所述第二透明导电氧化物层81的膜层厚度为120nm，第二氮化硅层82的膜层厚度为150nmo
[0060]所述第二透明导电氧化物层81的材质为氧化镓锌。
[0061]所述的第一隐身功能层5的材质为金，所述第一隐身功能层5的膜层厚度为8nm;所述的中间层6的材质为氧化铌，所述中间层6的膜层厚度为17nm;所述的第二隐身功能层7的材质为金，第二隐身功能层7的膜层厚度为7nm。
[0062]本发明所述的用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜的制备方法，包括如下步骤:
[0063]在步骤(I)中，进行连续镀膜前，先进行抽真空，开启机械真空栗，当0.5Pa时相应腔体室开启分子栗，抽真空至本底真空度要求:对缓冲室要求真空度〈O -1Pa,镀膜室真空度〈2 X 10—3Pa;镀膜环境要求洁净度万级以内、温度在15°C、湿度55%以下，阴极冷却水温度16°C;用以保证镀膜工艺质量，提高膜系隐身、可见光等性能。
[0064]在步骤(2)中，采用卷绕磁控溅射镀膜方式，将柔性基底以卷对卷方式进入卷绕镀膜设备，依次经过进膜室、缓冲室到达镀膜室，缓冲室气压为0.SPa，充入工作气体，镀膜室气压维持在0.6Pa之间，充入工作气体和工艺气体;所述工作气体为氩气;所述工艺气体为氧气或氮气。所述卷绕磁控溅射镀膜方式为连续式磁控溅射方式；
[0065]在步骤(3)中，薄膜沉积过程中，在工艺气体氛围下，将基底镀膜面正对靶面，保持基底至靶面距离为15cm，连续开启磁控溅射镀膜设备的电源，起辉稳定后依次在基底上沉积第一结构层、第一隐身功能层5、中间层、第二隐身功能层7和第二结构层;所述工艺气体为氧气或氮气;所述电源为中频或直流电源，采用的恒功率为25kw或恒电流为40A;
[0066]在步骤(4)中，镀膜结束后，柔性基底依次经过缓冲室、出膜室后，卷绕收料，镀膜过程中卷绕速度保持平稳均匀，速度范围为1.2m/min。制得用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜。
[0067]实施例3
[0068]实施例3与实施例1的区别在于:本发明的用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜，所述即贴型透明导电膜通过粘接层2附着在飞行器座舱玻璃I的上部，所述柔性基底3的材质为PET，所述柔性基底的厚度为0.2mm。
[0069]所述的第一结构层由三个连续的膜层组成，所述三个连续的膜层包括第一氮化硅层41、氮化钛层42和第一透明导电氧化物层43;所述第一结构层由内向外依次为第一氮化硅层41、氮化钛层42、第一透明导电氧化物层43 ；
[°07°]所述第一氮化娃层41的膜层厚度为1nm，氮化钛层42的膜层厚度为20nm，第一透明导电氧化物层43的膜层厚度为50nm。
[0071]所述第一透明导电氧化物层43的材质为氧化锆。
[0072]所述的第二结构层由两个连续的膜层组成，所述两个连续的膜层包括第二透明导电氧化物层81和第二氧化硅层82，所述第二结构层顺序由内向外依次为第二透明导电氧化物层81和第二氧化硅层82，所述第二透明导电氧化物层81的膜层厚度为150nm，第二氧化硅层82的膜层厚度为I OOnm ο
[0073]所述第二透明导电氧化物层81的材质为氧化锆。
[0074]所述的第一隐身功能层5的材质为钛，所述第一隐身功能层5的膜层厚度为1nm;所述的中间层6的材质为氧化铌，所述中间层6的膜层厚度为12nm;所述的第二隐身功能层7的材质为钛，第二隐身功能层7的膜层厚度为8nm。
[0075]本发明所述的用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜的制备方法，包括如下步骤:
[0076]在步骤(I)中，进行连续镀膜前，先进行抽真空，开启机械真空栗，当0.SPa时相应腔体室开启分子栗，抽真空至本底真空度要求:对缓冲室要求真空度〈O -1Pa,镀膜室真空度〈3 X 10—3Pa;镀膜环境要求洁净度万级以内、温度在15°C、湿度55%以下，阴极冷却水温度160C ;所述卷绕磁控溅射镀膜方式为连续式磁控溅射方式；
[0077]在步骤(2)中，采用卷绕磁控溅射镀膜方式，将柔性基底以卷对卷方式进入卷绕镀膜设备，依次经过进膜室、缓冲室到达镀膜室，缓冲室气压为IPa，充入工作气体，镀膜室气压维持在0.1Pa之间，充入工作气体和工艺气体;所述工作气体为氩气;所述工艺气体为氧气或氮气。所述卷绕磁控溅射镀膜方式为连续式磁控溅射方式；
[0078]在步骤(3)中，薄膜沉积过程中，在工艺气体氛围下，将基底镀膜面正对靶面，保持基底至靶面距离为20cm，连续开启磁控溅射镀膜设备的电源，起辉稳定后依次在基底上沉积第一结构层、第一隐身功能层5、中间层、第二隐身功能层7和第二结构层;所述工艺气体为氧气或氮气;所述电源为中频或直流电源，采用的恒功率为Ikw或恒电流为50A;
[0079]在步骤(4)中，镀膜结束后，柔性基底依次经过缓冲室、出膜室后，卷绕收料，镀膜过程中卷绕速度保持平稳均匀，速度范围为0.3m/min。制得用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜。
[0080]实施例4
[0081]实施例4与实施例1的区别在于:本发明的用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜，所述第一透明导电氧化物层43的材质为氧化镓锌。
[0082]实施例5
[0083]实施例5与实施例1的区别在于:本发明的用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜，述第一透明导电氧化物层43的材质为氧化铟镓锌。
[0084]尽管本文较多地使用了飞行器座舱玻璃1、粘接层2、柔性基底3、第一氧化硅层或第一氮化硅层41、氧化钛层或氮化钛层42、第一透明导电氧化物层43、第一隐身功能层5、中间层6、第二隐身功能层7、第二透明导电氧化物层81、第二氧化硅层或第二氮化硅层82等术语，但并不排除使用其它术语的可能性。使用这些术语仅仅是为了更方便地描述和解释本发明的本质;把它们解释成任何一种附加的限制都是与本发明精神相违背的。
[0085]本文中所描述的具体实施例仅仅是对本发明精神作举例说明。本发明所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本发明的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。
【主权项】
1.用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜，其特征在于:所述用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜包括柔性基底、第一结构层、第一隐身功能层、中间层、第二隐身功能层和第二结构层，所述用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜从内向外方向依次为柔性基底、第一结构层、第一隐身功能层、中间层、第二隐身功能层和第二结构层。2.根据权利要求1所述的用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜，其特征在于:所述即贴型透明导电膜通过粘接层(2)附着在飞行器座舱玻璃(I)的上部，所述柔性基底(3)的材质为PET或PI，所述柔性基底的厚度为0.05?0.2mm。3.根据权利要求1所述的用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜，其特征在于:所述的第一结构层由三个连续的膜层组成，所述三个连续的膜层包括第一氧化硅层或第一氮化硅层(41)、氧化钛层或氮化钛层(42)和第一透明导电氧化物层(43);所述第一结构层由内向外依次为第一氧化硅层或第一氮化硅层(41 )、氧化钛层或氮化钛层(42)、第一透明导电氧化物层(43); 所述第一氧化硅层或第一氮化硅层(41)的膜层厚度为10?25nm，氧化钛层或氮化钛层(42)的膜层厚度为8?20nm，第一透明导电氧化物层(43)的膜层厚度为50?120nmo4.根据权利要求3所述的用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜，其特征在于:所述第一透明导电氧化物层(43)的材质为氧化锆、氧化铟锡、氧化锌铝、氧化铟镓锌或氧化镓锌中的任意一种。5.根据权利要求1所述的用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜，其特征在于:所述的第二结构层由两个连续的膜层组成，所述两个连续的膜层包括第二透明导电氧化物层(81)和第二氧化硅层或第二氮化硅层(82)，所述第二结构层顺序由内向外依次为第二透明导电氧化物层(81)和第二氧化硅层或第二氮化硅层(82)，所述第二透明导电氧化物层(81)的膜层厚度为85?150nm，第二氧化硅层或第二氮化硅层(82)的膜层厚度为100?200nmo6.根据权利要求5所述的用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜，其特征在于:所述第二透明导电氧化物层(81)的材质为氧化锆、氧化铟锡、氧化镓锌中的任意一种。7.根据权利要求1所述的用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜，其特征在于:所述的第一隐身功能层(5)的材质为钛或金中的任意一种，所述第一隐身功能层(5)的膜层厚度为6?1nm;所述的中间层(6)为氧化钛或氧化铌中的任意一种，所述中间层(6)的膜层厚度为12?30nm;所述的第二隐身功能层(7)的材质为钛或金中的任意一种，第二隐身功能层(7)的膜层厚度为5?8nm。8.权利要求1至7任一项所述的用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜的制备方法，其特征在于包括如下步骤: (1)进行连续镀膜前，先进行抽真空，开启机械真空栗； (2)采用卷绕磁控溅射镀膜方式，将柔性基底以卷对卷方式进入卷绕镀膜设备，依次经过进膜室、缓冲室到达镀膜室，缓冲室气压为0.2?IPa，充入工作气体，镀膜室气压维持在0.1?0.8Pa之间，充入工作气体和工艺气体； (3)薄膜沉积过程中，在工艺气体氛围下，将基底镀膜面正对靶面，保持基底至靶面距离为6?20cm，连续开启磁控溅射镀膜设备的电源，起辉稳定后依次在基底上沉积第一结构层、第一隐身功能层、中间层、第二隐身功能层和第二结构层； (4)镀膜结束后，柔性基底依次经过缓冲室、出膜室后，卷绕收料，镀膜过程中卷绕速度保持平稳均匀，制得用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜。9.根据权利要求8所述的用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜的制备方法，其特征在于:在步骤(I)中，进行连续镀膜前，先进行抽真空，开启机械真空栗，当0.1?0.SPa时相应腔体室开启分子栗，抽真空至本底真空度要求:对缓冲室要求真空度〈0.1Pa，镀膜室真空度〈I?3 X 10—3Pa;镀膜环境要求洁净度万级以内、温度在15?18°C、湿度55%以下，阴极冷却水温度10?26°C ;在步骤(2)中，所述卷绕磁控溅射镀膜方式为连续式磁控溅射方式;所述工作气体为氩气;所述工艺气体为氧气或氮气。10.根据权利要求8所述的用于飞行器座舱玻璃隐身的即贴型透明导电膜的制备方法，其特征在于:在步骤(3)中，所述工艺气体为氧气或氮气;所述电源为中频或直流电源，采用的恒功率为I?35kw或恒电流为2?50A;在步骤(4)中，速度范围为0.3?1.5m/min。
【文档编号】C03C17/42GK106082702SQ201610625174
【公开日】2016年11月9日
【申请日】2016年7月29日 公开号201610625174.6, CN 106082702 A, CN 106082702A, CN 201610625174, CN-A-106082702, CN106082702 A, CN106082702A, CN201610625174, CN201610625174.6
【发明人】刘战合, 王晓璐, 田秋丽, 马高山, 代君, 华卫平
【申请人】郑州航空工业管理学院