一种布釉装置的制造方法
【专利说明】
[0001]技术领域:
[0002]本实用新型涉及陶瓷生产技术。
【背景技术】
[0003]现有的布釉技术，包括钟罩式布釉技术和直线式布釉技术，钟罩式布釉技术容易施釉不均匀，直线式布釉技术容易堵塞釉嘴，而且，两种技术都存在不能消除釉里面的气泡。
【发明内容】
[0004]本实用新型的目的在于克服上述不足，提供了一种不会堵塞釉嘴、施釉均匀、能有效消除气泡的布釉装置。
[0005]本实用新型的布釉装置是这样实现的，包括釉池、设置在釉池内其中一边的筒状网、将釉导入筒状网内的釉导入容器、设置在釉池内另一边的由动力带动的载釉滚筒、靠在载釉滚筒外侧的向下倾斜的导釉板。
[0006]这里，为了提升消泡效果，在靠近筒状网的釉池上设置有超声波振动器。通过震动，使釉里面的气泡快速上浮。
[0007]为了保证导出的瀑布状釉形态稳定，横向厚度均匀，导釉板的下端是向下弯折的弧形且导釉板表面光滑平整。
[0008]为了降低载釉滚筒将釉导入向下倾斜的导釉板时的釉的流速，以减少釉流动时的扰动，在导釉板的上端设置有弧形凸起的缓冲提。
[0009]为了控制釉池的液位，同时进一步消除釉中的气泡，在釉进入载釉滚筒前的釉池内设置有由数块分隔板构成的上下弯折的蛇形通道，蛇形通道的侧面的釉池上设置有溢流口。釉经过蛇形通道的上下流动后，釉中的气泡上浮并随溢流口流走的釉流出釉池，通过蛇行通道后的釉进入载釉滚筒处的釉池内。溢流口的作用是方便控制载釉滚筒的导釉量。
[0010]为了稳定控制釉流入筒状网内的流量，减少流入筒状网时釉所含的气泡，釉导入容器包括底端带有出口及上端带有溢流口的容腔、设置在容腔内的溢流小容腔，溢流小容腔的底端设置有直穿出容腔外的釉导入口，溢流小容腔的顶端是水平边缘。
[0011]本实用新型的布釉方法是这样实现的，将釉导入釉池内的筒状网内，使上层的带有气泡的釉透过筒状网流进釉池内，然后，釉池内的转动着的载釉滚筒将釉导入向下倾斜的导釉板，由导釉板的下端边缘将瀑布状的釉导入下面经过的瓷砖面上。
[0012]本实用新型与已有技术相比，具有不会堵塞釉嘴、施釉均匀、能有效消除气泡的优点。
[0013]【附图说明】:
[0014]图1为本实用新型的结构示意图。
[0015]【具体实施方式】:
[0016]现结合附图和实施例对本发明做进一步详细描述:
[0017]如图所示，本实用新型的布釉装置是这样实现的，包括釉池9、通过铜环12及网座13固定在釉池9内其中一边的筒状网15、将釉导入筒状网15内的釉导入容器、设置在釉池9内另一边的由动力带动的载釉滚筒7、靠在载釉滚筒7外侧的且固定在支撑板10上的向下倾斜的导釉板5。
[0018]在靠近筒状网15的釉池9上设置有超声波振动器14。
[0019]导釉板5的下端4是向下弯折的弧形且导釉板表面光滑平整。
[0020]在导釉板5的上端设置有弧形凸起的缓冲提6。
[0021]在釉进入载釉滚筒7前的釉池9内设置有由数块分隔板构成的上下弯折的蛇形通道11，蛇形通道11的侧面的釉池9上设置有溢流口 8。
[0022]釉导入容器包括底端带有出口伸入筒状网15内的且设置有阀门17的导流管16及上端带有溢流口 19的容腔20、设置在容腔20内的溢流小容腔21，溢流小容腔21的底端设置有直穿出容腔20外的釉导入口 18，溢流小容腔21的顶端是水平边缘。
[0023]在导釉板5的下面设置有釉厚度检测器3。这样，通过微电脑控制装置依据釉厚度检测器3所检测的瀑布状釉的厚度以及所设定的瀑布状釉的厚度来控制载釉滚筒7的转速，以控制实际的瀑布状釉的厚度与所设定的瀑布状釉的厚度一致。
[0024]本实用新型的布釉方法是这样实现的，将釉导入釉池9内的筒状网15内，使上层的带有气泡的釉透过筒状网15流进釉池9内，然后，釉池9内的转动着的载釉滚筒7将釉导入向下倾斜的导釉板5，由导釉板5的下端边缘将瀑布状的釉2导入下面经过的瓷砖面I上。
[0025]通过震动，使筒状网15内釉里面的气泡快速上浮，提升了消泡效果。
[0026]釉2是通过导釉板5的向下弯折的弧形的下端4导入瓷砖面I上，以保证导出的瀑布状釉形态稳定，横向厚度均匀。
[0027]釉导入导釉板5后，经过导釉板5的上端的弧形凸起的缓冲提6来降低载釉滚筒7将釉导入向下倾斜的导釉板5时的釉的流速。从而减少釉流动时的扰动。
[0028]釉经过蛇形通道11的上下流动后，才进入载釉滚筒7的作用范围，同时，釉中的气泡上浮并随溢流口 8流走的釉流出釉池9。这样，在控制釉池的液位同时，进一步消除釉中的气泡。
[0029]釉导入釉池9内的筒状网15前，先导入溢流小容腔21，然后由溢流小容腔21顶端水平边缘溢流到容腔20内，再由容腔20底部的导流管16导入釉池9内的筒状网15内。这样，就能稳定控制釉流入筒状网内的流量及压力，减少流入筒状网时釉所含的气泡。
[0030]通过微电脑控制装置依据釉厚度检测器3所检测的瀑布状釉的厚度以及所设定的瀑布状釉的厚度来控制载釉滚筒7的转速，以控制实际的瀑布状釉的厚度与所设定的瀑布状釉的厚度一致。
【主权项】
1.一种布釉装置，其特征在于包括釉池、设置在釉池内其中一边的筒状网、将釉导入筒状网内的釉导入容器、设置在釉池内另一边的由动力带动的载釉滚筒、靠在载釉滚筒外侧的向下倾斜的导釉板。
2.根据权利要求1所述的布釉装置，其特征在于在靠近筒状网的釉池上设置有超声波振动器。
3.根据权利要求2所述的布釉装置，其特征在于在釉进入载釉滚筒前的釉池内设置有由数块分隔板构成的上下弯折的蛇形通道，蛇形通道的侧面的釉池上设置有溢流口。
4.根据权利要求1或2或3所述的布釉装置，其特征导釉板的下端是向下弯折的弧形且导釉板表面光滑平整。
5.根据权利要求4所述的布釉装置，其特征在于在导釉板的上端设置有弧形凸起的缓冲提。
6.根据权利要求1或2或3或5所述的布釉装置，其特征在于釉导入容器包括底端带有出口及上端带有溢流口的容腔、设置在容腔内的溢流小容腔，溢流小容腔的底端设置有直穿出容腔外的釉导入口，溢流小容腔的顶端是水平边缘。
7.根据权利要求4所述的布釉装置，其特征在于釉导入容器包括底端带有出口及上端带有溢流口的容腔、设置在容腔内的溢流小容腔，溢流小容腔的底端设置有直穿出容腔外的釉导入口，溢流小容腔的顶端是水平边缘。
8.根据权利要求1或2或3或5或7所述的布釉装置，其特征在于在导釉板的下面设置有釉厚度检测器。
9.根据权利要求4所述的布釉装置，其特征在于在导釉板的下面设置有釉厚度检测器。
10.根据权利要求6所述的布釉装置，其特征在于在导釉板的下面设置有釉厚度检测器。
【专利摘要】一种布釉装置，其特征在于包括釉池、设置在釉池内其中一边的筒状网、将釉导入筒状网内的釉导入容器、设置在釉池内另一边的由动力带动的载釉滚筒、靠在载釉滚筒外侧的向下倾斜的导釉板。本实用新型与已有技术相比，具有不会堵塞釉嘴、施釉均匀、能有效消除气泡的优点。
【IPC分类】C04B41-86
【公开号】CN204325154
【申请号】CN201420862443
【发明人】廖绍基
【申请人】廖绍基
【公开日】2015年5月13日
【申请日】2014年12月31日