一种高纯度二氧化氯的制备装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及二氧化氯的制备技术领域，具体指一种高纯度二氧化氯的制备装置。
【背景技术】
[0002]二氧化氯(ClO2)是一种黄绿色到橙黄色的气体，是国际上公认为安全、无毒的绿色消毒剂。二氧化氯具有广谱性，能高效杀死病毒、细菌、原生生物、藻类、真菌和各种孢子及孢子形成的菌体，用量极少，在0.1ppm下即可杀灭所有细菌繁殖体和许多致病菌，50ppm可完全杀灭细菌繁殖体、肝炎病毒、噬菌体和细菌芽孢。
[0003]现有技术提供了一种控缓释包覆二氧化氯消毒剂的技术，该技术中公开了制备含有二氧化氯生产原料的二氧化氯缓释包，通过浸入水中起效的方法。其中，二氧化氯缓释包由包覆层包裹混合层构成，包覆层为水不溶性高分子材料和水溶性成分混合制成，以达到透水性的缓释效果，混合层由吸水性高分子材料和二氧化氯发生物质构成。
[0004]该缓释包存在多方面缺陷:
[0005]1、包覆层中含有可溶性材料，虽然可以达到透水并缓慢释放二氧化氯的效果，但是可溶性材料溶解形成的孔隙可导致原料外泄，从而影响二氧化氯气体及溶液的纯度，并且原料外泄后产生的废水难以处理，污染较大；
[0006]2、可溶性材料溶解时间需要一定的时间，导致二氧化氯气体发生时间较长；
[0007]3、二氧化氯生产原料混合在同一个混合层中，致使产品不容易保存。
【实用新型内容】
[0008]本实用新型的目的在于克服现有技术二氧化氯缓释包存在的产品纯度不高，工业废水难处理，缓释包不易保存的缺陷，提供一种使用方便、高效、环保无污染的高纯度二氧化氯的制备装置。
[0009]为实现上述目的，本实用新型所设计的高纯度二氧化氯的制备装置，包括制备高纯度二氧化氯的释放包及用于容纳二氧化氯原料包的带盖盒；所述制备高纯度二氧化氯的释放包包括由分子膜层分别包裹的原料层和催化剂层；所述分子膜层为具有透水性能且阻隔固体物的分子膜层；所述原料层套设在催化剂层内，或催化剂层套设在原料层内，或所述原料层和催化剂层一并套设于另一个分子膜层内。
[0010]优选地，所述原料层套设在催化剂层内，且催化剂层的分子膜层上设有注水口。
[0011]优选地，所述释放包为锥形。
[0012]可选第，所述注水口处设有截止阀或盖帽。
[0013]优选地，所述注水口开设于所述释放包的锥顶处。
[0014]优选地，所述注水口处设有封口膜。
[0015]优选地，所述带盖盒的盒盖顶部设有直通管，直通管的上端口设有管盖。
[0016]优选地，所述直通管与管盖螺纹连接。
[0017]优选地，所述管盖下端设有用于扎破封口膜的向下突出的插片。
[0018]优选地，所述直通管的下端口与所述释放包的注水口插接配合。
[0019]本实用新型原理:通过将原料层和催化剂层分开并包裹在不同的分子滤膜中，一方面使得只有生成二氧化氯能够通过分子滤膜挥发到空气中或溶解到水中，其他副产物均存于分子滤膜中而不会泄露，另一方面原料包和催化剂包在由分子滤膜隔开，在没有水的情况下，不发生反应，安全稳定。
[0020]本实用新型的有益效果:
[0021]1、解决二氧化氯气体储存和运输的难题；达到现场制备，现场使用的目的。
[0022]2、生产纯度99.99%二氧化氯溶液；消除以往二氧化氯溶液中残留物质对使用该消毒灭菌液时造成的不良反应。
[0023]3、直接用于空间空气消毒灭菌，该方法在使用中安全可靠；填补目前对空间空气直接消毒灭菌的空白。
[0024]4、保证了生成高纯度的二氧化氯的同时，不产生多余的废水，优化生产环节、降低生产成本、提高了产品质量、扩大了产品使用范围、达到生产安全性和零排污要求。
【附图说明】
[0025]图1为本实用新型高纯度二氧化氯的制备装置的剖视结构示意图。
[0026]图2为本实用新型高纯度二氧化氯的制备装置另一种实现方式的剖视结构示意图。
[0027]图3为本实用新型高纯度二氧化氯的制备装置再一种实现方式的剖视结构示意图。
[0028]图4为图3中制备高纯度二氧化氯的释放包的剖视结构示意图。
[0029]图5为图3中盒盖与管盖分离状态的剖视结构示意图。
【具体实施方式】
[0030]下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步的详细说明，以下实施例是对本实用新型的解释而本实用新型并不局限于以下实施例。
[0031]实施例1
[0032]如图1所示，高纯度二氧化氯的制备装置包括制备高纯度二氧化氯的释放包I及用于容纳二氧化氯原料包的带盖盒2 ;制备高纯度二氧化氯的释放包包括由分子膜层3分别包裹的原料层4和催化剂层5 ;分子膜层3为具有透水性能且阻隔固体物的分子膜层；原料层4套设在催化剂层5内。
[0033]使用高纯度二氧化氯的制备装置时，将水注入带盖盒2中，几分钟之后即可获得高纯度二氧化氯气体或液体。
[0034]实施例2
[0035]如图2所示，高纯度二氧化氯的制备装置包括制备高纯度二氧化氯的释放包I及用于容纳二氧化氯原料包的带盖盒2 ;制备高纯度二氧化氯的释放包包括由分子膜层3分别包裹的原料层4和催化剂层5 ;分子膜层3为具有透水性能且阻隔固体物的分子膜层；原料层4套设在催化剂层5内，且催化剂层5的分子膜层3上设有注水口 6，注水口 6处设有盖帽7。
[0036]使用高纯度二氧化氯的制备装置时，向注水口 6注水，盖上盖帽7，几分钟之后即可获得高纯度二氧化氯气体，或向注水口 6注水后盖上盖帽7，再将水注满带盖盒2没过释放包1，几分钟之后即可获得高纯度二氧化氯气体液体。
[0037]实施例3
[0038]如图3?5所示，高纯度二氧化氯的制备装置包括制备高纯度二氧化氯的释放包I及用于容纳二氧化氯原料包的带盖盒2 ;制备高纯度二氧化氯的释放包包括由分子膜层3分别包裹的原料层4和催化剂层5 ;分子膜层3为具有透水性能且阻隔固体物的分子膜层；原料层4套设在催化剂层5内，且催化剂层5的分子膜层3上设有注水口 6 ;
[0039]释放包I为锥形。注水口 6开设于释放包的锥顶处。注水口 6处还设有封口膜8。
[0040]带盖盒2的盒盖9顶部设有直通管10，直通管10的上端口设有管盖11。直通管10与管盖11螺纹连接。管盖11下端设有用于扎破封口膜8的向下突出的插片12。
[0041]直通管10的下端口与释放包I的注水口 6插接配合。如图4所示，注水口 6为竖直向上的管体状，其外侧壁设有凸点13(或凸圈)，直通管(10)的下端内壁设有凹点(或凹槽)，该凸点13(或凸圈)与凹点(或凹槽)大小相当。
[0042]使用高纯度二氧化氯的制备装置时，先将释放包I的注水口 6与直通管10的下端口插接，然后将管盖11与直通管10拧紧，使插片12扎破封口膜8，然后旋开管盖11，向注水口 6注水，盖上管盖11，几分钟之后即可获得高纯度二氧化氯气体(也可以先将管盖11与直通管10拧紧，再将释放包I的注水口 6与直通管10的下端口插接，使插片12扎破封口膜8，然后旋开管盖11，向注水口 6注水，效果相同)。
[0043]或向注水口 6注水后，盖上管盖11，再将水注满带盖盒2没过释放包I，几分钟之后即可获得高纯度二氧化氯气体液体。
【主权项】
1.一种高纯度二氧化氯的制备装置，其特征在于: 包括制备高纯度二氧化氯的释放包(I)及用于容纳二氧化氯原料包的带盖盒(2);所述制备高纯度二氧化氯的释放包包括由分子膜层(3)分别包裹的原料层(4)和催化剂层(5);所述分子膜层(3)为具有透水性能且阻隔固体物的分子膜层；所述原料层(4)套设在催化剂层(5)内，或催化剂层(5)套设在原料层(4)内，或所述原料层(4)和催化剂层(5)一并套设于另一个分子膜层(3)内。2.根据权利要求1所述高纯度二氧化氯的制备装置，其特征在于:所述原料层(4)套设在催化剂层(5)内，且催化剂层(5)的分子膜层(3)上设有注水口(6)。3.根据权利要求2所述高纯度二氧化氯的制备装置，其特征在于:所述释放包(I)为锥形。4.根据权利要求2或3所述高纯度二氧化氯的制备装置，其特征在于:所述注水口(6)处设有截止阀或盖帽(7)。5.根据权利要求3所述高纯度二氧化氯的制备装置，其特征在于:所述注水口(6)开设于所述释放包的锥顶处。6.根据权利要求5所述高纯度二氧化氯的制备装置，其特征在于:所述注水口(6)处设有封口膜⑶。7.根据权利要求6所述高纯度二氧化氯的制备装置，其特征在于:所述带盖盒(2)的盒盖(9)顶部设有直通管(10)，直通管(10)的上端口设有管盖(11)。8.根据权利要求7所述高纯度二氧化氯的制备装置，其特征在于:所述直通管(10)与管盖(11)螺纹连接。9.根据权利要求7所述高纯度二氧化氯的制备装置，其特征在于:所述管盖(11)下端设有用于扎破封口膜(8)的向下突出的插片(12)。10.根据权利要求7或8所述高纯度二氧化氯的制备装置，其特征在于:所述直通管(10)的下端口与所述释放包(I)的注水口(6)插接配合。
【专利摘要】本实用新型公开了一种高纯度二氧化氯的制备装置，包括制备高纯度二氧化氯的释放包及用于容纳二氧化氯原料包的带盖盒；所述制备高纯度二氧化氯的释放包包括由分子膜层分别包裹的原料层和催化剂层；所述分子膜层为具有透水性能且阻隔固体物的分子膜层；所述原料层套设在催化剂层内，或催化剂层套设在原料层内，或所述原料层和催化剂层一并套设于另一个分子膜层内。本实用新型生产二氧化氯溶液纯度达到99.99％，消除以往二氧化氯溶液中残留物质对使用该消毒灭菌液时造成的不良反应，安全可靠，并解决了二氧化氯气体储存和运输的难题，达到现场制备，现场使用的效果，填补了目前对空间空气直接消毒灭菌的空白。
【IPC分类】C01B11/02
【公开号】CN204643839
【申请号】CN201520288353
【发明人】郭峰, 陈小莉, 肖阳朋
【申请人】湖北南五洲生化科技有限公司
【公开日】2015年9月16日
【申请日】2015年5月6日