一种清洗装置的制造方法
【技术领域】
[0001 ]本实用新型涉及铸锭技术领域，特别是涉及一种清洗装置。
【背景技术】
[0002]铸锭技术的竞争，其实际上是硅锭质量的竞争。籽晶在铸锭工艺中起很重要的作用。籽晶的纯度对籽晶形核影响很大，因此需要对籽晶进行特殊清洗。
[0003]目前的小料清洗装置:将小料放入装满HF和王水混合液(HF:王水=1:3)的清洗桶中进行浸泡一段时间，定时进行搅拌，之后倒出HF和王水混合液，再用大量清水清洗小料，超声，烘干，备用。
[0004]但是这种清洗方式具有以下缺点:用清洗桶清洗小料，小料中残留的一些细小杂质和粉尘不能倒出，因此细小杂质和粉尘不能去除干净;用清洗桶清洗小料，由于清洗桶底部面积小，小料堆积的高，倒清洗液必须把清洗桶侧放，因此该清洗过程中搅拌和倒清洗液等操作不方便;用清洗桶清洗小料，由于清洗桶底部面积小，因此一次清洗小料的量不宜过多。
【实用新型内容】
[0005]本实用新型的目的是提供一种清洗装置，清洗小料方便，清洗小料量大，也容易搅拌，倒清洗液方便。
[0006]为解决上述技术问题，本实用新型实施例提供了一种清洗装置，包括清洗槽和夹层，所述夹层放置在所述清洗槽内的预定高度处，所述夹层具有多个通孔，所述清洗槽底部具有排液孔。
[0007]其中，所述通孔的直径为lOym-lOmm。
[0008]其中，所述通孔为椭圆形通孔或长方形通孔。
[0009]其中，多个所述通孔等间距设置。
[0010]其中，所述清洗槽为聚四氟乙烯清洗槽。
[0011]其中，所述清洗槽的横截面为圆形。
[0012]其中，还包括支撑架，所述支撑架用于将所述清洗槽抬高到预设高度。
[0013]本实用新型实施例所提供的清洗装置，与现有技术相比，具有以下优点:
[0014]本实用新型实施例提供的清洗装置，包括清洗槽和夹层，所述夹层放置在所述清洗槽内的预定高度处，所述夹层具有多个通孔，所述清洗槽底部具有排液孔。
[0015]所述清洗装置，通过在所述清洗槽中设置具有通孔的夹层，小料不能通过，但清洗液、细小杂质和粉尘可以通过，因此可以清洗掉细小杂质和粉尘，同时所述清洗槽的面积大，清洗小料量大，也容易搅拌;通过在所述清洗槽底部设置排液孔，在清洗完毕后，只要打开排液孔，即可释放清洗液，倒清洗液方便。
[0016]综上所述，本实用新型实施例所述的清洗装置，通过在所述清洗槽中设置具有通孔的夹层，在底部设置排液孔，使得小料清洗变得方便，清洗量大，到清洗液方便。
【附图说明】
[0017]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0018]图1为本实用新型实施例所提供的清洗装置正视图结构示意图。
【具体实施方式】
[0019]正如【背景技术】部分所述，现有技术中，小料清洗具有以下缺点:用清洗桶清洗小料，小料中残留的一些细小杂质和粉尘不能倒出，因此细小杂质和粉尘不能去除干净;用清洗桶清洗小料，由于清洗桶底部面积小，小料堆积的高，倒清洗液必须把清洗桶侧放，因此该清洗过程中搅拌和倒清洗液等操作不方便;用清洗桶清洗小料，由于清洗桶底部面积小，因此一次清洗小料的量不宜过多。
[0020]基于此，本实用新型实施例提供了本实用新型实施例提供的清洗装置，包括清洗槽和夹层，所述夹层放置在所述清洗槽内的预定高度处，所述夹层具有多个通孔，所述清洗槽底部具有排液孔。
[0021]综上所述，本实用新型实施例所提供的清洗装置，通过在清洗槽中设置具有通孔的夹层，小料不能通过，但清洗液、细小杂质和粉尘可以通过，因此可以清洗掉细小杂质和粉尘，同时所述清洗槽的面积大，清洗小料量大，也容易搅拌;通过在所述清洗槽底部设置排液孔，在清洗完毕后，只要打开排液孔，即可释放清洗液，倒清洗液方便。
[0022]为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本实用新型的【具体实施方式】做详细的说明。
[0023]在以下描述中阐述了具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以多种不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似推广。因此本实用新型不受下面公开的具体实施的限制。
[0024]请参考图1，图1为本实用新型实施例所提供的清洗装置正视图结构示意图。
[0025]在一种具体方式中，所述清洗装置，包括清洗槽10和夹层20，所述夹层20放置在所述清洗槽10内的预定高度处，所述夹层20具有多个通孔21，所述清洗槽10底部具有排液孔
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[0026]所述清洗装置，通过在清洗槽10中设置具有通孔21的夹层20，小料不能通过，但清洗液、细小杂质和粉尘可以通过，因此可以清洗掉细小杂质和粉尘，同时所述清洗槽10的面积大，清洗小料量大，也容易搅拌;通过在所述清洗槽10底部设置排液孔11，在清洗完毕后，只要打开排液孔11，即可释放清洗液，倒清洗液方便。
[0027]将小料均匀的放入清洗槽10中；
[0028]将HF和王水缓慢倒人清洗槽10中，初步腐蚀小料；
[0029]通过控制所述清洗槽10的底部与所述夹层20之间形成的蓄液池中清洗液的量来再次腐蚀小料；
[0030]小料腐蚀完后，打开排液孔11释放清洗液；
[0031]用大量清水清洗小料，再超声，烘干，备用。
[0032]其中，由于所述夹层20中的通孔21使得要求是小料不能通过但是清洗液、细小杂质和粉尘可以通过，一般所述通孔21的直径为lOym-lOmm。需要说明的是，本实用新型对所述通孔21的具体直径不做限定，多个所述通孔21的直径可以相同，也可以不同，一般选择相同直径的通孔21，便于制作工艺。
[0033]而对于所述通孔21的形状，一般所述通孔21为椭圆形通孔21或长方形通孔21。本实用新型中需要说明的是，所述通孔21还可以为其它的形状如正五边形、三角形、圆形、正方形等规则图形，还可以为不规则图形，本实用新型对所述通孔21的形状及尺寸不做限定，多个所述通孔21的形状可以相同，也可以不同，为简化制造工艺所述通孔21的形状和大小一般完全相同。
[0034]为进一步简化工艺，多个所述通孔21等间距设置。本实用新型对多个所述通孔21的间距以及排列方式不做具体限定。
[0035]所述清洗槽10以及夹层20由于需要通过HF和王水浸泡，因此必须具有较强的抗腐蚀能力，一般所述清洗槽10为聚四氟乙烯清洗槽10。需要说明的是，所述清洗槽10还可以是其它的耐腐蚀清洗槽10，本实用新型对此不做具体限定。
[0036]为方便在搅拌时能够最大限度将各处的小料接触到，所述清洗槽10的横截面为圆形。需要说明的是，本实用新型对所述清洗槽10的横截面以及高度不作具体限定。
[0037]此外，为减少人工搅拌的工艺强度，还可以设置自动搅拌部件，自动搅拌部件可以设置在夹层20的上方，也可以设置在夹层20的下方，即夹层20与所述清洗槽10底部之间。
[0038]而为了清洗更多的小料，夹层20的边缘向上凸起的部分可以选择更高，为了方便取出清洗后的小料，还可以在所述夹层20的边缘上设置提拉部，方便将夹层20取出。
[0039]由于所述清洗槽10的排液孔11一般是设置在底部或靠近底部的侧面，排液较为困难，还需要人为抬高所述清洗槽10，而为了方便，所述清洗装置还包括支撑架，所述支撑架用于将所述清洗槽10抬高到预设高度。在将所述清洗槽10使用支撑架放置到预设高度后，可以在所述清洗槽10下方放置废液回收瓶，用于接收从所述清洗槽10的排液孔11流出的清洗液。
[0040]综上所述，本实用新型实施例提供的清洗装置，通过在清洗槽中设置具有通孔的夹层，小料不能通过，但清洗液、细小杂质和粉尘可以通过，因此可以清洗掉细小杂质和粉尘，同时所述清洗槽的面积大，清洗小料量大，也容易搅拌;通过在所述清洗槽底部设置排液孔，在清洗完毕后，只要打开排液孔，即可释放清洗液，倒清洗液方便。
[0041]以上对本实用新型所提供的清洗装置进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以对本实用新型进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本实用新型权利要求的保护范围内。
【主权项】
1.一种清洗装置，其特征在于，包括清洗槽和夹层，所述夹层放置在所述清洗槽内的预定高度处，所述夹层具有多个通孔，所述清洗槽底部具有排液孔。2.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述通孔的直径为lOym-lOmm。3.如权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述通孔为椭圆形通孔或长方形通孔。4.如权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，多个所述通孔等间距设置。5.如权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽为聚四氟乙烯清洗槽。6.如权利要求5所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽的横截面为圆形。7.如权利要求6所述的清洗装置，其特征在于，还包括支撑架，所述支撑架用于将所述清洗槽抬高到预设高度。
【专利摘要】本实用新型公开了一种清洗装置，包括清洗槽和夹层，所述夹层放置在所述清洗槽内的预定高度处，所述夹层具有多个通孔，所述清洗槽底部具有排液孔。所述清洗装置，通过设置具有通孔的夹层，小料不能通过，但清洗液、细小杂质和粉尘可以通过，因此可以清洗掉细小杂质和粉尘，同时所述清洗槽的面积大，清洗小料量大，也容易搅拌；在清洗完毕后，只要打开排液孔，即可释放清洗液，倒清洗液方便。
【IPC分类】C30B35/00
【公开号】CN205099789
【申请号】CN201520884575
【发明人】李亮, 肖贵云, 黄晶晶, 王全志, 闫灯周, 王浩, 陈伟, 金浩
【申请人】晶科能源有限公司, 浙江晶科能源有限公司
【公开日】2016年3月23日
【申请日】2015年11月6日