用于制备吡喃并[2，3-c]吡啶衍生物的方法
【专利摘要】本发明涉及方法，其包括用合适的脱水剂将式(I)化合物脱水：以形成式(II)化合物的步骤：其中R1-R7如本文所定义。式(II)化合物已显示可以作为用于治疗细菌感染的化合物的中间体。
【专利说明】用于制备吡喃并[2，3-c]吡啶衍生物的方法
【背景技术】
[0001]本发明涉及吡喃并_[2，3_c]吡啶衍生物及其制备方法。公开于W02004058144中的3，4_ 二氢-2H-吡喃并[2，3-c]吡啶-6-甲醛，其特征在于下式(VIII):
[0002]
【权利要求】
1.方法，其包括用合适的脱水剂将式(I)化合物脱水:4输’
2.如权利要求1所述的方法，其进一步在有机碱存在下进行，其中所述脱水剂是Tf2O或P2O5 ；以及R4、R5和R6各自独立地为H或C1-C4-烷基。
3.如权利要求2所述的方法，其中R4、R5和R6各自独立地为H或甲基；和有机碱是吡啶、三乙胺或二异丙基乙胺。
4.如权利要求2或3所述的方法，其中R4、R5和R6中的每一个是H;所述脱水剂是Tf2O ；使用的有机碱的量为相对于化合物(I)至少I当量并且小于脱水剂的量，以当量计。
5.如权利要求1、2、3或4所述的方法，其进一步包括以下步骤:
a)用适宜的还原剂还原式(II)化合物，以形成式(III)化合物:
6.如权利要求1、2、3或4所述的方法，其还包括用适宜的还原剂还原式(II)化合物以形成式(IV)化合物的步骤:
7.方法，其包括用合适的脱水剂将式(V)化合物脱水，
8.如权利要求7所述的方法，其中所述脱水剂是Tf2O或P205。
9.如权利要求7或8所述的方法，其中所述脱水剂是Tf2O;和R2是甲基或乙基。
10.如权利要求7、8或9所述的方法，其中所述方法在有机碱存在下进行，所述有机碱的量为相对于化合物(V)至少I当量并小于脱水剂的量，以当量计。
11.如权利要求7至10中任一项所述的方法，其还包括以下步骤: a)用适宜的还原剂还原式(VI)化合物以形成式(VII)化合物:
12.如权利要求7至10中任一项所述的方法，其进一步包括用适宜的还原剂还原式(VI)化合物以形成式(VIII)化合物的步骤:
13.如权利要求5或11所述的方法，其中所述还原剂是二异丁基氢化铝、LiAlH4、LiBH4或 NaBH4。
14.如权利要求5、11或13所述的方法，其中所述还原剂是LiBH4。
15.如权利要求5、11、13或14所述的方法,其中所述氧化剂是Mn02、Swern氧化剂、2-碘酰基苯甲酸、批唳三氧化硫或Dess-Martin氧化剂。
16.如权利要求5、11、13、14或15所述的方法，其中所述氧化剂是吡啶三氧化硫。
17.如权利要求6或12所述的方法，其中所述还原剂是二异丁基氢化铝。
【文档编号】C07D515/02GK103492393SQ201180035535
【公开日】2014年1月1日 申请日期:2011年7月19日 优先权日:2010年7月20日
【发明者】J·西斯科, D·曼斯, H·尹 申请人:葛兰素集团有限公司