一种制备西曲瑞克的方法
【专利摘要】本发明公开了一种西曲瑞克的制备方法。本发明的具体步骤为：A）以AM树脂为起始树脂，按照西曲瑞克主链肽序依次偶联具有N端Fmoc保护且侧链保护的氨基酸，其中肽序6位氨基酸偶联采用Fmoc-D-Orn(Dde)-OH；B)偶联完成后，脱除Fmoc保护基，然后N端进行乙酰化反应；C)采用体积比3:97的水合肼和DMF组成的混合溶液脱除D-鸟氨酸侧链Dde保护基,然后加入异氰酸叔丁酯，使十肽树脂中的D-鸟氨酸侧链修饰反应得到全保护西曲瑞克肽树脂；D)肽树脂裂解、纯化、脱盐、冻干后可以得到西曲瑞克，其工艺杂质[D-Cit(Ac)6]-西曲瑞克含量小于0.1%。本发明提供了一种纯度高、成本低，适合规模化生产的西曲瑞克的制备工艺，此工艺既能有效控制杂质[D-Cit(Ac)6]-西曲瑞克的含量又不影响西曲瑞克的收率。
【专利说明】一种制备西曲瑞克的方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种多肽类药物的制备方法，特别涉及一种制备西曲瑞克的方法。
【背景技术】
[0002] 西曲瑞克，英名为：Cetrorelix，为一种直链多肽，结构式如下：
【权利要求】
1. 一种西曲瑞克的制备方法，提供了一种纯度高、成本低，适合规模化生产的西曲瑞克 的制备工艺，此工艺既能有效控制杂质[D-Cit (Ac)6]-西曲瑞克的含量又不影响西曲瑞克 的收率，其特征在于，所述方法包括以下步骤： 步骤1，采用固相合成法，以AM树脂为起始树脂，按照西曲瑞克主链肽序依次偶联具有 N端Fmoc保护且侧链保护的氨基酸，其中序列中D-瓜氨酸位置采用Fmoc-D-〇rn (Dde) -0H 偶联； 步骤2,偶联完成后，脱除肽链N端的Fmoc保护基，采用醋酐、N-甲基吗啡啉和DMF的 混合溶液进行乙酰化反应； 步骤3,采用体积比3:97的水合肼和DMF组成的混合溶液脱除D-鸟氨酸侧链Dde保护 基，然后加入异氰酸叔丁酯，使十肽树脂中的D-鸟氨酸侧链修饰反应得到全保护西曲瑞 克肽树脂； 步骤4,肽树脂裂解、纯化、脱盐、冻干后可以得到西曲瑞克，其工艺杂质 [D-Cit (Ac)6]-西曲瑞克含量小于0. 1%。
2. 根据权利要求1所述的方法，其特征是： 其中，步骤1所述的固相合成方法，1)采用Fmoc-NH-AM树脂为起始树脂，采用由体积 比为4: 1的DMF和哌啶组成的去保护液脱除氨基树脂上的Fmoc保护基；2)在偶联剂系统 的存在下，NH2-AM树脂和Fmoc-D-Ala-〇H偶联得到Fmoc-D-Ala-AM树脂；4)重复步骤2)、 3)，按照西曲瑞克主链肽序依次偶联具有N端Fmoc保护且侧链保护的氨基酸，其中序列中 D-瓜氨酸位置米用Fmoc-D-〇rn (Dde) -0H偶联。
3. 根据权利要求1所述的方法，其特征是： 其中，步骤2所述的乙酰化方应为：在脱去Fmoc保护的十肽树脂中加入体积比为 1:1:8的醋酐、N-甲基吗啡啉和DMF组合的混合溶液反应l~2h。
4. 根据权利要求1所述的方法，其特征是： 其中，步骤3所述的D-鸟氨酸侧链氨基修饰反应的步骤为：采用体积比3:97的水合肼 和DMF组成的混合溶液下脱除D-鸟氨酸侧链的Dde保护基，然后在十肽树脂中加入的异氰 酸叔丁酯，Ac-D-2Nal-D_Phe (4C1) -D-3Pal-Ser (tBu) -Tyr (tBu) -D-Orn-Leu-Arg (Pbf) _Pr o-D-Ala-AM树脂和异氰酸叔丁酯的摩尔比优选1:2(Tl: 40,反应温度：25~35°C，反应时间 为 12?18 小时；更优选，六。-〇-2恥1-〇-卩1^(4(：1)-〇-3?&1-561'(七811)-丁71'(七811)-〇-〇111-1^11-Arg (Pbf) -Pro-D-Ala-AM树脂和异氰酸叔丁酯的摩尔比优选1:20,反应温度：25°C，反应时 间为12小时。
5. 根据权利要求2所述的方法，其特征是： 所述偶联剂系统包括缩合剂和反应溶剂，所述缩合剂选自DIC/HOBt、PyBOP/HOBt/DIEA 或HATU/HOBt/DIEA ;所述反应溶剂选自DMF、DCM、NMP或他们之间的组合。
【文档编号】C07K1/107GK104086632SQ201410265578
【公开日】2014年10月8日 申请日期:2014年8月5日 优先权日:2014年8月5日
【发明者】周俊, 路杨, 杨东晖, 周亮 申请人:杭州诺泰制药技术有限公司