隐形眼镜材料的制造方法和软质隐形眼镜的制造方法

文档序号:3694592阅读:366来源:国知局

专利名称::隐形眼镜材料的制造方法和软质隐形眼镜的制造方法
技术领域
:本发明涉及表面光滑且水润湿性和耐久性优良的隐形眼镜材料的制造方法和使用通过所述方法得到的隐形眼镜材料制造软质隐形眼镜的方法。
背景技术
:有人根据临床结果指出,当佩戴隐形眼镜时,来自大气的氧气的供应量会下降,其结果会导致角膜上皮细胞的分裂被抑制或角膜肥厚。因此,为了供应安全性更高的隐形眼镜,人们尝试改良素材的氧透过性。众所周知,含水性软质隐形眼镜由于其材料的柔软性而佩戴感好,但是,由于眼镜的含水率,其氧透过性与硬质隐形眼镜相比较低。例如当为含水性软质隐形眼镜时,含水率80%的素材的氧透过系数为约40X1(T11(cm2/sec)(mL02/mLXmmHg)左右,无法向角膜供应充足的氧气量。从这方面考虑,为了提高软质隐形眼镜的氧透过性,有人提出了以含聚硅氧烷单体、硅氧烷大分子单体、及用于防止耐污染的含氟单体为眼镜成分的隐形眼镜。例如,日本专利文献特开2001—311917号公报公开了使用侧链上具有二甲基硅氧垸结构的大分子单体的、柔软性和氧透过性优良的软质隐形眼镜基体材料。但是,一般来说,如果在眼镜素材中使用聚硅氧烷成分和氟成分,则眼镜表面的水润湿性有降低的倾向,其结果,容易附着泪液成分中的污物,根据情况也有时会使佩戴感变差。从上述事项出发,为了进一步提高隐形眼镜表面的水湿润性,有人提出了各种表面处理方法。日本专利文献特公昭63-040293号公报公开了以下处理方法,即,在实质上不含氮和氧的烃气氛下对聚硅氧烷或聚氨脂眼镜进行涂布,接着向这些眼镜供应氧气,由此增大眼镜表面的亲水性。在这样的涂布方法中,聚硅氧烷水凝胶眼镜在非含水状态下受到等离子处理。但是,为使眼镜成为最终产品,还需要对等离子处理后的眼镜使用乙醇等有机溶剂除去残留在眼镜中的对生物体不好的未聚合单体和低聚物等,之后,置换为生理盐水或软质隐形眼镜用保存液(填充液)等,连续实施高压蒸气灭菌处理。在使用上述乙醇等有机溶剂的萃取工序、和使用生理盐水或软质隐形眼镜用保存液的含水工序中,眼镜的体积溶胀1050%左右。由于该涂布膜为在烃气氛下形成的交联密度极高的刚硬膜,因此存在聚合膜剥离或眼镜表面产生裂纹等问题。另外,在上述萃取或溶胀工序中形成的膜的剥离或裂纹由于连续实施的高压蒸气灭菌处理而使不良程度越发显著,从而变得不适合作为与眼镜直接接触的隐形眼镜。另外,日本专利文献特开昭62-031803号公报公开了通过饱和烃和氧的混合气体进行等离子处理的方法。但是,在通过饱和烃和氧的混合气体进行等离子聚合当中,通过等离子制成的聚合膜与形成在眼镜上的膜相比,由于氧等离子体的蚀刻效果而由蚀刻来切削的速度比例变大。因此,为了达到期望的膜厚特别花费处理时间,因此该方法在商业上使用时会存在问题。另外,在高分子论文集(vo1.42、No.ll、P841-847、1985)上作为"对硅橡胶隐形眼镜表面等离子聚合的应用及其效果"记载有使用N—乙烯基一2—吡咯烷酮(以下,称为NVP)单体的、水润湿性和耐久性优良的聚合膜。在该方法中,可以形成水润湿性和耐久性优良的聚合膜。但是,众所周知,涂布中使用的NVP在气化状态下具有致癌性,当将以这样的NVP为代表的有机单体用作等离子处理的气体时,必须对操作人员和作业场所的安全严加防范。因此,该方法在商业上应用也存在问题。
发明内容因此,本发明的目的在于提供一种表面光滑且水润湿性和耐久性优良的隐形眼镜材料,特别是,提供如下的隐形眼镜材料,即在非含水状态下对眼镜表面进行涂布后,即使经过使用乙醇等有机溶剂的萃取工序、使用生理盐水或软质隐形眼镜用保存液的含水工序以及连续实施的高压蒸气灭菌处理工序后,在眼镜表面上形成的膜也经得起眼镜的体积溶胀,眼镜表面不会产生膜的缺损等佩戴问题,具有优良的光滑性,并且具有在佩戴时充分的表面水润湿性和耐久性。本发明涉及隐形眼镜材料的制造方法,所述隐形眼镜材料包括隐形眼镜基体材料和形成在该基体材料表面的至少一部分上的覆膜,在隐形眼镜材料的制造方法中,对所述隐形眼镜基体材料在甲烷和润湿空气的混合气体气氛下进行等离子聚合处理,然后在非聚合性气体气氛下进行等离子处理,由此形成所述覆膜。并且,本发明还提供一种软质隐形眼镜的制造方法,使通过上述方法制造出的软质隐形眼镜材料含水,得到软质隐形眼镜。根据本发明,可以提供表面光滑且水润湿性和耐久性优良的隐形眼镜,特别是,可以提供由包含作为眼镜成分的聚硅氧垸的水凝胶形成的软质隐形眼镜。图1表示在实施例1中得到的眼镜表面的显微镜照片(175倍);图2表示在实施例2中得到的眼镜表面的显微镜照片(175倍);图3表示在实施例3中得到的眼镜表面的显微镜照片(H5倍);图4表示在实施例5中得到的眼镜表面的显微镜照片U75倍);图5表示在比较例1中得到的眼镜表面的显微镜照片(175倍);图6表示在比较例3中得到的眼镜表面的显微镜照片(175倍);图7表示在比较例4中得到的眼镜表面的显微镜照片(175倍);图8表示在比较例5中得到的眼镜表面的显微镜照片(175倍)。具体实施例方式以下,对本发明进行更加详细的说明。(隐形眼镜材料的制造方法)本发明涉及隐形眼镜材料的制造方法,该隐形眼镜材料包括隐形眼镜基体材料和形成在该基体材料表面的至少一部分上的覆膜。在本发明的隐形眼镜材料的制造方法中,对所述隐形眼镜基体材料在甲垸和润湿空气的混合气体气氛下进行等离子聚合处理,然后在非聚合性气体气氛下进行等离子处理,由此形成覆膜。所述隐形眼镜基体材料可以为具有隐形眼镜形状、可成为水凝胶的聚合物,优选含有聚硅氧烷、可成为水凝胶的共聚物,也可以使用以往公知作为软质隐形眼镜用基体材料的材料。具体地说,作为这样的隐形眼镜基体材料,可以列举出由共聚物形成的隐形眼镜基体材料,所述共聚物通过聚合包括至少一种含聚硅氧垸单体或含聚硅氧垸大分子单体和至少一种亲水性单体的混合物而得到。作为可应用的聚硅氧烷单体,例如可以列举出三(三甲基甲硅氧基)一Y—甲基丙烯酰氧基丙基甲硅烷(日文原文卜U(卜!i少于/w乂口年v)-少夕夕!i口年V7。口匕。/p、y,/),另外,作为含聚硅氧垸大分子单体,可以列举出如下述通式(I)所示的侧链上具有聚硅氧烷结构、数均分子量为约100010,000的硅氧烷大分子单体:另外,作为亲水性单体,可以列举出甲基丙烯酸2—羟基乙酯(日文原文2-匕K口年、乂工于/k乂夕夕y^—卜)、N,N—二甲基丙烯酰胺(日文原文N、N-^乂千/P7夕U/P7SK)、N—乙烯基一2—吡咯垸酮(日文原文N-匕'二/W2-匕。口UK乂)以及甲基丙烯酸等。对可在本发明中使用的隐形眼镜基体材料的详细情况可以参照日本专利文献特开2001-311917、特表平10-509763号公报、特开2003-228029号公报、特表平11-502894号公报等。[化l]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage6</formula>[式中,R!、R2和R3各自独立地选自C1C4烷基,R4选自C1C6垸基,Rs是脂肪族、脂环族或芳香族二异氰酸酯脱除NCO后的残基,R6、R7、R8和R9各自独立地选自ClC3亚烷基,n是480的整数,m和p各自独立地是340的整数。]在使用各种现有技术(例如,束紧切削制法、旋转浇铸制法、浇铸模具制法等)制造出所述隐形眼镜基体材料后,当在浇铸制法中从模具中取出眼镜后,可以附加覆膜形成处理(在所述混合气体气氛下进行等离子聚合处理和在非聚合性气体气氛下进行等离子处理)。在本发明中,在所述隐形眼镜基体材料的表面的至少一部分上形成覆膜。所述覆膜通过如下处理而形成,S卩,对隐形眼镜基体材料在甲垸和润湿空气的混合气体气氛下进行等离子聚合处理(以下,称为第一工序),接着在非聚合性气体气氛下进行等离子处理(以下,称为第二工序)。本发明中的"等离子聚合处理"是指在等离子聚合装置内以恰当的真空度通过放电形成等离子状态,在基体材料表面上形成由聚合性气体组成的薄膜(聚合膜),"等离子处理"是指使用非聚合性气体对基体材料表面的最外层进行改质。第一工序在第一工序中,将隐形眼镜基体材料在甲烷和润湿空气的混合气体气氛下进行等离子聚合处理。具体地说,在将隐形眼镜基体材料放入到等离子聚合装置内后,进行真空抽吸以使得装置内的压力为一定的范围以下。当将隐形眼镜基体材料送入到真空装置中进行真空处理时,除了装置表面的吸附气体、内部的吸藏气体、以及来自密封材料的排出气体以外,从作为处理对象的隐形眼镜基体材料中也排出吸附的气体和水分等。因此,在进行等离子聚合处理前,将装置的压力保持恒定,从而可以降低处理批次之间和处理批次内的品质偏差,从实用性、商业性的角度考虑非常理想。作为真空抽吸的目标达到压力,优选1.35Pa以下,更优选1.30Pa以下。如果为1.35Pa以下,如上所述,则可以降低由于装置表面的吸附气体和吸附在隐形眼镜基体材料上的气体等影响而引起的处理批次之间和处理批次内的品质偏差(涂布膜厚的偏差),从而非常理想。这样,为了将装置内的气体排出到一定的范围,既可以使用具有可达到目标真空度的能力的真空泵,也可以使用油封机械真空泵或干燥泵等广泛公知的泵。另外,测量装置内的真空度的测量器只要是能够测量规定范围的压力的真空计任何一种均可,例如,可以列举出隔膜式真空计、皮拉尼真空计等。另外,在本发明中,为了均匀且有效地处理作为处理对象的隐形眼镜基体材料的表面(前曲面和底部曲面),优选将隐形眼镜基体材料装载在用于支承基体材料的托盘上。此时,就支承隐形眼镜基体材料而言,由于装置内为接近真空的状态,为了提高处理时隐形眼镜基体材料的稳定性,优选通过接触隐形眼镜基体表面1%以上的线接触支承隐形眼镜基体材料。另外,作为托盘的材质,可以使用一般在真空装置中使用的材质,例如不锈钢等。在使装置内的真空度达到规定的压力范围后,向装置内导入甲垸和润湿空气的混合气体,在眼镜表面形成具有可经受住眼镜的溶胀变化的柔软度、且水润湿性和耐久性优良的覆膜的基座。在第一工序中,通过使用润湿空气,使眼镜表面的涂布膜成为具有柔软性的覆膜,即使在经过例如通过乙醇等有机溶剂的萃取(以下,称为乙醇萃取)和使用生理盐水等的含水工序后,也可以形成光滑的表面,而不会在眼镜的表面的涂布膜上产生裂纹等。本发明的润湿空气是指包含100ppm以上的水分,优选干燥空气中包含150ppm以上的水分,更优选1501000ppm,进一步优选150400ppm。此时,如果干燥空气中所包含的水分不足150ppm,则在眼镜表面上形成的膜的交联密度增加,容易成为刚硬膜,在以乙醇萃取为代表的溶胀工序中容易发生裂纹等,因此不优选。作为润湿空气的调制方法,可以列举出在干燥空气制造时将水分作为杂质混入其中的方法;在将干燥空气导入到装置内时通过连续通过蒸馏水而混入的方法;以及在例如圆底烧瓶等玻璃容器中使蒸馏水沸腾,将所得到的蒸气和干燥空气混合后,导入到装置内的方法等。在第一工序中使用的甲烷和润湿空气的混合比(甲烷润湿空气)以体积基准优选为50:5070:30。当润湿空气的比例多于该比例时,形成在眼镜表面上的膜的形成速度会降低(增加处理时间)或者在成为最终产品前在实施高压蒸气灭菌后水润湿性会降低,从而不优选。另外,当甲烷的比例多于该比例时,在眼镜表面形成的膜容易变得刚硬,由于溶胀使尺寸发生变化,从而产生该刚硬的聚合膜的剥离、裂纹等,不适于作为柔软的在软质隐形眼镜上形成的膜。上述混合比更优选为55:4565:35。在第一工序中,可以将甲烷和润湿空气混合后的混合气体导入到装置内,也可以分别导入甲烷和润湿空气,在装置内成为混合气体。在第一工序中,优选的是,向装置内不断地持续供应气体,在通过真空泵将装置内的压力保持为恒定的情况下,进行等离子聚合处理。对于导入到装置内的甲烷和润湿空气的混合气体的流量,例如当装置的内部体积为150700L左右时,优选为1.520sccm,进一步优选为210sccm。优选在将气体导入到装置内、并在装置内的压力稳定后进行第一工序中的等离子聚合处理。放电时的处理条件可以适当选择,但是,例如优选装置内的压力为410Pa、放电输出为1080W、等离子发生的电源为615KHz左右的低频率。另外,作为装置,可以列举出内部电极型、外部电极型等,但是,无论哪种情况都可以使用公知的装置进行实施。对于第一工序中的等离子聚合处理时间,考虑期望的膜厚进行设定即可,例如可以为320分钟,优选为410分钟。第二工序第二工序是在非聚合性气体气氛下对所述第一工序后的隐形眼镜基体材料进行等离子处理的工序。对于本发明,在第一工序中在隐形眼镜基体材料表面形成覆膜的基座后,通过进行第二工序,可以提高覆膜的亲水性。在第二工序中使用的非聚合性气体具有蚀刻的效果,即,具有蚀刻在第一工序中形成在眼镜基体材料上的覆膜以提高覆膜的亲水性的作用。第二工序可以在与第一工序相同的等离子装置中进行,也可以在不同的等离子装置中进行。从操作性等方面考虑,优选第二工序紧接在第一工序后在相同的等离子装置内进行。此时,在第一工序后,暂且排出装置内的处理气体后,导入第二工序中使用的非聚合性气体。在第一工序中,当为聚硅氧烷水凝胶时,在通过使用蒸馏水的液滴法进行接触角测量当中,例如在未处理时,可以使水润湿性提高到105°的接触角变成约50°60°的程度,但是,通过该第二工序可以赋予眼镜表面以更好的亲水性,在上述的情况下,例如可以将接触角提高到40。左右。第二工序中使用的非聚合性气体是指通过等离子处理不具有沉积在表面上的性质的气体,大致区分为如惰性气体那样不会促进化学反应的气体和可促进化学反应但不具有沉积在表面上的性质的气体。具体地说,可以列举出氦、氩、H2、02、N2、H20、NH3、空气等,其中,优选氧、氩、空气,特别优选氧。另外,上述空气也可以为润湿空气。作为润湿空气,可以使用前面在第一工序中提到的润湿空气。在第二工序中,也优选的是,向装置内不断地持续供应气体,在通过真空泵将装置内的压力保持为恒定的情况下,进行等离子处理。优选等离子装置内的压力为410Pa、放电输出为1080W、等离子发生的电源为615KHz左右的低频率。另外,当等离子装置的内部体积例如为150700L左右时,非聚合性气体的流量优选为1.520sccm,进一步优选为210sccm。对于第二工序中的等离子处理时间,考虑在第二工序中使用的处理气体的蚀刻速度等来进行设定即可,例如可以为30秒5分钟,优选为13分钟。通过以上的工序,可以在隐形眼镜基体材料表面形成覆膜。覆膜形成在基体材料表面的至少一部分上即可,但是,优选形成在整个基体材料表面上。所述覆膜的厚度对眼镜表面的水润湿性和耐久性来说较为重要。膜的厚度可以通过使用自动椭圆偏振测厚仪来测量。作为代替使用自动椭圆偏振测厚仪直接测量形成在隐形眼镜基体材料上的覆膜的厚度的方法,也可以将眼镜和硅片装载在运送托盘上的任意位置上,测量形成在硅片上的膜的厚度,将该膜厚视为形成在隐形眼镜基体材料上的覆膜的厚度。所述覆膜的厚度优选为90250A,更优选为100200A。如果覆膜的厚度为90A以上,则覆膜的耐热性高,在高压蒸气灭菌后水润湿性不会降低,从而加以优选。另外,如果覆膜的厚度为250A以下,则可以得到较高的氧透过性。(软质隐形眼镜的制造方法)在本发明的软质隐形眼镜的制造方法中,使通过上述方法制造出的隐形眼镜材料含水,而得到软质隐形眼镜。含水可以通过公知的方法进行。具体地说,可以将通过所述方法得到的隐形眼镜材料浸渍在生理盐水或软质隐形眼镜用保存液等中,由此使其含水。对所述含水处理后的软质隐形眼镜可以通过例如高压蒸气进行灭菌处理。另外,也可以通过有机溶剂对所述含水处理前的隐形眼镜材料施加萃取处理。可以通过公知的方法进行该萃取处理,通过该处理可以去除残留在隐形眼镜材料中的对生物体不好的未聚合的单体和低聚物等。由于通过本发明的方法得到的隐形眼镜材料在其表面上具有高柔软性的覆膜,因此可以防止、减少上述萃取处理和含水处理中的覆膜的剥离、裂纹等的发生。由此,根据本发明,可以得到具有较高的表面光滑性且水润湿性和耐久性优良的软质隐形眼镜。以下,通过实施例进一步说明本发明,但是本发明不限于以下的实施例。l.隐形眼镜基体材料的制造制造例A:大分子单体的合成向三口烧瓶加入异佛尔酮二异氰酸酯8.88g、作为催化剂的二月桂酸二丁基锡0.025g以及二氯甲垸45mL,在氮气流下搅拌。然后,精秤a—丁基一"一[3—(2,2—二(羟甲基)丁氧基)丙基]聚二甲基硅氧烷(日文原文a-:/千/""陽[3陽(2,2-(-匕K口fvk)7、、K年、y)7。口匕。/^]求^、2>于》7口年廿>020g,用约3小时的时间滴加到烧瓶内使其反应。在室温下反应48小时后,进一步精称二月桂酸二丁基锡0.025g、聚乙二醇一单甲基丙烯酸酯(PE—350)23.3g,用约30分钟时间滴加到烧瓶内。用铝箔覆盖混合物,并进行搅拌直至IR(红外线吸收谱)分析时异氰酸酯产生的吸收带(2260cm—"消失(在室温下反应约48小时)。向此溶液中进一步添加二氯甲烷后,用大量水洗净,进行脱水、过滤后蒸出溶剂,由此可以得到数均分子量2,000(聚苯乙烯换算)的大分子单体。制造例A—h隐形眼镜基体材料的制造将在制造例A中得到的硅氧烷大分子单体约3.9g、三(三甲基甲硅氧基)一Y—甲基丙烯酰氧基丙基甲硅烷约15g、N,N—二甲基丙烯酰胺约ll.lg、作为着色剂的l一苯胺基一4一(4一乙烯基苄基)氨基蒽醌(曰文原文1-7二];乂隱4-(4-匕、二/P^y^W)73乂7乂卜,年乂y)约0.003g、作为聚合引发剂的苯基二(2,4,6—三甲基苯甲酰基)氧化膦(曰文原文7工二/Ptf7(2,4,6-卜]j乂千/1^<乂、/一/^)求77<乂才年,,K)约0.18g在室温下混合约20小时,调制成单体混合液。然后,将该单体混合液填充到由聚丙烯制成的、呈隐形眼镜形状的模具中,组装完上模和下模后,照射约35mW/cm2的紫外线可见光线(380450nm)20分钟,完成聚合。聚合结束后,从模具中取出聚合物,得到隐形眼镜基体材料。制造例A—2:隐形眼镜的制造将在制造例A中得到的硅氧烷大分子单体约4.5g、三(三甲基甲硅氧基)一Y—甲基丙烯酰氧基丙基甲硅烷约15g、N,N—二甲基丙烯酰胺约10.5g、苯基二(2,4,6—三甲基苯甲酰基)氧化膦约0.18g在室温下混合约20小时,调制成单体混合液。然后,将该单体混合液填充到由聚丙烯制成的、呈隐形眼镜形状的模具中,组装完上模和下模后,照射约35mW/cn^的紫外线可见光线(380450nm)20分钟,完成聚合。聚合结束后,从模具中取出聚合物,得到隐形眼镜基体材料。实施例1将在制造例A—l中得到的隐形眼镜放入到等离子聚合装置内(内部体积约170L),进行真空抽吸直至压力达到1.24Pa。然后,以甲烷和润湿空气(水分浓度150ppm)的混合比(甲烷润湿空气)60:40(气体流量甲垸=1.8(sccm)、润湿空气=1.2(sccm))将混合气体导入到装置内,在压力4Pa、频率10kHz、放电电力40W下进行等离子聚合处理6分钟。接着,在暂且排出装置内的处理气体后,将氧气3(sccm)导入到装置内,在压力4Pa、频率10kHz、放电电力40W下进行等离子处理2分钟。使用自动椭圆偏振测厚仪测量不仅形成在眼镜上、也形成在处理后的硅片上的膜厚,其结果为约200A。处理后的眼镜在甲醇中浸渍约5小时后,置换为软质隐形眼镜用填充液,然后填充到出货用眼镜盒中后,在121°C、30分钟的条件下进行高压蒸气灭菌处理。所得到的眼镜通过以下的方法进行水润湿性(测量接触角)和表面亲水性膜的耐久性(擦洗耐久性)的评价。表1示出了这些结果。如表1所示,对于在本实施例中得到的眼镜,表面光滑柔软,水润湿性和耐久性优良,作为软质隐形眼镜具有令人满意的物理性质。(i)眼镜的外观检査擦去眼镜表面的水分后,使用KEYENCE公司制造的数字HF显微镜VH—8000观察眼镜表面有无瑕疵和裂纹。(ii)表面水润湿性的评价(测量接触角)擦去眼镜表面的水分后,将眼镜粘贴在保持台上,通过使用蒸馏水的液滴法测量接触角。(m)擦洗耐久性实验将眼镜放在手心上,使用软质隐形眼镜用洗涤液擦洗眼镜的表面、里面后,用蒸馏水充分地洗涮。以上述操作作为i次,反复进行洗涤操作。洗涤次数经过10、20、30次后,通过上述(ii)所示的方法进行接触角测量,评价表面亲水性膜的耐久性。实施例2将在制造例A—l中得到的隐形眼镜放入到等离子聚合装置内(内部体积约170L),进行真空抽吸直至压力达到1.24Pa。然后,以甲烷和润湿空气(水分浓度150ppm)的混合比(甲垸润湿空气)60:40(气体流量甲烷=1.8(sccm)、润湿空气=1.2(sccm))将混合气体导入到装置内,在压力4Pa、频率10kHz、放电电力40W下进行等离子聚合处理5分钟。接着,在暂且排出装置内的处理气体后,将氧气3(sccm)导入到装置内,在压力4Pa、频率10kHz、放电电力40W下进行等离子处理2分钟。使用自动椭圆偏振测厚仪测量不仅形成在眼镜上、也形成在处理后的硅片上的膜厚,其结果为约170A。处理后的眼镜的处理和评价与实施例1相同。表1示出了眼镜的评价结果。眼镜表面光滑柔软(图2),水润湿性和耐久性优良,作为软质隐形眼镜具有令人满意的物理性质。将在制造例A—l中得到的隐形眼镜放入到等离子聚合装置内(内部体积约170L),进行真空抽吸直至压力达到1.28Pa。然后,以甲烷和润湿空气(水分浓度150ppm)的混合比(甲垸润湿空气)60:40(气体流量甲烷=1.8(sccm)、润湿空气二1.2(sccm))将混合气体导入到装置内,在压力4Pa、频率10kHz、放电电力40W下进行等离子聚合处理4.5分钟。接着,在暂且排出装置内的处理气体后,将氧气3(sccm)导入到装置内,在压力4Pa、频率10kHz、放电电力40W下进行等离子处理2分钟。使用自动椭圆偏振测厚仪测量不仅形成在眼镜上、也形成在处理后的硅片上的膜厚,其结果为约150A。处理后的眼镜的处理和评价与实施例1相同。表1示出了眼镜的评价结果。眼镜表面光滑柔软(图3),水润湿性和耐久性优良,作为软质隐形眼镜具有令人满意的物理性质。实施例4将在制造例A—2中得到的隐形眼镜放入到等离子聚合装置内(内部体积约170L),进行真空抽吸直至压力达到1.25Pa。然后,以甲烷和润湿空气(水分浓度250ppm)的混合比(甲垸润湿空气)67:33(气体流量甲烷=2(sccm)、润湿空气=1(sccm))将混合气体导入到装置内,在压力4Pa、频率15kHz、放电电力44W下进行等离子聚合处理6分钟。接着,在暂且排出甲垸和润湿空气的混合气体后,将氧气3(sccm)导入到装置内,在压力4Pa、频率15kHz、放电电力44W下进行等离子处理1分钟。使用自动椭圆偏振测厚仪测量不仅形成在眼镜上、也形成在处理后的硅片上的膜厚,其结果为约220A。处理后的眼镜的处理和评价与实施例1相同。表1示出了眼镜的评价结果。眼镜表面光滑柔软,水润湿性和耐久性优良,作为软质隐形眼镜令人满意。将在制造例A—l中得到的隐形眼镜放入到等离子聚合装置内(内部体积约170L),进行真空抽吸直至压力达到1.24Pa。然后,以甲烷和润湿空气(水分浓度300ppm)的混合比(甲垸润湿空气)60:40(气体流量甲烷=1.8(sccm)、润湿空气=1.2(sccm))将混合气体导入到装置内,在压力4Pa、频率10kHz、放电电力40W下进行等离子聚合处理6分钟。接着,在暂且排出装置内的处理气体后,将氧气3(sccm)导入到装置内,在压力4Pa、频率10kHz、放电电力40W下进行等离子处理2分钟。使用自动椭圆偏振测厚仪测量不仅形成在眼镜上、也形成在处理后的硅片上的膜厚,其结果为约190A。处理后的眼镜的处理和评价与实施例1相同。表1示出了眼镜的评价结果。眼镜表面光滑柔软(图4),水润湿性和耐久性优良,作为软质隐形眼镜具有令人满意的物理性质。实施例6将在制造例A—1中得到的隐形眼镜放入到等离子聚合装置内(内部体积约170L),进行真空抽吸直至压力达到1.24Pa。然后,以甲烷和润湿空气(水分浓度300ppm)的混合比(甲烷润湿空气)60:40(气体流量甲垸=1.8(sccm)、润湿空气=1.2(sccm))将混合气体导入到装置内,在压力4Pa、频率10kHz、放电电力40W下进行等离子聚合处理4分钟。接着,在暂且排出装置内的处理气体后,将氧气3(sccm)导入到装置内,在压力4Pa、频率10kHz、放电电力40W下进行等离子处理2分钟。使用自动椭圆偏振测厚仪测量不仅形成在眼镜上、也形成在处理后的硅片上的膜厚,其结果为约120A。处理后的眼镜的处理和评价与实施例1相同。表1示出了眼镜的评价结果。眼镜表面光滑柔软,水润湿性和耐久性优良,作为软质隐形眼镜具有令人满意的物理性质。实施例7将在制造例A—l中得到的隐形眼镜放入到等离子聚合装置内(内部体积约170L),进行真空抽吸直至压力达到1.24Pa。然后,以甲烷和润湿空气(水分浓度300ppm)的混合比(甲垸润湿空气)53:47(气体流量甲烷=1.6(sccm)、润湿空气=1.4(sccm))将混合气体导入到装置内,在压力4Pa、频率10kHz、放电电力40W下进行等离子聚合处理4.5分钟。接着,在暂且排出装置内的处理气体后,将氧气3(sccm)导入到装置内,在压力4Pa、频率10kHz、放电电力40W下进行等离子处理2分钟。使用自动椭圆偏振测厚仪测量不仅形成在眼镜上、也形成在处理后的硅片上的膜厚,其结果为约IOOA。处理后的眼镜的处理和评价与实施例1相同。表1示出了眼镜的评价结果。眼镜表面光滑柔软,水润湿性和耐久性优良,作为软质隐形眼镜具有令人满意的物理性质。比较例1(仅使用烃的处理)将在制造例A—2中得到的隐形眼镜放入到等离子聚合装置内(内部体积约170L),进行真空抽吸直至压力达到1.23Pa。接着,将甲烷3(sccm)导入到装置内,在压力4Pa、频率10kHz、放电电力45W下进行等离子聚合处理6分钟。然后,在暂且排出装置内的处理气体后,将氧气3(sccm)导入到装置内,在压力4Pa、频率10kHz、放电电力40W下进行等离子处理2分钟。使用自动椭圆偏振测厚仪测量不仅形成在眼镜上、也形成在处理后的硅片上的膜厚,其结果为约200A。处理后的眼镜的处理和评价与实施例1相同。表1示出了眼镜的评价结果。观察眼镜的表面,结果眼镜表面产生裂纹,从而不适合作为隐形眼镜(图5)。对于这种情况,可以解释为用甲烷形成的膜在眼镜上形成为刚硬的覆膜,在乙醇萃取和含水工序中,覆膜经受不住眼镜的溶胀比例的变化,从而产生裂纹。比较例2(使用饱和烃和氧的混合气体的处理)将在制造例A—l中得到的隐形眼镜放入到等离子聚合装置内(内部体积约170L),进行真空抽吸直至压力达到1.27Pa。接着,以甲烷1(sccm)和氧2(sccm)的流量将混合气体导入到装置内,在压力4Pa、频率15kHz、放电电力35W下进行等离子聚合处理7分钟。使用自动椭圆偏振测厚仪测量不仅形成在眼镜上、也形成在处理后的硅片上的膜厚,其结果为约70A。处理后的眼镜的处理和评价与实施例1相同。表1示出了眼镜的评价结果。由于形成在眼镜表面上的膜厚薄,因此高压蒸气灭菌后的水润湿性较差,从而不适合用作隐形眼镜。比较例3(使用甲烷和干燥空气的混合气体的处理)将在制造例A—l中得到的隐形眼镜放入到等离子聚合装置内(内部体积约170L),进行真空抽吸直至压力达到1.23Pa。然后,以甲烷和空气(水分浓度0.53ppm以下)的混合比(甲烷空气)60:40(气体流量甲烷=1.8(sccm)、空气=1.2(sccm))将混合气体导入到装置内,在压力4Pa、频率10kHz、放电电力35W下进行等离子聚合处理7分钟。接着,在暂且排出装置内的处理气体后,将氧气3(sccm)导入到装置内,在压力4Pa、频率10kHz、放电电力40W下进行等离子处理2分钟。使用自动椭圆偏振测厚仪测量不仅形成在眼镜上、也形成在处理后的硅片上的膜厚,其结果为约220A。处理后的眼镜的处理和评价与实施例1相同。表1示出了眼镜的评价结果。观察眼镜的表面,结果眼镜表面产生裂纹,从而不适合作为隐形眼镜(图6)。对于这种情况,可以解释为用甲烷和干燥空气的混合气体形成的膜在眼镜上形成为刚硬的覆膜,在乙醇萃取和含水工序中,覆膜经受不住眼镜的溶胀比例的变化,从而产生裂纹。与实施例1相比可知,在第一工序中使用的处理气体存在润湿空气或干燥空气的不同,而由于是否混入水分,结果会产生很大的差异。比较例4(使用甲烷和干燥空气的混合气体的处理)将在制造例A—l中得到的隐形眼镜放入到等离子聚合装置内(内部体积约170L),进行真空抽吸直至压力达到L25Pa。然后,以甲烷和空气(水分浓度0.53ppm以下)的混合比(甲烷空气)67:33(气体流量甲烷=2(sccm)、空气=1(sccm))将混合气体导入到装置内,在压力4Pa、频率10kHz、放电电力35W下进行等离子聚合处理6分钟。接着,在暂且排出装置内的处理气体后,将氧气3(sccm)导入到装置内,在压力4Pa、频率10kHz、放电电力40W下进行等离子处理2分钟。使用自动椭圆偏振测厚仪测量不仅形成在眼镜上、也形成在处理后的硅片上的膜厚,其结果为约150A。处理后的眼镜的处理方法与实施例l相同。表l示出了眼镜的评价结果。观察眼镜的表面,结果眼镜表面产生裂纹,从而不适合作为隐形眼镜(图7)。与实施例1相比可知,在第一工序中使用的处理气体存在润湿空气或干燥空气的差别,而根据是否混入水分的不同,结果会产生很大的差异。比较例5(使用甲垸和润湿空气(水分浓度50ppm)的混合气体的处理)将在制造例A—l中得到的隐形眼镜放入到等离子聚合装置内(内部体积约170L),进行真空抽吸直至压力达到1.23Pa。然后,以甲烷和空气(水分浓度50ppm)的混合比(甲烷空气)60:40(气体流量甲烷=1.8(sccm)、润湿空气=1.2(sccm))将混合气体导入到装置内,在压力4Pa、频率10kHz、放电电力35W下进行等离子聚合处理7分钟。接着,在暂且排出装置内的处理气体后,将氧气3(sccm)导入到装置内,在压力4Pa、频率10kHz、放电电力40W下进行等离子处理2分钟。使用自动椭圆偏振测厚仪测量不仅形成在眼镜上、也形成在处理后的硅片上的膜厚,其结果为约195A。处理后的眼镜的处理和评价与实施例1相同。表1示出了眼镜的评价结果。观察眼镜的表面,结果眼镜表面产生裂纹,从而不适合作为隐形眼镜(图8)。与用甲烷和干燥空气的混合气体处理的比较例3和4相比可知,裂纹的程度有了很大的改善,但是浓度50ppm的水分是充足的。如表l和图5图8所示,如比较例1、35那样,当用实质上不含氮和氧的烃(例如,甲垸)进行覆膜形成处理时、和用甲烷和干燥气体的混合气体进行覆膜形成处理时、以及用甲垸和包含50ppm左右的水分的空气的混合气体进行覆膜形成处理时,眼镜表面产生裂纹,从而不适合作为隐形眼镜。另外,如比较例2那样,当使用饱和烃和氧的混合气体进行覆膜形成处理时,通过饱和烃形成的膜通过氧等离子的蚀刻而被削掉,从而不能将足够厚的膜形成在眼镜表面上,故不能赋予充分的水润湿性。对此,如实施例所示,使用甲烷和润湿空气的混合气体涂布的眼镜表面光滑,且具有表面水润湿性和耐久性优良的表面,适合作为隐形眼镜。<table>tableseeoriginaldocumentpage18</column></row><table>工业实用性根据本发明,可以提供表面光滑且具有水润湿性及耐久性优良的表面的隐形眼镜,特别是,可以提供由包含作为眼镜成分的聚硅氧垸的水凝胶形成的软质隐形眼镜。权利要求1.一种隐形眼镜材料的制造方法,所述隐形眼镜材料包括隐形眼镜基体材料和形成在该基体材料表面的至少一部分上的覆膜,所述隐形眼镜材料的制造方法的特征在于,对所述隐形眼镜基体材料在甲烷和润湿空气的混合气体气氛下进行等离子聚合处理,然后在非聚合性气体气氛下进行等离子处理,由此形成所述覆膜。2.如权利要求1所述的隐形眼镜材料的制造方法,其特征在于,所述隐形眼镜基体材料含有聚硅氧烷。3.如权利要求1或2所述的隐形眼镜材料的制造方法,其特征在于,所述润湿空气包含150ppm以上的水分。4.如权利要求1至3中任一项所述的隐形眼镜材料的制造方法,其特征在于,所述混合气体中的甲垸和润湿空气的混合比(甲垸润湿空气)为50:5070:30。5.如权利要求1至4中任一项所述的隐形眼镜材料的制造方法,其特征在于,所述非聚合性气体是选自氧、氩以及空气中的至少一种。6.—种软质隐形眼镜的制造方法,其特征在于,使通过权利要求15中任一项所述的方法制造出的软质隐形眼镜材料含水,得到软质隐形眼镜。7.如权利要求6所述的软质隐形眼镜的制造方法,其特征在于,包括以下步骤通过有机溶剂对所述含水前的隐形眼镜材料施加萃取处理。全文摘要本发明提供一种表面光滑且水润湿性和耐久性优良的隐形眼镜材料的制造方法。所述隐形眼镜材料包括隐形眼镜基体材料和形成在该基体材料表面的至少一部分上的覆膜,在隐形眼镜材料的制造方法中,对所述隐形眼镜基体材料在甲烷和润湿空气的混合气体气氛下进行等离子聚合处理,然后在非聚合性气体气氛下进行等离子处理,由此形成所述覆膜。并且,本发明还提供一种软质隐形眼镜的制造方法,使通过上述方法制造出的软质隐形眼镜材料含水,得到软质隐形眼镜。文档编号C08J7/00GK101287779SQ200680032418公开日2008年10月15日申请日期2006年8月30日优先权日2005年9月5日发明者今福元申请人:豪雅保健株式会社
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