专利名称：感光性树脂以及利用其的感光性树脂组合物的制作方法
技术领域：
本发明涉及感光性树脂以及利用其的感光性树脂组合物，更详细地，涉及能以低 成本容易地制造的高感光度、特别是用于负型光刻时显示出良好成图性的感光性树脂以及 感光性树脂组合物。
背景技术：
分子中具有自由基聚合性不饱和键结构(乙烯基)的高分子化合物利用乙烯基聚 合引起的交联反应，从而以感光性组合物或热固化组合物用于各种领域。其中，尤其对于主 链具有双酚型芳香族聚酯结构的感光性树脂，由于耐热性、耐药品性优异，因此，到目前为 止提出了许多该感光性树脂，其通常应用于液晶滤色器或黑矩阵、阻焊剂等的光致抗蚀剂 (专利文献1 3)。但是，这些文献中记载的感光性树脂均为在使环氧化合物加成丙烯酸后、用四元 酸二酐进行聚酯化而成的，制造工序烦杂且需要很长时间，因此制造成本较高。另外，对于 光致抗蚀剂，所要求的物性根据用途而不同，但这些感光性树脂的交联密度或酸值的调节 困难，因此，存在无法应用于广泛的用途的缺点。而且，在用于光致抗蚀剂时，还不能说其感 光度等抗蚀特性足够。专利文献1 特开2006-276421号公报专利文献2 特开2006-003860号公报专利文献3 特开平9-325494号公报
发明内容
发明要解决的课题因而，希望提供感光度优异的感光性树脂，其能以低成本容易地制造，而且交联密 度或酸值的调节容易，因此具有应用于广泛的用途的可能，本发明以提供那样的感光性树 脂以及利用该感光性树脂的感光性树脂组合物作为课题。用于解决课题的方法鉴于这种情况，本发明人为了解决上述课题反复进行了潜心研究，结果发现，使特 定的双酚类与二酸酐反应得到的高分子化合物加成具有烯键式不饱和基团的羧酸反应性 化合物所得到的感光性树脂具有以低成本容易地制造的可能，且交联密度或酸值的调节容 易，而且感光度高、成图性优异，从而完成了本发明。即，本发明为感光性树脂，其通过使由以下通式(1)所示的化合物与由以下通式 (2)所示的化合物反应得到的高分子化合物加成具有烯键式不饱和基团的羧酸反应性化合 物而得到。
(式中，X表示4价的羧酸残基。)另外，本发明为感光性树脂组合物，其特征在于含有上述感光性树脂，与光聚合引 发剂和/或光敏剂。发明效果本发明的感光性树脂的耐药品性与耐热性优异，保存稳定性高，具有以低成本容 易地制造的可能，生产率也优异，而且交联密度或酸值的调节容易，因此，具有应用于广泛 用途的可能。另外，使用了该感光性树脂的感光性树脂组合物的感光度高，具有良好的成图 性。
具体实施例方式构成本发明的感光性树脂的高分子化合物是使由以下通式(1)所示的化合物与 后述的通式(2)所示的化合物反应而得到的。[化 9]
权利要求
感光性树脂，其特征在于，其通过使由以下通式(1)所示的化合物与由以下通式(2)所示的化合物反应得到的高分子化合物加成具有烯键式不饱和基团的羧酸反应性化合物而得到，式中，Y表示 CO 、 SO2 、 C(CF3)2 、 Si(CH3)2 、 CH2 、 C(CH3)2 、 O 、环己基、9，9 芴基或直接键合，R1、R2独立地表示氢原子或甲基，n、m独立地表示0～4的数，式中，X表示4价的羧酸残基。FPA00001213692600011.tif,FPA00001213692600012.tif
2.权利要求1所述的感光性树脂，其中，通式(2)所示的化合物相对于100摩尔份由通 式(1)所示的化合物的比例为110 200摩尔份的范围。
3.权利要求1或2所述的感光性树脂，其中，所述具有烯键式不饱和基团的羧酸反应性 化合物由以下通式(3)所示，
4.权利要求1 3中任一项所述的感光性树脂，其中，所述具有 烯键式不饱和基团的羧酸反应性化合物由以下通式(4)所示， R3⑷
5.权利要求1 4中任一项所述的感光性树脂，其是使由通式(1)所示的化合物与由 通式(2)所示的化合物反应得到的高分子化合物进一步加成由以下通式(6)所示的化合物 或水而成的感光性树脂，
6.权利要求1 5中任一项所述的感光性树脂，其中，所述通式(1)中的Y为9，9-芴基。
7.权利要求1 6中任一项所述的感光性树脂，其酸值为30 150mgK0H/g。
8.感光性树脂组合物，其特征在于，其含有权利要求1 7中任一项所述的感光性树 月旨，与光聚合引发剂和/或光敏剂。
9.权利要求8所述的感光性树脂组合物，其还含有分子中具有1个以上不饱和基团的 聚合性单体。
全文摘要
本发明的目的为提供高感光度且成图性优异的感光性树脂，其能以低成本容易地制造，而且交联密度或酸值的调节容易，因此具有应用于广泛用途的可能。该感光性树脂通过使由以下通式(1)所示的化合物与由以下通式(2)所示的化合物反应得到的高分子化合物加成具有烯键式不饱和基团的羧酸反应性化合物而得到。(式(1)中，Y表示-CO-、-SO2-、-C(CF3)2-、-Si(CH3)2-、-CH2-、-C(CH3)2-、-O-、环己基、9，9-芴基或直接键合，R1、R2独立地表示氢原子或甲基，n、m独立地表示0～4的数。)(式(2)中，X表示4价的羧酸残基。)
文档编号C08F290/06GK101970532SQ20098010755
公开日2011年2月9日 申请日期2009年3月25日 优先权日2008年3月25日
发明者宇都宫伸 申请人:综研化学株式会社