专利名称：一种用于生产聚酰亚胺薄膜的亚胺化炉的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种聚酰亚胺薄膜的生产设备，特别涉及一种用于生产聚酰亚胺薄膜的亚胺化炉。
背景技术：
聚酰亚胺薄膜是一种综合性能非常优异的高分子材料，具有特别优异的耐热性、耐低温性、阻燃性、电气性能和力学性能，被广泛应用于电子微电子、航空航天、激光等高科技领域。传统生产聚酰亚胺薄膜的方法是将从流延机上剥取下来的流延膜直接送进亚胺化炉进行高温热亚胺化处理。亚胺化炉内设若干平行的系列辊筒，薄膜进入亚胺化炉卷绕在炉内的系列辊筒上，通过亚胺化炉内的高温处理后产品收卷在亚胺化炉出口处的收卷辊上。这种结构的亚胺化炉的转辊直径小，使得流延膜在进行高温亚胺化处理时，综合力学性能处于较低的水平，限制了薄膜在某些领域内的应用。如电子产品中使用的聚酰亚胺薄膜收缩率要求较低，为O. 3%以下，而利用传统的亚胺化炉生产出的聚酰亚胺薄膜收缩率高，一般为1%以上，不能满足电子产品的需要。
发明内容
本发明的目的就在于克服上述现有技术中存在的不足，而提供一种用于生产聚酰亚胺薄膜的亚胺化炉，该设备通过增加聚酰亚胺薄膜流延法生产线亚胺化炉转辊的直径，从而降低聚酰亚胺薄膜收缩率，使之达到电子产品用聚酰亚胺的要求。如上构思，本发明的技术方案是一种用于生产聚酰亚胺薄膜的亚胺化炉，包括炉体、安装在炉体上的烟囱、炉体内的炉架和安装在炉架上的系列转辊，其特征在于转辊的直径为45_50mm。上述棍筒的最佳直径是48mm。本发明通过增加聚酰亚胺薄膜流延法生产线上亚胺化炉转辊的直径，从而降低聚酰亚胺薄膜收缩率，使收缩率达到了 O. 2% — O. 3%，满足了电子产品使用聚酰亚胺薄膜的要求。
图I是本发明的结构示意图。
具体实施例方式如图所示一种用于生产聚酰亚胺薄膜的亚胺化炉，包括炉体I、安装在炉体上的烟囱2、炉体内的炉架3和安装在炉架上的系列辊筒4。辊筒的直径为48mm。本设备通过增加聚酰亚胺薄膜流延法生产线上亚胺化炉转辊的直径，从而降低聚酰亚胺薄膜收缩率，使收缩率达到了 O. 2%-0. 3%，满足了电子产品使用聚酰亚胺薄膜的要求。
权利要求
1.一种用于生产聚酰亚胺薄膜的亚胺化炉，其特征在于包括炉体、安装在炉体上的烟囱、炉体内的炉架和安装在炉架上的系列转辊；转辊的直径为45-50mm。
2.根据权利要求I所述的一种用于生产聚酰亚胺薄膜的亚胺化炉，其特征在于上述棍筒的最佳直径是48mm。
全文摘要
一种用于生产聚酰亚胺薄膜的亚胺化炉，包括炉体、安装在炉体上的烟囱、炉体内的炉架和安装在炉架上的系列转辊；转辊的直径为45-50mm。本发明通过增加聚酰亚胺薄膜流延法生产线上亚胺化炉转辊的直径，从而降低聚酰亚胺薄膜收缩率，使收缩率达到了0.2%—0.3%，满足了电子产品使用聚酰亚胺薄膜的要求。
文档编号C08J5/18GK102952283SQ20121046223
公开日2013年3月6日 申请日期2012年11月15日 优先权日2012年11月15日
发明者段桂平, 陈瑜霞, 闫宏芹, 丁兰, 陈伟, 王颖慧 申请人:天津华能能源设备有限公司