用于电子产品的分支氨基酸表面活性剂的制作方法

文档序号:35143567发布日期:2023-08-17 21:15阅读:84来源:国知局
用于电子产品的分支氨基酸表面活性剂的制作方法

本公开涉及用于电子器件的分支表面活性剂。更具体而言,本公开涉及通过蚀刻和去除光致抗蚀剂涂层制备电路板中的分支表面活性剂。此类表面活性剂可包括氨基酸的衍生物,其中该衍生物具有表面活性性质。


背景技术:

1、表面活性剂(具有表面活性性质的分子)在制造电路板中在清洁剂、蚀刻剂和光致抗蚀剂剥离剂中被广泛使用。可包含表面活性剂作为乳化剂、润湿剂、发泡剂、分散剂和/或改善铺展性的试剂。

2、表面活性剂可以是不带电荷的、两性离子的、阳离子的或阴离子的。尽管原则上任何表面活性剂类别(例如阳离子型、阴离子型、非离子型、两性型)均是合适的,但制剂可包含来自两个或更多个表面活性剂类别的两种或更多种表面活性剂的组合。

3、通常,表面活性剂是两亲性分子,具有相对不溶于水的疏水性“尾部”基团和相对水溶性的亲水性“头部”基团。这些化合物可以吸附在界面处,比如两种液体、液体与气体或者液体与固体之间的界面。在包含相对极性和相对非极性组分的系统中,疏水性尾部优先与相对非极性的一种或多种组分相互作用,而亲水性头部优先与相对极性的一种或多种组分相互作用。在水和油之间的界面的情况下,亲水性头部基团优先延伸到水中,而疏水性尾部优先延伸到油中。当添加到水-气体界面时,亲水性头部基团优先延伸到水中,而疏水性尾部优先延伸到气体中。表面活性剂的存在破坏了水分子之间的至少一些分子间相互作用,将水分子之间的至少一些相互作用替换为至少一些水分子与表面活性剂之间通常较弱的相互作用。这导致表面张力降低,并且也可用于稳定界面。

4、在足够高的浓度下,表面活性剂可以形成聚集体,其用于限制疏水性尾部暴露于极性溶剂。一种此类聚集体是胶束。在典型的胶束中,分子排列成球体,一种或多种表面活性剂的疏水性尾部优先位于球体内部,而一种或多种表面活性剂的亲水性头部优先位于胶束的外部,在那里头部优先与极性更高的溶剂相互作用。给定的化合物对表面张力的影响及其形成胶束时的浓度可充当表面活性剂的限定特性。


技术实现思路

1、本公开提供了用于预织构化剂(pre-texturing agent)、蚀刻剂和光致抗蚀剂剥离剂的制剂。这些产品可以被配制为包含来自一个或多个本文中公开的表面活性剂类别的一种或多种表面活性剂。表面活性剂可以被用作乳化剂、润湿剂、分散剂和/或改善铺展性的试剂。

2、本公开提供了呈具有表面活性性质的氨基酸衍生物形式的用于预织构化剂、蚀刻剂和光致抗蚀剂剥离剂的表面活性剂。氨基酸可以是天然存在的或合成的,或者它们可以经由分子如内酰胺(例如己内酰胺)的开环反应获得。可以使氨基酸官能化以形成具有表面活性性质的化合物。特征性地,这些化合物可具有低临界胶束浓度(cmc)和/或降低液体表面张力的能力。

3、本公开提供了用于预织构化剂的制剂,包含至少一种式i的表面活性剂:

4、

5、其中r1和r2独立地选自氢、氧原子和c1-c6烷基,其中c1-c6烷基可被羧酸盐、羟基、磺酰基或磺酸根取代;n为2-5的整数(包括2和5);r3为c5-c12烷基;r4为c3-c10烷基;末端氮任选进一步被r5取代,其中r5选自氢、氧原子和c1-c6烷基,其中c1-c6烷基可被羧酸盐、羟基、磺酰基或磺酸根取代;以及任选的抗衡离子可与化合物缔合,并且如果存在,则抗衡离子可选自氯离子、溴离子、碘离子和4-甲基苯磺酸根;一种或多种消泡剂、任选的一种或多种酸、任选的一种或多种碱、任选的一种或多种螯合剂以及一种或多种溶剂。

6、本公开进一步提供了用于蚀刻剂的制剂,包含至少一种式i的表面活性剂:

7、

8、其中r1和r2独立地选自氢、氧原子和c1-c6烷基,其中c1-c6烷基可被羧酸盐、羟基、磺酰基或磺酸根取代;n为2-5的整数(包括2和5);r3为c5-c12烷基;r4为c3-c10烷基;末端氮任选进一步被r5取代,其中r5选自氢、氧原子和c1-c6烷基,其中c1-c6烷基可被羧酸盐、羟基、磺酰基或磺酸根取代;以及任选的抗衡离子可与化合物缔合,并且如果存在,则抗衡离子可选自氯离子、溴离子、碘离子和4-甲基苯磺酸根;氢氟酸(hf)、一种或多种溶剂、任选的一种或多种氧化剂以及一种或多种络合剂。

9、本公开还提供了用于光致抗蚀剂剥离剂的制剂,包含至少一种式i的表面活性剂:

10、

11、其中r1和r2独立地选自氢、氧原子和c1-c6烷基,其中c1-c6烷基可被羧酸盐、羟基、磺酰基或磺酸根取代;n为2-5的整数(包括2和5);r3为c5-c12烷基;r4为c3-c10烷基;末端氮任选进一步被r5取代,其中r5选自氢、氧原子和c1-c6烷基,其中c1-c6烷基可被羧酸盐、羟基、磺酰基或磺酸根取代;以及任选的抗衡离子可与化合物缔合,并且如果存在,则抗衡离子可选自氯离子、溴离子、碘离子和4-甲基苯磺酸根;烷醇胺;亚砜或砜化合物;和二醇醚。

12、结合附图,通过参考以下实施方案的描述,本公开的上述和其它特征以及实现它们的方式将变得更加显而易见并且将被更好地理解。



技术特征:

1.用于预织构化剂的制剂,其包含:

2.权利要求1所述的制剂,其进一步包含一种或多种酸。

3.权利要求1所述的制剂,其进一步包含一种或多种碱。

4.权利要求1所述的制剂,其进一步包含一种或多种螯合剂。

5.权利要求1所述的制剂,其中所述表面活性剂包含以下至少一种:

6.用于预织构化剂的制剂,其包含:

7.权利要求6所述的制剂,其进一步包含一种或多种酸。

8.权利要求6所述的制剂,其进一步包含一种或多种碱。

9.权利要求6所述的制剂,其进一步包含一种或多种螯合剂。

10.权利要求6所述的制剂,其进一步包含一种或多种溶剂。

11.权利要求6所述的制剂,其中所述表面活性剂包含以下至少一种:

12.用于蚀刻剂的制剂,其包含:

13.权利要求12所述的制剂,其进一步包含一种或多种氧化剂。

14.权利要求12所述的制剂,其进一步包含一种或多种络合剂。

15.权利要求12所述的制剂,其中所述表面活性剂是包含以下至少一种的表面活性剂:

16.用于光致抗蚀剂剥离制剂的制剂,其包含:

17.权利要求16所述的制剂,其进一步包含亚砜。

18.权利要求16所述的制剂,其进一步包含砜。

19.权利要求16所述的制剂,其进一步包含二醇醚。

20.权利要求16所述的制剂,其中所述表面活性剂包含以下至少一种:


技术总结
预织构化剂、蚀刻剂和光致抗蚀剂剥离剂可被配制为包含来自一个或多个表面活性剂类别的一种或多种分支表面活性剂,比如具有表面活性性质的氨基酸衍生物。

技术研发人员:E·阿西瓦坦
受保护的技术使用者:艾德凡斯化学公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/14
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