本申请涉及本发明涉及聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)材料加工，具体涉及一种聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)基瑞利散射型光扩散板材料及加工工艺。
背景技术：
1、目前，有研究表明，在有阳光进入的室内环境中人们感觉更加舒适，阳光照射减少了人们工作压力和消极影响，增强了舒畅情绪和工作效率，并且从长远来看，改善了居住在室内的人的身心健康；然而室内某些地方却不能够让阳光照射进来，例如没有自然环境光的办公室、会议室、地下商场等场所，当外界没有明显的视野时，这些封闭的办公室和房间易让人感到压抑，所以有很多报道瑞利散射阳光灯系统，通过阳光灯系统创建虚拟太阳和漫射蓝天效果，给人们创造以更加舒适的工作环境。现有技术如cn112980125a中散射粒子的使用含量、尺寸过大或者过小等会导致粒子分布不均匀、难以创建虚拟太阳和漫射蓝天的效果。
2、pmma基瑞利散射型光扩散板是可以实现漫射蓝光效果的新型光学材料之一，瑞利散射效果的好与坏，与散射粒子的使用含量和分散性息息相关，一旦分散不匀，势必影响透光率和雾度，从而减弱瑞利散射效果，本发明可以有效地降低瑞利散射剂的团聚，完美的解决了纳米颗粒在聚合物基体中分散不匀的问题。
技术实现思路
1、本发明的目的在于提供一种聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)基瑞利散射型光扩散板材料及其加工工艺，以解决上述背景技术中提出的问题。
2、为了达到上述目的，本申请采用以下技术方案：
3、一种pmma基瑞利散射型光扩散板材料，包括聚丙烯酸甲酯、瑞利散射剂和分散剂，其特征在于：上述原料的组分配比按重量百分比计为，聚甲基丙烯酸甲酯99.491～99.895％、瑞利散射剂0.005～0.009％、分散剂0.1～0.5％。
4、一种上述pmma基瑞利散射型光扩散板材料的制备方法，包括如下步骤：
5、步骤一，瑞利散射剂的等离子处理；
6、步骤二，pmma与瑞利散射剂和分散剂按比例搅拌混合；
7、步骤三，双螺杆挤出造粒；
8、步骤四，根据光扩散板制备工艺，采用挤压成型的方式制备pmma基瑞利散射光扩散板；
9、其中在上述的步骤一中，将瑞利散射剂进行等离子表面处理，提高其表面能；
10、其中在上述的步骤二中，将物料按照聚甲基丙烯酸甲酯99.491～99.895％、瑞利散射剂0.005～0.009％、分散剂0.1～0.5％进行称量，备用；
11、其中在上述的步骤二中，pmma需要在110℃干燥4～8h，将称量好的物料依次加入高混机，充分搅拌20～30min；
12、其中在上述的步骤三中，通过使用双螺杆挤出机将干燥、混合好的原料熔融、挤出、铸带、切粒，双螺杆挤出机各区的温度在180～230℃，挤出机头温度为210～240℃；
13、其中在上述的步骤四中，采用挤压成型的工艺流程制备出pmma光扩散板。
14、其中上述的pmma基瑞利散射型光扩散板材料，其特征在于：所述pmma的原始透光率为90～95％。
15、其中上述的pmma基瑞利散射型光扩散板材料，其特征在于：所述瑞利散射剂为具有蓝光效应的纳米二氧化钛或纳米二氧化硅的一种或两种。优选地，采用具有蓝光效应的纳米二氧化钛和纳米二氧化硅，纳米二氧化钛和纳米二氧化硅的质量比为1:1。
16、其中上述pmma基瑞利散射型光扩散板材料，其特征在于：所述瑞利散射剂的尺寸为3.2～4.5nm。
17、其中上述pmma基瑞利散射型光扩散板材料，其特征在于：所述分散剂为triton x-100。
18、本申请的有益效果：
19、1、本申请通过对瑞利散射剂进行等离子处理，优化其其亲水性，实现了瑞利散射剂在基材中的均匀分散，能够满足生产的需求，提高使用者的使用满意度，能够更好的满足市场需要。
20、2、本申请采用尺寸3.2～4.5nm的瑞利散射剂，改善瑞利散射剂的均匀分布，尺寸过大的瑞利散射剂会导致粒子的团聚。尺寸过小的瑞利散射剂会导致用等离子体进行表面处理后亲水性降低。最佳瑞利散射剂尺寸为3.9nm，瑞利散射剂0.008％，采用具有蓝光效应的纳米二氧化钛和纳米二氧化硅，纳米二氧化钛和纳米二氧化硅的质量比为1:1时，瑞利散射剂在基材中的作为均匀分散，蓝天效果也最佳。过多或过少的瑞利散射剂会降低瑞利散射效果、导致光的散射强度过高，不利于团聚的降低。
21、3、本申请采用分散剂为triton x-100，严格控制双螺杆挤出机各区的温度、挤出机头温度等，为实现散射剂在基材中的均匀分散、提高瑞利散射效果起到了非常积极的作用。
1.一种pmma基瑞利散射型光扩散板材料的制备方法，包括聚丙烯酸甲酯、瑞利散射剂和分散剂，其特征在于：上述原料的组分配比按重量百分比计为，聚甲基丙烯酸甲酯99.491～99.895％、瑞利散射剂0.005～0.009％、分散剂0.1～0.5％。
2.根据权利要求1所述的pmma基瑞利散射型光扩散板材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
3.根据权利要求1或2所述的pmma基瑞利散射型光扩散板材料，其特征在于，所述pmma的原始透光率为90～95％。
4.根据权利要求1或2所述的pmma基瑞利散射型光扩散板材料，其特征在于，所述瑞利散射剂为具有蓝光效应的纳米二氧化钛或纳米二氧化硅的一种或两种。
5.根据权利要求1或2所述的pmma基瑞利散射型光扩散板材料，其特征在于，所述瑞利散射剂为具有蓝光效应的纳米二氧化钛和纳米二氧化硅，纳米二氧化钛和纳米二氧化硅的质量比为1:1。
6.根据权利要求1或2所述的pmma基瑞利散射型光扩散板材料，其特征在于，所述瑞利散射剂的尺寸为3.2～4.5nm。
7.根据权利要求1或2所述的pmma基瑞利散射型光扩散板材料，其特征在于，所述瑞利散射剂的尺寸为3.9nm。
8.根据权利要求1或2所述的pmma基瑞利散射型光扩散板材料，其特征在于，所述分散剂为triton x-100。