一株促进厌氧铁氨氧化过程的假单胞菌及其在处理污水中的应用的制作方法

本发明属于污水处理，具体涉及一株促进厌氧铁氨氧化过程的假单胞菌及其在处理污水中的应用。

背景技术：

1、含氮污水脱氮常用方法包括生物法、物理法、化学法、电化学法等，其中生物脱氮是近年来兴起的环境友好型与经济适用型方法。常见污水生物脱氮菌包括氨化菌、硝化菌和反硝化菌。氨化菌是一种兼性菌，有氧或厌氧条件下能够使有机氮发生氨化作用，生成氨氮；硝化菌包括亚硝酸菌和硝酸菌，均属于化能自养菌，专性好氧菌，只有在有溶解氧的条件下才能够增殖，缺氧、厌氧条件下都不能够增殖；反硝化菌是一种化能异养型兼性厌氧菌，在厌氧条件下，进行厌氧呼吸。

2、铁氨氧化(feammox)是一种新型自养生物脱氮技术，是由铁介导的自养生物脱氮过程。即在厌氧环境中，铁还原菌(iron-reducing bacteria，irb)以fe(ⅲ)作为电子受体，将nh4+氧化为n2、no和n2o，同时铁还原为fe(ⅱ)的过程。从热力学角度来讲，feammox更易将nh4+氧化为n2。水稻土、砷污染土壤、河岸带湿地土壤、热带雨林土壤、厌氧污泥和深湖沉积物中均普遍存在厌氧铁氨氧化反应。厌氧铁氨氧化在脱氮过程中发挥着重要作用，有研究表明，feammox反应直接产生的n2可占其整个反应产物的67.0％—93.2％。已经有研究报道了基于厌氧铁氨氧化建立的生物膜反应器可正常运行，表明厌氧铁氨氧化反应可与反硝化结合进行废水脱氮。因此，通过反硝化微生物强化厌氧铁氨氧化反应，加快废水脱氮速率，是可行的。

技术实现思路

1、本发明的目的是提供一株假单胞菌fl08，以解决上述现有技术存在的问题，本发明所述假单胞菌fl08能够促进厌氧铁氨氧化过程，可在厌氧条件下进行污水脱氮，更符合实际应用场景。

2、为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：

3、本发明提供一株假单胞菌(pseudomonas sp.)fl08，其特征在于，2023年8月31日保藏于中国典型培养物保藏中心，保藏编号为cctcc no：m20231564。

4、进一步地，所述假单胞菌fl08的16s rdna序列如seq id no:1所示。

5、本发明还提供一种微生物菌剂，其包含上述假单胞菌fl08或其发酵产物或其纯培养物。

6、本发明还提供上述假单胞菌或微生物菌剂在污水脱氮中的应用。

7、本发明还提供上述假单胞菌或微生物菌剂在制备污水净化试剂中的应用

8、本发明还提供一种污水脱氮方法，包括使用上述假单胞菌或微生物菌剂对污水进行处理。

9、进一步地，所述处理包括将所述假单胞菌进行发酵培养得发酵液，再将所述发酵液接种于待处理污水中。

10、进一步地，所述发酵液中假单胞菌的浓度不低于105cfu/ml。

11、进一步地，所述发酵液中假单胞菌的浓度不低于106cfu/ml。

12、与现有技术相比，本发明的有益效果是：

13、本发明从污水处理厂污泥中筛选纯化分离得到反硝化效率最高的菌株，经形态学观察和16s rdna测序鉴定为假单胞菌，命名为fl08。经测试，本发明所述假单胞菌可有效促进厌氧铁氨氧化过程，在工业上具有较高的应用价值。

技术特征：

1.一株假单胞菌(pseudomonas sp.)fl08，其特征在于，保藏于中国典型培养物保藏中心，保藏编号为cctcc no：m20231564。

2.根据权利要求1所述的假单胞菌，其特征在于，其16s rdna序列如seq id no:1所示。

3.一种微生物菌剂，其特征在于，包含权利要求1-2任一所述假单胞菌或其发酵产物或其纯培养物。

4.权利要求1-2任一所述的假单胞菌或权利要求3所述微生物菌剂在污水脱氮中的应用。

5.权利要求1-2任一所述假单胞菌或权利要求3所述微生物菌剂在制备污水净化试剂中的用途。

6.一种污水脱氮方法，其特征在于，使用权利要求1-2任一所述假单胞菌或权利要求3所述微生物菌剂对污水进行处理。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，将所述假单胞菌进行发酵培养得发酵液，再将所述发酵液接种于待处理污水中。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述发酵液中假单胞菌的浓度不低于105cfu/ml。

9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述发酵液中假单胞菌的浓度不低于106cfu/ml。

技术总结
本发明属于污水处理领域，涉及一株促进厌氧铁氨氧化过程的假单胞菌及其在污水处理中的应用。包括从污水处理厂污泥中筛选纯化分离得到反硝化效率最高的菌株，经形态学观察和16S rDNA测序鉴定为假单胞菌，命名为FL08，保藏编号为CCTCC NO：M20231564。经测试，本发明所述假单胞菌可有效促进厌氧铁氨氧化过程，在工业上具有较高的应用价值。

技术研发人员：林彦徐,胡金龙,蒋文玺,蒋思婕
受保护的技术使用者：小菌主环境科技（武汉）有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/22