一种硅片碱抛添加剂及使用碱抛添加剂清洗硅片的方法与流程

本发明涉及光伏领域，更具体的说是一种硅片碱抛添加剂及使用碱抛添加剂清洗硅片的方法。

背景技术：

1、目前，硅片的抛光主要包括酸抛和碱抛两种方式。酸抛成本高且环保压力大，而碱抛则可以有效解决酸抛的成本和环保问题，但是碱抛也存在抛光效果不佳的问题，因此在碱抛处理过程中通常需要添加碱抛添加剂，市面上的碱抛添加剂存在稳定性较差，平整度不好，反射率低等技术问题，同时碱抛添加剂对硅片进行抛光时，硅片表面上的杂质无法及时清理，导致抛光效果差。

2、公开号为cn113290005b的中国专利，其公开了一种具有循环过滤功能的碱抛清洗设备及其使用方法，通过使箱体倾斜，箱体内液体能够集中流向收纳箱，并完成过滤和循环使用；通过往复驱动机构来控制硅片在碱抛和清洗两个工位来回运动，使得硅片每次完成碱抛后都能完成清洗，避免硅片表面上的杂质堆积影响碱抛效果，该清洗设备虽然可以使硅片每次完成碱抛后都能完成清洗，但是每次只能处理一片硅片，导致清洗效率低。

技术实现思路

1、本发明的目的是针对现有技术的不足之处，提供一种硅片碱抛添加剂，添加剂为过硫酸钠、氨基磺酸、甲壳糖、peg-400、柠檬酸钠、水杨酸、聚乙烯吡咯烷酮，通过该方法能够使得硅片上的el黑斑黑点完全消除，同时降低了碱抛后清洗水的用量，使塔基融合，达到提升易清洗性、平整性、降耗和小减重抛光的效果。

2、本发明的目的是针对现有技术的不足之处，还提供一种使用碱抛添加剂清洗硅片的方法，将碱抛添加剂放于碱抛容纳腔，将清洗双氧水放入清洗容纳腔，通过夹持组件对硅片夹持后升降杆带动硅片转动的同时进行升降，使硅片依次经过碱抛容纳腔和清洗容纳腔，并通过毛刷对硅片表面进行清理，通过喷水管使清洗双氧水对硅片表面的杂质进行清洗。

3、本发明的技术解决措施如下：

4、一种硅片碱抛添加剂，包括按质量百分比计算的以下组分：2％-4％过硫酸钠、2％-3％氨基磺酸、1％-2％甲壳糖、1％-2％peg-400、0.1％-0.5％柠檬酸钠、0.1％-1％水杨酸、0.05％-0.1％聚乙烯吡咯烷酮。

5、一种使用碱抛添加剂清洗硅片的方法，依次包括以下步骤：

6、s1、将各组分按重量百分比混合均匀，静置10min后得到碱抛添加剂；

7、s2、将碱抛添加剂加入清洗装置内对硅片进行清洗。

8、作为一种优选，s2中，所述清洗装置包括清洗筒，所述清洗筒中部设置有用于将清洗筒内腔分为碱抛容纳腔和清洗容纳腔的隔板，所述隔板上方转动设置有转轴，所述转轴上设置有升降组件，所述升降组件包括若干个升降杆，所述升降杆上均设置有夹持组件，所述碱抛容纳腔上方设置有清洁组件，所述清洗容纳腔上方设置有喷水组件，所述夹持组件用于对硅片进行夹持，所述升降组件用于转轴带动硅片转动和升降过程中依次循环经过碱抛容纳腔和清洗容纳腔，所述清洁组件用于对硅片表面的杂质进行清理，所述喷水组件用于对硅片表面进行喷水。

9、作为一种优选，所述升降组件还包括开设在转轴上的若干个滑槽、固定设置在升降杆上的十字承载架、固定设置在升降杆上的导向杆、开设在清洗筒内壁上的导向槽，所述导向槽由上升段、保持段和下降段组成，所述导向杆底部设置为球状且与导向槽相配合。

10、作为一种优选，所述夹持组件包括开设在十字承载架上的通槽、转动设置在通槽内的丝杆、滑动设置在丝杆上的夹持块、固定设置在一侧丝杆上的螺栓、固定设置在丝杆上的第一锥齿，若干个所述第一锥齿相互啮合，相邻所述丝杆上的螺纹相反。

11、作为一种优选，所述清洁组件包括转动设置在清洗筒上的毛刷、固定设置在毛刷上的第二锥齿、转动设置在清洗筒上的齿轮、固定设置在齿轮上的第三锥齿、固定设置在升降杆上的齿圈，所述第二锥齿与第三锥齿相啮合，所述齿圈与齿轮相啮合。

12、作为一种优选，所述喷水组件包括固定设置在清洗筒上的若干个喷水管、固定设置在喷水管与清洗容纳腔之间的抽水管、固定设置在抽水管上的抽水泵。

13、作为一种优选，若干个所述喷水管与清洗筒底部之间的距离逐渐递增。

14、作为一种优选，所述清洗筒内设置有过滤网。

15、作为一种优选，所述夹持块上设置有橡胶垫。

16、本发明的有益效果在于

17、1.本发明通过采用过硫酸钠、氨基磺酸、甲壳糖、peg-400、柠檬酸钠、水杨酸、聚乙烯吡咯烷酮，通过该方法能够使得硅片上的el黑斑黑点完全消除，同时降低了碱抛后清洗水的用量，使塔基融合，达到提升易清洗性、平整性、降耗和小减重抛光的效果。

18、2.本发明设置清洗装置，通过夹持组件对硅片夹持后升降杆带动硅片转动的同时进行升降，使硅片依次循环经过碱抛容纳腔和清洗容纳腔进行清洗，并通过毛刷对硅片表面进行清理，通过喷水管使清洗双氧水对硅片表面的杂质进行清洗，提高硅片的碱抛效果和碱抛效率。

19、综上所述，本发明具有清洁效果好、清洁效率高的优点，适合光伏领域。

技术特征：

1.一种硅片碱抛添加剂，其特征在于：包括按质量百分比计算的以下组分：2％-4％过硫酸钠、2％-3％氨基磺酸、1％-2％甲壳糖、1％-2％peg-400、0.1％-0.5％柠檬酸钠、0.1％-1％水杨酸、0.05％-0.1％聚乙烯吡咯烷酮。

2.根据权利要求1所述的一种使用碱抛添加剂清洗硅片的方法，其特征在于：依次包括以下步骤：

3.一种使用权利要求1-2所述碱抛添加剂清洗硅片的方法，其特征在于：s2中，所述清洗装置(1)包括清洗筒(3)，所述清洗筒(3)中部设置有用于将清洗筒(3)内腔分为碱抛容纳腔(4)和清洗容纳腔(5)的隔板(6)，所述隔板(6)上方转动设置有转轴(7)，所述转轴(7)上设置有升降组件(8)，所述升降组件(8)包括若干个升降杆(81)，所述升降杆(81)上均设置有夹持组件(9)，所述碱抛容纳腔(4)上方设置有清洁组件(10)，所述清洗容纳腔(5)上方设置有喷水组件(11)，所述夹持组件(9)用于对硅片(2)进行夹持，所述升降组件(8)用于转轴(7)带动硅片(2)转动和升降过程中依次循环经过碱抛容纳腔(4)和清洗容纳腔(5)，所述清洁组件(10)用于对硅片(2)表面的杂质进行清理，所述喷水组件(11)用于对硅片(2)表面进行喷水。

4.根据权利要求3所述的一种碱抛添加剂清洗硅片的方法，其特征在于：所述升降组件(8)还包括开设在转轴(7)上的若干个滑槽(82)、固定设置在升降杆(81)上的十字承载架(83)、固定设置在升降杆(81)上的导向杆(84)、开设在清洗筒(3)内壁上的导向槽(85)，所述导向槽(85)由上升段(86)、保持段(87)和下降段(88)组成，所述导向杆(84)底部设置为球状且与导向槽(85)相配合。

5.根据权利要求4所述的一种碱抛添加剂清洗硅片的方法，其特征在于：所述夹持组件(9)包括开设在十字承载架(83)上的通槽(91)、转动设置在通槽(91)内的丝杆(92)、滑动设置在丝杆(92)上的夹持块(93)、固定设置在一侧丝杆(92)上的螺栓(94)、固定设置在丝杆(92)上的第一锥齿(95)，若干个所述第一锥齿(95)相互啮合，相邻所述丝杆(92)上的螺纹相反。

6.根据权利要求3所述的一种碱抛添加剂清洗硅片的方法，其特征在于：所述清洁组件(10)包括转动设置在清洗筒(3)上的毛刷(101)、固定设置在毛刷(101)上的第二锥齿(102)、转动设置在清洗筒(3)上的齿轮(103)、固定设置在齿轮(103)上的第三锥齿(104)、固定设置在升降杆(81)上的齿圈(105)，所述第二锥齿(102)与第三锥齿(104)相啮合，所述齿圈(105)与齿轮(103)相啮合。

7.根据权利要求3所述的一种碱抛添加剂清洗硅片的方法，其特征在于：所述喷水组件(11)包括固定设置在清洗筒(3)上的若干个喷水管(111)、固定设置在喷水管(111)与清洗容纳腔(5)之间的抽水管(112)、固定设置在抽水管(112)上的抽水泵(113)。

8.根据权利要求7所述的一种碱抛添加剂清洗硅片的方法，其特征在于：若干个所述喷水管(111)与清洗筒(3)底部之间的距离逐渐递增。

9.根据权利要求3所述的一种碱抛添加剂清洗硅片的方法，其特征在于：所述清洗筒(3)内设置有过滤网(12)。

10.根据权利要求5所述的一种碱抛添加剂清洗硅片的方法，其特征在于：所述夹持块(93)上设置有橡胶垫。

技术总结
本发明涉及一种硅片碱抛添加剂，包括按质量百分比计算的以下组分：2％‑4％过硫酸钠、2％‑3％氨基磺酸、1％‑2％甲壳糖、1％‑2％PEG‑400、0.1％‑0.5％柠檬酸钠、0.1％‑1％水杨酸、0.05％‑0.1％聚乙烯吡咯烷酮,本发明还涉及一种使用碱抛添加剂清洗硅片的方法，依次包括以下步骤：S1、将各组分按重量百分比混合均匀，静置10min后得到碱抛添加剂；S2、将碱抛添加剂加入清洗装置内对硅片进行清洗,通过该方法能够使得硅片上的EL黑斑黑点完全消除，同时降低了碱抛后清洗水的用量，使塔基融合，达到提升易清洗性、平整性、降耗和小减重抛光的效果。

技术研发人员：张周达,张丹
受保护的技术使用者：湖州承极新能源科技股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2025/4/10