一种丙烯酸型含硫代磺酸酯基高折射率单体及其合成方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种丙烯酸型光学单体，具体是涉及一种丙烯酸型含硫代磺酸酯基高 折射率单体及其制备方法。
【背景技术】
[0002] 折射率是光学材料最基本也是最重要的指标之一。提高折射率能够有效地降低透 镜的厚度和曲率半径，LED灯密封胶、消除触摸屏ITO电路的光固化消影胶和硬化涂层等都 需要较高折射率(通常在1.65以上）的树脂。传统的光学树脂，如聚甲基丙烯酸甲酯、聚对 苯二甲酸乙二醇酯等具有较好的光学和力学性能，但是其折射率通常都在1.6以下。
[0003] 提高树脂折射率的方法通常是向聚合物分子中引入具有较高摩尔折射率和较低 分子体积的基团，诸如卤素（除氟)，氮、磷、硫等元素，重金属离子，苯环、稠环或杂环等。卤 素和重金属离子因具有较高的毒性故使用甚少，而苯环、稠环和杂环的摩尔折射率很高但 会引起较高的色散。实际合成中，通常在保证色散程度在一定范围内时，向聚合物分子内引 入含硫的基团，以得到具有$父尚折射率的树脂。含硫基团包括疏基、硫酿基、讽基、亚讽基、 环硫基等。
【发明内容】
[0004] 本发明要解决的技术问题为克服现有技术中的不足指出，提供一种丙烯酸型含硫 代磺酸酯基高折射率单体，在其分子中引入了苯环、噻吩环、砜基和硫醚基等结构，所得的 丙烯酸型含硫代磺酸酯基单体在固化前即具有较高的折射率，易于固化，且固化后折射率 进一步提尚。
[0005] 本发明要解决的另一个技术问题为提供上述丙烯酸型含硫代磺酸酯基高折射率 单体的制备方法。
[0006] 为解决本发明的技术问题，所采用的技术方案为：一种丙烯酸型含硫代磺酸酯基 高折射率单体，其分子结构如下式所示：
【主权项】
1. 一种丙烯酸型含硫代磺酸酯基高折射率单体，其分子结构如下式所示：
2. -种如权利要求1所述丙烯酸型含硫代磺酸酯基高折射率单体的制备方法，其特征 在于：在保护气氛、〇~5°C条件下，向反应容器中加入溶剂和2-巯基噻吩，搅拌，再加入相 转移催化剂、缚酸剂以及对苯乙烯磺酰氯，反应2~3h，反应结束后分出有机层，洗涤，除水 后减压蒸馏得到产物。
3. 根据权利要求2所述的丙烯酸型含硫代磺酸酯基高折射率单体的制备方法，其特征 在于：所述2-巯基噻吩和对苯乙烯磺酰氯的摩尔比为1:1. 5~2,所述缚酸剂与2-巯基噻 吩的摩尔比为1. 2~1. 5:1，所述相转移催化剂的质量占反应物总质量的0. 5~3%。
4. 根据权利要求2或3所述的丙烯酸型含硫代磺酸酯基高折射率单体的制备方法，其 特征在于：所述溶剂选用二氯甲烷、氯仿、N，N-二甲基甲酰胺、苯、甲苯和甲基异丁基酮中 的一种或几种的混合物。
5. 根据权利要求2或3所述的丙烯酸型含硫代磺酸酯基高折射率单体的制备方法，其 特征在于：所述缚酸剂选用氢氧化钾溶液、氢氧化钠溶液、三乙胺和吡啶中的一种或几种的 混合物。
6. 根据权利要求2或3所述的丙烯酸型含硫代磺酸酯基高折射率单体的制备方法，其 特征在于：所述相转移催化剂选用苄基三乙基氯化铵、四丁基溴化铵和丁基硫酸氢铵中的 一种或几种的混合物。
【专利摘要】本发明涉及一种丙烯酸型光学单体，具体是涉及一种丙烯酸型含硫代磺酸酯基高折射率单体及其制备方法。在保护气氛、0～5℃条件下，向反应容器中加入溶剂和2-巯基噻吩，搅拌，再加入相转移催化剂、缚酸剂以及对苯乙烯磺酰氯反应，分出有机层，洗涤，除水后减压蒸馏得到该丙烯酸型含硫代磺酸酯基高折射率单体，该单体含有双键结构，具有较高的折射率和透射率，由于含有硫醚基、砜基、苯环和杂环等结构，故单体折射率达到1.68左右，远高于传统的光学树脂，透射率较高、粘度较低，且易于固化，可用作透明导电膜中的底涂层和硬化层及其他需较高折射率的光学产品中，具有较高的利用价值。
【IPC分类】C07D333-34
【公开号】CN104803969
【申请号】CN201510097119
【发明人】徐卫兵, 毛亚俊, 黄暄暄, 周正发, 马海红, 任凤梅
【申请人】合肥工业大学
【公开日】2015年7月29日
【申请日】2015年3月5日