专利名称：涂布膜的干燥方法、涂布膜的形成方法及涂布膜形成装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种在基板的表面形成涂布膜的技术，特别是涉及一种在构成向下吹风的净化室内，使被涂布面保持向下姿势的基板的该被形成面上形成的涂布膜加以干燥的技术。
背景技术：
以往，作为将感光性树脂等的涂布液涂布到硅晶片类基板上的涂布装置(涂布器)，主要是将涂布液向下滴到基板的中央，接着，通过高速回转基盘，在离心力作用下，使涂布液外展，以在基板表面形成涂布膜的所谓的旋转涂布。
此外，近年来，随着图型的微细化或液晶显示装置等的制造所使用的光掩模的大型化等，希望有形成的涂布膜的厚度更正确的技术。鉴于此，作为涂布装置，还提供了例如如日本特开2001-62370号公报所公开的CAP涂布器。
该CAP涂布器为，在贮存涂布液的液槽中嵌入有毛细管状间隙的喷嘴，将喷嘴提升到由吸盘使被涂布面保持成向下姿势的基板上的该被涂布面附近，同时，通过毛细管状间隙接收涂布液，接着，通过喷嘴在被涂布面上方来回喷扫以形成涂布膜，由于通过被涂布面与喷嘴前端的间隙就能够可靠地调整涂布厚度，与旋转涂布相比，具有能够可靠地设定膜厚的效果。
另外，该CAP涂布器具有使吸盘在上下方向回转的回转机构，从而在设置基板之际，使吸盘回转到吸着面向上的状态，同时，在该吸着面上使被涂布面向上地方式放置基板，这样一来，基板的设置一旦结束，就使吸盘再次回转到吸着面向下的状态来进行涂布，非常便利。
该CAP涂布器虽然具有上述的便利，但另一方面来说，因回转机构的差动等，在涂布中吸盘也会微动，这将影响到薄膜的质量。
为了避免这种现象，如在吸着面向下的状态下固定吸盘，由于其通常被水平地保持，这样确实避免了基板的晃动，进而提高了生产效率。为此，希望实现如此技术。
但是，如此技术的实现存在着下面的技术问题。
即，在构成向下吹风的净化室内，如图16所示意示出的，向下吹送的气流D由吸盘71的上表面遮住，遮住的气流D回到吸着面71a侧，在该场所形成漩涡，但在固定吸盘71使吸着面71a向下时，基板72的被涂布面72a通常成为向下的状态，从而涂布膜成漩涡状。因此，在涂布后任由向下吹风干燥涂布膜之际，因漩涡使膜厚不匀。
本发明克服了上述的技术问题，其目的在于提供一种在构成向下吹风的净化室内，将以被涂布面保持在向下姿势的基板的被涂布面上形成的涂布膜不会被不匀干燥的技术。
发明内容
为了实现上述目的，本发明的第1方案的涂布膜的干燥方法为，在构成向下吹风的净化室内将被涂布面保持在向下姿势的基板的所述被涂布面上形成的涂布膜干燥，其特征在于，在形成所述涂布膜后，在保持该基板的姿势的状态下，边抑制所述向下吹风回到所述被涂布面上边干燥所述涂布膜。
采用本发明的第1方案的涂布膜的干燥方法的话，由于是边抑制向下吹风回到被涂布面边干燥涂布膜，从而在干燥之际涂布膜不会因向下吹风产生漩涡。因此，可使涂布膜均匀地干燥。
本发明的第2方案的涂布膜的干燥方法为，在第1方案的涂布膜的干燥方法中，其特征在于，形成在所述被涂布面上的所述涂布膜为，通过毛细管现象使贮存在所述被涂布面下方的涂布液上升，上升的涂布液经喷嘴与前述被涂布面接触的状态下，通过该喷嘴在上升被涂布面上来回扫喷而成。
采用本发明的第2方案的涂布膜的干燥方法的话，由于可由喷嘴与被涂布面的间隔来设定涂布膜的厚度，可使形成的涂布膜的厚度正确。
本发明的第3方案的涂布膜的干燥方法为，在第1或第2方案的涂布膜的干燥方法中，其特征在于，通过从形成所述涂布膜的所述被涂布面的下方向该涂布膜供给净化空气，可抑制所述向下吹风回到所述被涂布面上。
采用本发明的第3方案的涂布膜的干燥方法的话，从形成涂布膜的被涂布面的下方向该被涂布膜供给的净化气体与涂布膜接触时沿着该涂布膜向其周缘方向流动。并且，由于沿着该被涂布面的净化气体的流动和向下吹风在被涂布面的周缘附近碰撞，从而可抑制向下吹风回到被涂布面上。由此，阻止了漩涡的发生，从而可使涂布膜均匀地干燥。
本发明的第4方案的涂布膜的干燥方法为，在第1或第2方案的涂布膜的干燥方法中，其特征在于，通过用遮挡板将形成所述涂布膜的所述被涂布面的周缘部分中的所述向下吹风遮挡，以抑制该向下吹风回到所述被涂布面上。
采用本发明的第4方案的涂布膜的干燥方法的话，形成涂布膜的被涂布面的周缘部分中的向下吹风由于被遮挡板遮住，从而在被涂布面下方不会发生漩涡。即，由于只在遮挡板的里侧产生漩涡，可阻止被涂布面上产生漩涡。因此，可使涂布膜均匀地干燥。
本发明的第5方案的涂布膜的干燥方法为，在构成向下吹风的净化室内，将贮存在被涂布面以向下姿势保持着的基板的所述被涂布面下方的涂布液在毛细管现象作用下上升，上升的所述涂布液经喷嘴与所述被涂布面接触的状态下，通过该喷嘴在所述被涂布面上来回扫喷，以将所述涂布液涂布到所述被涂布面上而成涂布膜，其特征在于，在扫喷所述喷嘴之际，追随着该喷嘴地方式使局部干燥所述涂布膜的干燥装置扫射。
采用本发明的第5方案的涂布膜的干燥方法的话，使喷嘴扫喷之际，由于是将局部干燥涂布膜的干燥机构追随着该喷嘴的方式扫射，从而在毛细管现象作用下从喷嘴流出的涂布液直接由干燥机构强制干燥。因此，假如被涂布面因向下吹风产生漩涡，由于涂布膜已经干燥，因而也不会产生受该漩涡影响的不匀。
本发明的第6方案的涂布膜的干燥方法为，在第5方案的涂布膜的干燥方法中，其特征在于，所述干燥装置为热板。
本发明的第7方案的涂布膜的干燥方法为，在第1～第7方案的涂布膜的干燥方法中，其特征在于，所述涂布膜为保护膜。
本发明的第8方案的涂布膜的干燥方法为，在第1～第7方案中任一方案的涂布膜的干燥方法中，其特征在于，所述基板为在透光性基板的一面形成遮光膜而成的光掩模板。
本发明的第9方案的涂布膜的形成方法的特征在于，按照第1方案～第8方案中任一方案所述的涂布膜的干燥方法干燥所述涂布膜后，解除所述基板的保持，接着，将该基板与导电性部件接触。
采用本发明的第9方案的涂布膜的形成方法的话，在基板与导电性部件接触时，该基板上带电的电荷会缓缓地流向导电性部件。因此，防止了因静电破坏导致的涂布膜破损现象，可提高有效利用率。
本发明的第10方案的光掩模的制造方法的特征在于，使用第8方案所述的涂布膜的干燥方法，包含有在所述光掩模的所述遮光膜上形成作为所述涂布膜的保护膜的工序。
本发明的第11方案的涂布装置为，设置在构成向下吹风的净化室内，具有将基板保持在其被涂布面面朝下的姿势的保持机构，在由所述保持机构保持的所述基板的所述被涂布面上涂布涂布液的涂布机构，其特征在于，还具有抑制所述向下吹风回到由所述涂布机构涂布上所述涂布液的所述被涂布面上的抑制机构。
采用本发明的第11方案的涂布装置的话，由于通过抑制机构，抑制了向下吹风回到被涂布面上，从而在由保持机构保持基板的状态下干燥涂布膜之际，该涂布膜不会因向下吹风产生漩涡。因此，可使涂布膜均匀地干燥。
本发明的第12方案的涂布装置为，设置在构成向下吹风的净化室内，具有将基板保持在其被涂布面面朝下的姿势的保持机构，配置在由所述保持机构保持的所述基板的所述被涂布面下方的液槽，贮存在所述液槽中的涂布液在毛细管现象作用下被上升到所述被涂布面的同时液体与所述被涂布面接触的喷嘴，和通过将所述喷嘴在所述被涂布面上来回扫喷以将所述涂布液涂布到所述被涂布面上的扫喷机构，其特征在于，还具有局部干燥所述涂布膜的干燥机构，同时，所述干燥机构的结构为追随所述喷嘴的扫喷而在所述被涂布面下扫射。
采用本发明的第12方案的涂布装置的话，由于在喷嘴扫喷之际，追随着该喷嘴的方式，局部干燥涂布膜的干燥机构也扫射，从而在毛细管现象作用下从喷嘴流出的涂布液直接由干燥机构强制干燥。因此，在由保持机构保持基板的状态下干燥涂布膜之际，即使假如被涂布面因向下吹风产生漩涡，由于涂布膜已经干燥，从而不会产生受该漩涡影响的不匀。
图1为本发明第1实施例的涂布装置的左侧视图，图2为第1实施例的涂布装置的主视图，图3为说明吸盘构造的剖视图，图4为示出吸盘吸着面的视图，图5为示出涂布机构主要部分的透视图，图6为示出涂布机构主要部分的主视图，图7为沿着图6的X-X线的剖视图，图8为液槽示意地剖视图，图9为液槽示意地剖视图，图10为说明保护膜液的循环形式的模式图，图11为说明干燥时光掩模板周围的气流流动的模式图，图12为说明从吸盘上剥离光掩模板的工序的模式图，图13为说明光掩模板带电的电荷流动的模式图，
图14为说明本发明第2实施例的模式图，图15为说明第3实施例的模式图，图16为说明以往技术的技术问题的视图。
符号说明10、涂布装置12、支承块 14、移动框架16、螺杆17、马达 19、吸盘20、光掩模板21、气流发生装置 22、涂布机构47、喷嘴64、遮挡板 65、热板(干燥机构)具体实施方式
下面，参照图1～图5说明本发明的涂布装置。该涂布装置是在感光性树脂的制造工序中使用的装置，设置在构成向下吹风的净化室内，是一种在感光性树脂的被涂布面(主表面)上涂布保护膜的装置。
第1实施例图1为涂布装置的左侧视图，图2为涂布装置的主视图。
正如图1和图2所示，该涂布装置10以设置在水平的地板面上的基座11为基础而构成，在该基座11上设有左右一对支承块12，12和可在线性道路13，13上沿前后方向(在图1中为左右方向)移动的左右一对移动框架14，14。
支承块12，12均由高导电性的树脂构成，由此构成导电性部件。如图2所示，支承块12，12具有大致三角形的断面，沿前后方向(图1中左右方向)延伸地设置在基座11上的适当位置。更详细地说，这些支承块以相互隔开比后述的光掩模板20的宽度稍窄的间隙而平行设置。
左右一对移动框架14，14靠梁15连接成一体。这些移动框架14，14通过马达17带动位于基座11的左侧面上的螺杆16回转而沿着线性道路13，13移动。即，在左侧的移动框架14上设有移动部18，移动部18具有与螺杆16螺纹连接的内螺纹部，该移动部18通过随着螺杆16的回转而螺旋进给，带动移动框架14在前后方向移动。
这些移动框架14，14、螺杆16和马达17构成扫喷机构。
在两端靠移动框架14，14支承的梁15的中央装有作为保持机构的吸盘19。该吸盘19被固定成其吸着面19a在向下姿势下就不能回转。通过吸盘19吸着基板的光掩模板20而将其保持着。并且，吸盘19在保持光掩模板20的正常状态下，随着移动框架14，14的移动，而与之成一体地沿前后方向移动。
在此，光掩模板20是在通过精密研磨石英玻璃等而获得的透光性基板的一面上成形的由铬(Cr)等构成的遮光膜的构件，为将微细图案转印到半导体晶片之际使用的光掩模为基础的原板。
下面，说明吸盘19的吸着构造。图3为示出吸盘19周围的剖视图，图4示出吸盘19的里面即吸着面19a。如图3所示，吸着面19a上开有多个吸着孔191，这些吸着孔191有规则且均匀地遍布吸盘19的整个表面地方式配置。另外，在吸盘19的内部设有划分成多个区间的吸着空间192。
具体为，如图4所示，第1区间由设置在吸着面19a的面前侧中央的4个吸着空间192构成，各吸着空间192由较细的空气路径193连通。并且，这4个吸着空间192的各部分分别开有4个吸着孔191。
构成第1区间的吸着空间192如图3所示，与吸入空气的吸管194连通，该吸管194经手动阀195而穿入梁15的内部。并且，该穿通的吸管194从左方的移动框架14的左侧伸出而与真空泵196相连。
吸盘19的第2区间如图4所示，设置成将第1区间围成コ字形，并且由6个吸着空间192构成。这些吸着空间192也通过空气路径203而相互连通，同时，经吸管194与真空泵196相连。同样，可构成第3区间、第4区间等等。
再参照图1，在基座11的内部设有作为抑制装置的气流发生装置21和作为涂布装置的涂布机构22。
气流发生装置21是在与净化室的向下吹风相反的方向上即向上供给净化气体的。具体为，气流发生装置21具有产生向上气流的风扇和设置在该风扇上方的空气过滤器。在此，作为空气过滤器，最好使用HEPA过滤器(High Efficency Particulate Air fillter)。
作为这种气流发生装置21。例如可采用エアテツク的“SS-MAC-10FR”。
下面，对涂布机构22进行说明。图5为涂布机构22的透视图，图6为涂布机构22的主视图，图7为沿着图6中的X-X线的剖视图。
如图5至图7所示，涂布机构22以设置在基座11的左右方向上的基板23为基础而成。基板23的上表面设有左右一对移动栓24，25。
右侧的移动栓25可沿着以左右方向配置在基板23的上表面上的线性道路26移动。另外，移动栓25的上表面成为向左倾斜的斜面25a。在该斜面25a上也设有线性道路27。
左侧的移动栓24也同样相对基板23可在左右方向沿着线性道路28移动，另外，斜面24a上设有线性道路29。
这些移动栓24，25由连接轴30贯穿。连接轴30的外周面上刻设外螺纹槽，同时，移动栓24，25的贯穿部分刻设内螺纹槽，这些螺纹槽螺纹连接。因此，通过伺服马达31转动连接轴30，移动栓24，25各自就沿着线性道路28，26在左右方向上螺旋进给。
在移动栓24，25的上方设有支承板32。该支承板32具有L字形的断面，由平行于基板23设置的第1支承板33和垂直于该第1支承板33设置的第2支承板34构成。
在第1支承板33的里面设有左右一对支承脚35，36。支承脚35，36的下表面成斜面，可分别沿着线性道路29，27滑动。
另外，上下移动用的引导轴37设置成从第1支承板33的里面中央部跨到基板23的上表面。支承板32只能沿着该引导轴37上下移动。
在第2支承板34的上端部分，如图7所示，固定着贮存有作为涂布液的保护膜液的液槽38。将在后面说明该液槽38。
另外，第2支承板34通过各自朝左右方向延伸的左右一对线性道路39，39而与左右移动板40连接。左右移动板40与气缸41相连，随着该气缸41的驱动，该左右移动板40只能沿着线性道路39，39朝左右方向移动。
左右移动板40通过各自向右倾斜的左右一对线性道路42，42而与上下移动板43连接。该上下移动板43不能在左右方向移动，只能沿着直立设置在第1支承板33的上表面上的左右一对引导轴44，44在上下方向上移动。
从上下移动板42的左端部和右端部分别向上延伸出喷嘴支承轴45，46。通过左右一对喷嘴支承轴45，46支承着喷嘴47。
下面，对前述液槽38周围的构造进行说明。图8和图9示出液槽38的剖视图，图10示意地示出液槽38内的循环方式。
在第2支承板34的上端部分朝左右方向延伸的液槽38如图8和图9所示，具有基本上为梯形的断面。并且，其上端部形成朝左右方向延伸的狭缝48。该狭缝48可由设置在液槽38外方的盖件49封闭。
在液槽38的内部内藏喷嘴47。该喷嘴47由隔开在左右方向延伸的毛细管状间隙50而对置的成前后一对的前喷嘴部件471和后喷嘴部件472构成。这些前喷嘴部件471和后喷嘴部件472的形状为前后对称形状，成为越向上越尖成鸟嘴状的断面形状。
在喷嘴47的左端部和右端部固定着前述的左右一对喷嘴支承轴45，46。这些支承轴45，46穿过形成在液槽38的底面上的左右一对贯通孔51，52。为了使保护膜液(涂布液)不会从贯通孔51，52漏出，将围住各喷嘴支承轴45，46的蛇腹状的封闭部件53，54设置成从喷嘴47的底面遍布到液槽38的底面。由此，即使喷嘴支承轴45，46上下动作，因蛇腹状的封闭部件53，54随之在上下方向伸缩，从而保护膜液也不会从贯通孔51，52中漏出。
此外，如图10所示，来自贮存保护膜液的箱55中的保护膜液通过泵56泵出，泵出的保护膜液通过过滤器57从在液槽38的侧面开口的供给口58流出。并且，在液槽38的底面开有循环口59，保护膜液从该循环口59循环回箱55中。
此外，在液槽38的侧面上部形成贯通孔60，由此突出L字形的高度调整管61。在该高度调整管61的上端开口。并且，在高度调整管61的外部侧面上设有检测保护膜液的液高的传感器62。
即，在液槽38中贮满保护膜液时，在高度调整管61中贮满与之同高的保护膜液，此时的液高由传感器62检测出，并将检测结果传送到由微型计算机构成的马达控制部63。马达控制部63根据传感器62的检测结果驱动泵56的马达64，以将涂布液向液槽38供给到预先设定的高度。
尽管图中未示出，但该涂布装置10还具有输入部、和根据来自该输入部的输入信号以全面管理前述的马达17、气流发生装置21、真空泵206、伺服马达31和气缸41的动作的控制部。
下面，对涂布装置10的动作进行说明。
其前提是，液槽38中贮满达到规定高度的保护膜液的同时，喷嘴47成为完全嵌入保护膜液中的状态。
首先，图中未示出的控制部根据操作者的操作驱动马达17，在将吸盘19处于图1中的基材位置A的同时，驱动真空泵206。在此，操作者使被涂布面向下的状态下将光掩模板20吸附到吸着面19a上。由此，光掩模板20由吸盘19保持着。
另外，作为在此的被涂布面为在基板的表面中涂布了涂布液的表面。具体为，光掩模板20的被涂布面为光掩模板20的表面中涂布了保护膜液的表面，即形成铬膜的表面。
接着，控制部再次驱动马达20，在前后方向移动吸盘19，以使喷嘴47的前端位于被涂布面的涂布开始位置上。
之后，控制部将封闭狭缝48的盖件49开启，通过驱动伺服马达31，使左右一对移动栓24，25在斜面24a，25a倾斜的方向(在图6中为左方向)上移动。随之，限制其在左右方向移动的支承板32沿着线性道路29，27向上移动。由此，固定在支承板32上的液槽38被上升到光掩模板20的下方。
接下来，控制部一旦停止液槽38的上升，就只是喷嘴47从液槽38中突出。
详细地讲，控制部通过驱动气缸41，使左右移动板40在线性道路42的倾斜方向(在图6中为右方向)上移动。这样，由于上下移动板43被限制了在左右方向上的移动，只能沿着线性道路42的倾斜面导引着上升。随之，因固定在上下移动板43上的喷嘴支承轴45，46上升，从而由其支承的喷嘴47也上升。
在此，因喷嘴47完全嵌入保护膜液中，从而在毛细管状间隙50中就充满了保护膜液。即，喷嘴47是在充满保护膜的状态下上升到毛细管状间隙50的前端。
然后，控制部通过只停止喷嘴47上升而使液槽38再次上升，以在光掩模板20的被涂布面上接触上保护膜液。即，控制部使充满喷嘴47的毛细管状间隙50中的保护膜液与被涂布面接触。
在此，液槽38的上升速度和上升距离要求进行相当微妙的调整，但正如前述，驱动伺服马达31时，因支承板32沿着移动栓24，25的斜面24a，25a上下动作，从而能够可靠且容易地进行这种微妙的调整。另外，由于是在左右方向为水平状态下使液槽38上升，保护膜的膜厚在左右方向就不会变化。
接着，控制部使保护膜液与光掩模板20的被涂布面液体接触的状态下，使液槽38与喷嘴47一同下降到涂布高度的位置上。即，很显然，喷嘴47的前端与被涂布面的间隔成为了涂布厚度。
然后，通过控制部驱动马达17，以在一定速度下移动吸盘19。由此，被涂布面上涂布上保护膜液。
此时，因吸盘19固定到梁15上，不会发生如差动那样的晃动，能将光掩模板20的前后方向的姿势和左右后方的姿势通常都维持在水平。
接着，控制部在吸盘19到达涂布结束位置时，使马达17的驱动停止。在此，涂布结束的位置称作保护膜液的涂布结束之际的吸盘19的位置。具体为，最好将气流发生装置21的附近作为涂布结束位置。在如此将涂布结束位置处于气流发生装置21的正上方时，在涂布结束后，可直接转换成保护膜的干燥。
之后，控制部驱动气流发生装置21。由此，可实现保护膜无不匀的干燥。
参照图11说明其原理。在图11中，符号D所示的箭头表示向下吹风流，符号U所示的箭头表示由气流发生装置21供给的净化气体流。如图11所示，由气流发生装置21从光掩模板20的下方向该保护膜供给向上的净化气体触及被涂布面时，就沿着该被涂布面向其周缘方向流动。因此，沿着该被涂布面的净化气体流与向下吹风在光掩模板20的周缘部分碰撞，从而可抑制向下吹风回流向保护膜。由此，阻止了漩涡的发生，从而可均匀地干燥保护膜。
然后，控制部在驱动气流发生装置21经过规定的时间后，就停止驱动该气流发生装置21，同时，切换真空泵206内的图中未示出的阀，以从吸着孔201排放出气流。由此，如图12所示，将光掩模板20从吸盘19上剥离，放置于左右一对支承块12，12上。如此，结束一连串的涂布动作。
在此，因支承块12，12由高导电性的树脂构成，在光掩模板20与支承块12，12接触之际，在光掩模板20上带电的电荷会慢慢地流向支承块12，12。由此，可防止静电破坏。
即，如支承块12，12由低导电性的原材料构成时，在光掩模板20从吸盘19上剥离之际，如图13(a)所示，光掩模板20上带电的电荷会一同流向该支承块，从而在光掩模板20与该支承块的接触场所就会发生静电破坏。这样一来，光掩模板20的铬膜会被溶化，形成小洞。
而在支承块由高导电性的原材料制造时，如图13(b)所示，光掩模板20上带电的电荷会缓缓地流向支承块12，12，从而防止了静电破坏，这样可提高有效利用率。
采用以上说明的涂布装置10的话，由于是在吸着面19a向下的状态将吸盘19固定到梁15上的，吸盘19通常无论如何也不会晃动地维持在水平。因此，能够可靠地避免涂布之际光掩模板20发生微动现象，提高了薄膜质量，进而提高了有效利用率。
此外，由于在被涂布面向下的状态下可实现无不匀的保护膜的干燥，因此在涂布结束后，可具有不必搬运光掩模板20就可直接转换成保护膜干燥的便利。
第2实施例第2实施例的涂布装置的结构与第1实施例的涂布装置10的结构相同，对于重复的部分采用同一符号加以说明。
第2实施例的涂布装置是将在吸盘19的周缘部分装有遮住向下吹风的遮挡板64来取代所装载的气流发生装置21。该遮挡板64在俯视图中为从吸盘19整个周边溢出地方式安装到该吸盘19上。具体如图14所示，遮挡板64在吸盘19的上表面的周缘部分与该吸盘19相平行地设置。
该遮挡板64构成抑制机构。
采用第2实施例的涂布装置的话，由于通过吸盘19的周缘部分的向下吹风由遮挡板64遮挡，因此在光掩模板20的下方不会发生漩涡。即，如图14所示，由遮挡板64遮住的向下吹风回到该遮挡板64的里面，只在该场所形成漩涡，可避免保护膜处形成漩涡。因此，可使保护膜无不匀地自然干燥。
另外，安装遮挡板64的场所并没有特别地限定。例如，可装到吸盘19的侧面。此外，在吸盘19的尺寸相对光掩模板20足够大时，确保在该吸着面19a的周缘部分不设置吸着口的区域，也可获得与上述同样的效果。
可在涂布装置上装载有气流发生装置21和遮挡板64这两者。此时，可进一步可靠地防止干燥时保护膜发生不匀现象。
第3实施例第3实施例的涂布装置的结构与第1实施例的涂布装置10相同，因此，对于重复部分用同一符号加以说明。
第3实施例的涂布装置的特征为，装载热板来替代所装载的气流发生装置21。
该热板用于局部强制干燥保护膜，由此构成干燥机构。
该热板设置成在基座11的左右方向以具有与光掩模板20的宽度大致相同的长度分布。另外，该热板设置在比喷嘴47还靠近涂布时的吸盘19的移动方向侧，并处于该喷嘴47的附近。
并且，由于使该热板固定，所以在涂布时，热板可与喷嘴47一同相对被涂布面相对移动。具体为，涂布时，热板随着喷嘴47的扫喷而在被涂布面下方来回扫射。
采用第3实施例的涂布装置的话，如图15所示，喷嘴47扫喷之际，由于热板65追随着该喷嘴47扫射，从而在毛细管现象作用下，从喷嘴47流出的涂布液R中的溶剂被直接蒸发除去。因此，在将光掩模板20保持在吸盘19上的状态下干燥保护膜之际，假如被涂布面因向下吹风产生漩涡，由于该保护膜已经干燥，不会受漩涡的影响而产生不匀现象。
另外，涂布装置上可以装有热板65和气流发生装置21与遮挡板64的至少其中之一。此时，可进一步可靠地防止干燥时产生的保护膜的不匀现象。
以上，对本发明的较佳实施例进行了说明，但本发明的技术思想并不受此限制。例如，可由气流发生装置21供给暖风或热风。此时，可快速干燥保护膜。
采用本发明的话，在构成向下吹风的净化室内，可将被涂布面以向下姿势保持的基板的被涂布面上形成的涂布膜均匀地干燥。
权利要求
1.一种涂布膜的干燥方法，在构成向下吹风的净化室内，将贮存在被涂布面以向下姿势保持着的基板的所述被涂布面下方的涂布液在毛细管现象作用下上升，上升的所述涂布液经喷嘴与所述被涂布面接触的状态下，通过该喷嘴在所述被涂布面上来回扫喷，以将所述涂布液涂布到所述被涂布面上而成涂布膜，其特征在于，在扫喷所述喷嘴之际，追随着该喷嘴地方式使局部干燥所述涂布膜的干燥装置扫射。
2.按照权利要求1所述的涂布膜的干燥方法，其特征在于，所述干燥装置为热板。
3.按照权利要求1所述的涂布膜的干燥方法，其特征在于，所述涂布膜为保护膜。
4.按照权利要求1所述的涂布膜的干燥方法，其特征在于，所述基板为在透光性基板的一面形成遮光膜而成的光掩模板。
5.一种涂布膜的形成方法，其特征在于，按照权利要求1所述的涂布膜的干燥方法干燥所述涂布膜后，解除所述基板的保持，接着，将该基板与导电性部件接触。
6.一种光掩模的制造方法，其特征在于，使用权利要求4所述的涂布膜的干燥方法，包含有在所述光掩模的所述遮光膜上形成作为所述涂布膜的保护膜的工序。
7.一种涂布装置，设置在构成向下吹风的净化室内，具有将基板保持在其被涂布面面朝下的姿势的保持机构，配置在由所述保持机构保持的所述基板的所述被涂布面下方的液槽，贮存在所述液槽中的涂布液在毛细管现象作用下被上升到所述被涂布面的同时液体与所述被涂布面接触的喷嘴，和通过将所述喷嘴在所述被涂布面上来回扫喷以将所述涂布液涂布到所述被涂布面上的扫喷机构，其特征在于，还具有局部干燥所述涂布膜的干燥机构，同时，所述干燥机构的结构为追随所述喷嘴的扫喷而在所述被涂布面下扫射。
全文摘要
本发明涉及一种涂布膜的干燥方法、涂布膜的形成方法以及涂布膜形成装置。在构成向下吹风的净化室内，可将被涂布面以向下姿势保持的基板的被涂布面上形成的涂布膜均匀地干燥。涂布装置具有将基板保持在其被涂布面面朝下的姿势的保持机构，配置在由所述保持机构保持的所述基板的所述被涂布面下方的液槽，贮存在所述液槽中的涂布液在毛细管现象作用下被上升到所述被涂布面的同时液体与所述被涂布面接触的喷嘴，和通过将所述喷嘴在所述被涂布面上来回扫喷以将所述涂布液涂布到所述被涂布面上的扫喷机构，其特征在于，还具有局部干燥所述涂布膜的干燥机构，同时，所述干燥机构的结构为追随所述喷嘴的扫喷而在所述被涂布面下扫射。
文档编号B05D3/00GK1817484SQ20061000770
公开日2006年8月16日 申请日期2002年9月28日 优先权日2001年10月3日
发明者元村秀峰 申请人:Hoya株式会社