专利名称：用于制造派瑞林覆层的方法和装置的制作方法
技术领域：
提出一种用于制造派瑞林(Parylen)覆层的方法和装置。
背景技术：
例如在光电子部件的情况下，例如硫化合物的腐蚀性气体导致电部件的敏感表面的腐蚀。因此，光电子部件的银表面例如能够通过这种气体腐蚀，从而导致部件失效。还存在下述应用，所述应用要求使用硅树脂作为浇注材料以包封例如光电子部件 的电部件。然而，硅树脂典型地表现出对于腐蚀性气体或多或少的高渗透性。虽然，硅树脂的改型、例如苯基基团的加强的引入能够降低渗透性。然而，这种改型的硅树脂也没有提供相对于腐蚀足够的长时间稳定性。虽然使用例如金的其他材料来代替例如银的易腐蚀材料提高了腐蚀稳定性，但是该使用出于成本原因而通常是不可能的。具有高阻挡特性从而具有相对于腐蚀气体低的渗透性的材料例如是派瑞林，然而其通常仅借助于真空或者低压方法来施加。因此，对于例如光电子部件的电子部件的批量生产而言，已知的派瑞林覆层方法是不合适的，因为部件必须在封闭的容积和受控制的真空或者低压中来覆层，这或者导致极其长的制造时间，或者还在卷材覆层方法的情况下导致关于覆层设备的不合算地高的技术和经济上的耗费。
发明内容
至少一些实施形式的目的是，提供一种用于在至少一个部件的至少一个表面上制造派瑞林覆层的方法。至少一些实施形式的另一目的是，提供一种用于执行这种方法的装置。这些目的通过具有独立权利要求的特征的方法和装置来实现。方法和装置的有利的实施形式和改进形式在从属权利要求表征并且还从下面的描述和附图
中表明。在根据至少一个实施形式的、用于在至少一个部件的至少一个表面上制造派瑞林覆层的方法中，提供具有派瑞林单体的第一气体。具有派瑞林单体的第一气体借助于第一喷嘴被引导至至少一个部件的至少一个表面。由此，将派瑞林单体沉积在至少一个表面上。在此，至少一个部件设置在具有大气压的环境中。特别地，将构件设置在具有大气压的环境中能够表示，至少一个部件不必设置在封闭的覆层容积部中或者设置在相对于环境封闭的尤其例如是低压室或者真空室的覆层室中，以便执行在此描述的方法。相反于用于制造派瑞林覆层的已知的、必须在封闭的系统中在没有接触环境的情况下执行的方法，在此描述的方法能够在所谓的开放系统中执行。具有大气压的环境例如能够通过例如制造车间、覆层实验室或者制造实验室的空间的一部分来形成，使得用于执行在此描述的方法的装置和尤其要借助于该装置覆层的部件在覆层期间能够与剩余的空间接触为，使得气体交换和/或空气交换是可能的。在此处描述的方法中，在对至少一个部件覆层时并且尤其在对多个部件覆层时有利地实现高的产量，因为例如在构成为覆层设备的装置中执行在此描述的方法是可能的。为此，借助于运输机构在具有派瑞林单体的第一气体的馈送期间能够将至少一个部件和尤其多个部件移动并运输经过第一喷嘴，而不必将运输机构集成到封闭的真空室、低压室或覆层室中。利用特殊的真空室以低压方法实现的派瑞林覆层的部件的相当的批量生产仅能够用在条带式制造(Streifenfertigung)中，并且由此没有实现借助在此描述的方法来达到的件数，在在此描述的方法中至少一个部件设置在具有大气压的环境中。在此处描述的方法中，术语派瑞林、聚对亚二甲苯和派瑞林聚合物表示如下热塑性聚合物的组，所述热塑聚合体能够具有经由乙烯桥结合在1，4位置中的派瑞林残基并且例如也能够称作聚对亚二甲苯。作为例如具有下述结构的、也能够称作1，4-醌二甲烷并且能够聚合成派瑞林聚合物的反应性派瑞林单体的原始材料，
权利要求
1.用于在至少一个部件(I)的至少一个表面(11)上制造派瑞林覆层(2)的方法，在所述方法中 -提供具有派瑞林单体的第一气体(4)，以及 -通过借助第一喷嘴(3)将具有所述派瑞林单体的所述第一气体(4)引导至所述至少一个表面(11)来将所述派瑞林单体沉积在所述部件(I)的所述至少一个表面(11)上，其中所述部件(I)设置在具有大气压的环境中。
2.根据权利要求I所述的方法，在所述方法中将第二气体(6)作为等离子流(65)引导至所述至少一个表面(11)，其中在所述第二气体中产生等离子体(64)。
3.根据权利要求2所述的方法，在所述方法中所述部件(I)的所述至少一个表面(11)通过所述等离子流(65)以化学的方式活化。
4.根据权利要求2或3所述的方法，在所述方法中 -在所述第一喷嘴(3)之外提供具有所述派瑞林单体的所述第一气体(4)， -将所述第二气体(6)借助于所述第一喷嘴(3)作为等离子流(65)引导至所述至少一个表面(11)，其中在所述第一喷嘴中产生所述等离子体(64)，以及 -将具有所述派瑞林单体的所述第一气体(4)输送给在所述第一喷嘴(3)中的所述等离子流(65)。
5.根据权利要求2或3所述的方法，在所述方法中将所述第二气体(6)借助于第二喷嘴(5)作为等离子流(65)引导至所述至少一个表面(11)，其中在所述第二喷嘴中产生所述等离子体(64)。
6.根据权利要求I至3和5之一所述的方法，在所述方法中所述派瑞林单体通过在所述第一喷嘴(3)中借助于热量的输送来分解派瑞林二聚物而产生，和/或通过在所述第一喷嘴(3)中的等离子体来产生。
7.根据上述权利要求之一所述的方法，在所述方法中所述部件(I)的所述至少一个表面(11)通过硅树脂和/或金属层来形成。
8.根据上述权利要求之一所述的方法，在所述方法中所述第一气体和/或所述第二气体(6)具有空气、氮气和/或惰性气体。
9.根据上述权利要求之一所述的方法，在所述方法中 -在所述至少一个部件(I)之上设置有盖部(10 )，以及 -所述盖部(10)在所述至少一个部件(I)之上具有朝着所述部件(I)开口的空腔(12)，具有所述派瑞林单体的所述第一气体(4)被导入到所述空腔中。
10.根据上述权利要求之一所述的方法，在所述方法中所述派瑞林单体具有氟取代的派瑞林单体。
11.用于执行根据权利要求I至11之一所述的、用于在至少一个部件(I)的至少一个表面(11)上制造派瑞林覆层(2)的方法的装置，包括 -第一喷嘴(3)，所述第一喷嘴将具有派瑞林单体的第一气体(4)引导至所述部件(I)的所述至少一个表面(11),和 -运输机构(9 )，所述运输机构在具有所述派瑞林单体的所述第一气体(4)的馈送期间将所述至少一个构件(I)移动经过所述第一喷嘴(3)， -其中所述部件(I)设置在具有大气压的环境中。
12.根据权利要求11所述的装置，在所述装置中所述至少一个部件(I)具有多个部件(I)，所述多个部件设置在条带状的引线框架复合件中并且通过所述运输机构(9)移动经过所述第一喷嘴(3)。
13.根据权利要求11或12所述的装置，所述装置还包括在所述至少一个部件(I)之上的盖部(10)，所述盖部在所述至少一个部件(I)之上具有朝着所述至少一个部件(I)开口的空腔(12)，通过所述第一喷嘴(3)将具有所述派瑞林单体的所述第一气体(4)导入到所述空腔中，并且通过所述运输机构(9)将所述至少一个部件(I)移动经过所述空腔。
14.根据权利要求11至13之一所述的装置，在所述装置中 -借助于所述第一喷嘴(3)将第二气体(6)作为等离子流(65)引导至所述至少一个表面(11 )，在所述第二气体中产生等离子体(64)，以及 -将具有所述派瑞林单体的所述第一气体(4)输送给在所述第一喷嘴(3)中的所述等离子流(65)。
15.根据权利要求11至13之一所述的装置，在所述装置中， -借助于第二喷嘴(5)将第二气体(6)作为等离子流(65)引导至所述至少一个表面(II)，其中在所述第二气体中产生等离子体(64)。
全文摘要
提出了一种用于在至少一个部件(1)的至少一个表面(11)上制造派瑞林覆层(2)的方法，其中提供具有派瑞林单体的第一气体(4)，并且通过借助第一喷嘴(3)将具有所述派瑞林单体的所述第一气体(4)引导至所述至少一个表面(11)来将所述派瑞林单体沉积在所述部件(1)的所述至少一个表面(11)上，其中所述部件(1)设置在具有大气压的环境中。此外，提出了一种用于制造派瑞林覆层的装置。
文档编号B05D3/14GK102791388SQ201180012750
公开日2012年11月21日 申请日期2011年3月8日 优先权日2010年3月10日
发明者伊凡·加莱希奇, 克里斯蒂娜·基思, 贝尔特·布劳内 申请人:欧司朗光电半导体有限公司