一种光阻涂布的制造方法
【专利摘要】本发明公开了一种光阻涂布机，包括：一光刻胶喷嘴，一干涉条设置于所述光刻胶喷嘴的前方，一喷流回吸装置设置于所述干涉条的前方，所述喷流回吸装置包括空气驱动装置和喷流回吸主体；所述喷流回吸主体的上端与所述干涉条枢接；所述喷流回吸主体下端开口；所述喷流回吸主体包含喷流腔体和吸入腔体，所述喷流腔体和所述吸入腔体的底部均与空气连通，在所述空气驱动装置的驱动下，从所述喷流腔体喷流出的气体，所述吸入腔体吸入气体；所述喷流回吸主体的下端不与所述玻璃基板相接触。本发明通过喷流回吸装置的强力吸流，将掉落在玻璃基板上的颗粒物，同时通过另一吸流口将颗粒物吸入，以生成除了传感器和干涉条以外的第三道关卡，提高成品率。
【专利说明】一种光阻涂布机
【技术领域】
[0001]本发明涉及光阻涂布【技术领域】，尤其涉及一种应用于阵列/彩膜黄光制程工序(Array/CF Photo Process)的光阻涂布过程中的光阻涂布机。
【背景技术】
[0002]在阵列/彩膜黄光制程工序(Array/CF Photo Process)的光阻涂布过程中，因最新主流设备乃是采用光阻涂布机(Slit coater)以纵向移动涂布光阻。因光阻涂布喷嘴(nozzle)与玻璃基板(glass)的间隙(gap)约为200 μ m,在涂布过程中，若在传送的过程中有在玻璃基板上掉落颗粒物(particle),则光阻涂布喷嘴或是干涉条(bar)与颗粒物接触后，即会造成喷嘴损伤或是玻璃刮伤、破片，或造成各种产品的品味问题(如Mura现象)等异常产生。
[0003]目前光阻涂布针对玻璃基板上落掉异物的对应方法主要有以下两种:
[0004](I)以异物检知传感器(PHOTO sensor)先行侦测玻璃基板表面有无异常或颗粒物，若有异常会立即发出警报并停止涂布动作。但因异物检知传感器可侦测的异物大小有其极限，当异物小于100 μ m时就容易发生误侦测；
[0005]如图1a所示，中国专利CN1695822A公开了一种涂布装置，除尘装置50包括一超声波除尘器51，该超声波除尘器51置于刮刀式喷嘴41前方，并横跨在平台30上方，该超声波除尘器51利用超声波原理及风刀效应去除微粒，其上设有一控制开关的控制装置511和一驱动其进行往复运动的驱动装置，该专利中的超声波除尘器51利用超声波检知微粒或颗粒物的存在；
[0006]如图1b所示，美国专利US2012/0100280A公开了一种光阻涂布装置，其所涉及的光阻涂布装置具有一个微粒探测器240，如果探测器240探测到基板102上有微粒，狭缝涂布机220立即强行停止喷嘴236的运动，使其进入等待状态。
[0007](2)如图2所示，光阻喷嘴O前装设干涉条，异物检知传感器无法正常侦测颗粒物I时，透过干涉条2将颗粒物I卡下，以避免/或减少造成光阻喷嘴O损伤的机率，缺点是若有颗粒物I落掉，而异物检测传感器无法及时检出且干涉条2无法完全卡下颗粒物1，而后造成喷嘴O损伤，之后即会造成显示器横向不均匀痕迹线(Suji Mura)等现象产生，将会有大量异常产品产生而需重新制作玻璃基板3或者不得不将其直接报废，对生产而言构成严重的浪费。
【发明内容】
[0008]针对上述存在的问题，本发明的目的是提供一种光阻涂布机，用以在涂布光阻过程中可以同时间去除掉颗粒物，以将上述造成喷嘴损伤或是产品有显示器亮度不均匀，造成各种痕迹的现象等异常发生率降至最低。
[0009]本发明的目的是通过下述技术方案实现的:
[0010]一种光阻涂布机，包括:
[0011]一光刻胶喷嘴，用于在一玻璃基板上进行光阻涂布；一干涉条设置于所述光刻胶喷嘴的前方，其中:
[0012]一喷流回吸装置设置于所述干涉条的前方，所述喷流回吸装置包括空气驱动装置和喷流回吸主体；
[0013]所述喷流回吸主体的上端与所述干涉条枢接；
[0014]所述喷流回吸主体下端开口 ；
[0015]所述喷流回吸主体包含喷流腔体和吸入腔体，所述喷流腔体和所述吸入腔体的底部均与空气连通，在所述空气驱动装置的驱动下，从所述喷流腔体喷流出的气体，所述吸入腔体吸入气体；
[0016]所述喷流回吸主体的下端不与所述玻璃基板相接触。
[0017]上述光阻涂布机，其中，所述空气驱动装置包括相互连接的电机和叶轮，所述电机与电源连接，所述电机通电后带动所述叶轮进行旋转，使得空气从所述喷流腔体中向下喷出后被吸入所述吸入腔体内。
[0018]上述光阻涂布机，其中，所述喷流回吸主体与所述干涉条之间的夹角大于5°且小于 45。。
[0019]上述光阻涂布机，其特征在于，所述喷流回吸主体靠近所述干涉条的一侧为所述喷流腔体，所述喷流回吸主体背向所述干涉条的一侧为所述吸入腔体。
[0020]上述光阻涂布机，其中，所述喷流腔体的下端端口的前方位置设有遮挡面，所述遮挡面不与所述玻璃基板相接触。
[0021]上述光阻涂布机，其中，所述干涉条垂直于所述玻璃基板并与光刻胶喷嘴平行。
[0022]与已有技术相比，本发明的有益效果在于:
[0023]通过光阻涂布机中的喷流回吸装置的强力吸流，将掉落在玻璃基板上的颗粒物，尤其是极小的颗粒物吹除，同时通过另一吸流口将颗粒物吸入，以生成除了传感器和干涉条以外的第二道关卡，基本实现完全去除颗粒物，避免损伤喷嘴，提闻成品率。
【专利附图】
【附图说明】
[0024]构成本发明的一部分的附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
[0025]图1a示出了现有技术中一种涂布装置的结构示意图；
[0026]图1b示出了现有技术中另一种光阻涂布装置的结构示意图；
[0027]图2示出了现有技术中具有干涉条的喷嘴工作时的状态示意图；
[0028]图3示出了本发明光阻涂布机的喷流回吸装置的结构示意图；
[0029]图4示出了本发明光阻涂布机在工作时的状态示意图。
[0030]附图标记说明
[0031]O 光刻胶喷嘴
[0032]I 颗粒物
[0033]2 干涉条
[0034]3 玻璃基板
[0035]4 喷流回吸装置
[0036]00光阻
[0037]21支臂
[0038]41喷流腔体
[0039]42吸入腔体
[0040]411遮挡面
【具体实施方式】
[0041]下面结合原理图和具体操作实施例对本发明作进一步说明，需要说明的是，在不冲突的情况下，本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0042]本发明光阻涂布机中包括光刻胶喷嘴0，在光刻胶喷嘴O的前方设置一干涉条2，光刻胶喷嘴O在一玻璃基板3上进行光阻涂布，“前方”是指沿着在玻璃基板3上的光阻涂布的运动方向。随着光刻胶喷嘴O的慢慢地向前移动,玻璃基板3表面渐渐形成一层均勻的光阻00。干涉条2垂直于玻璃基板3并且与光刻胶喷嘴O平行。在干涉条2前方设置一喷流回吸装置4，喷流回吸装置4包括相互连接的空气驱动装置和喷流回吸主体，干涉条2上端向前伸出一支臂21，喷流回吸主体的上端与支臂21枢接。
[0043]如图3和图4所示，喷流回吸装置4下端开口，喷流回吸装置4内部分隔为喷流腔体41和吸入腔体42，喷流腔体41和吸入腔体42的底部均与空气连通，在空气驱动装置的驱动下，从喷流腔体41喷流出的气体，吸入腔体42吸入气体。
[0044]喷流回吸装置4下端不能与玻璃基板3相接触，否则不但不能实现本发明目的，还将损坏玻璃基板3的表面结构。
[0045]空气驱动装置包括相互连接的电机和叶轮，叶轮设置于位于靠近喷流回吸主体的上端位置，电机与电源连接，电机可以采用步进电机，在电力充沛的前提下，电机和叶轮相互组合，以达成电机的电能转化为叶轮的机械能的目的，在本发明实施例中，电机使得叶轮旋转，并在叶轮的周边形成密集空气流。电机通电后带动叶轮进行旋转，使得空气从喷流腔体41中向下喷出后立即被吸入了吸入腔体42内。电机和叶轮的结构是机电领域常见且容易实现的结构，电机和叶轮的相互配合可以实现近距离或者远距离半密闭腔室内空气的流动，空气流动的方向的改变只要通过改变叶轮的旋转方向即可。在本发明的优选实施例中，电机和叶轮可以直接设置在喷流回吸装置4的顶端，也可以只将叶轮设置在喷流回吸装置4的顶端，而将电机设于远端并且与叶轮电连接，也可将电机和叶轮都设置于远端，通过密闭通道与喷流回吸装置4连接。
[0046]喷流回吸装置4的上端与光刻胶喷嘴O枢接，喷流回吸装置4与干涉条2之间的夹角可调。在本发明优选实施例中，喷流回吸装置4与干涉条2之间的夹角大于5°且小于45°。夹角大小可针对喷/吸流的动作所产生的气流流场进行调整，当该夹角调整至最佳角度时，一般便不会产生扰流而影响光阻涂布时的一致性。
[0047]在本发明的优选实施例中，同时参看图3和图4所示，喷流回吸装置4的喷流回吸主体的靠近干涉条2的一侧为喷流腔体41，喷流回吸主体背向干涉条2的一侧为吸入腔体42，图中的箭头示出了本实施例中的空气流动方向。喷流腔体41的下端端口的前方位置设有一遮挡面411，对于遮挡面411的形状与大小不予具体限定，只要满足不与玻璃基板3相接触且对从喷流腔体4中喷出的气流起到一定的阻挡作用即可。当喷流腔体41在空气驱动装置的作用下向下喷出气流后，原本附着在玻璃基板3表面的颗粒物I受到强大空气流的冲击后离开了被附着物体表面，遮挡面411使得飞扬起来的颗粒物I尽可能集中在喷流回吸装置4的下方吸入口，使得颗粒物I尽可能多地进入吸入腔体41，降低了颗粒物I污染大气的几率。空气驱动装置的电机功率可调，应当根据玻璃基板3表面实际的颗粒物大小来调整功率大小，吸入腔体41内的颗粒物积聚到一定程度后，可通过更换喷流回吸主体以继续整个工作流程。
[0048]本发明通过喷流回吸装置的强力吸流作用，将掉落在玻璃基板3上的颗粒物，尤其是极小的颗粒物吹除，同时通过另一吸流口将颗粒物吸入，以生成除了传感器和干涉条以外的第三道关卡(本发明实施例可以是已经包括传感器和干涉条前两道关卡，也可以是干涉条为第一道关卡)，基本实现了完全去除颗粒物的技术效果，同时有效避免了喷嘴损伤，提闻了成品率。
[0049]以上对本发明的具体实施例进行了详细描述，但本发明并不限制于以上描述的具体实施例，其只是作为范例。对于本领域技术人员而言，任何等同修改和替代也都在本发明的范畴之中。因此，在不脱离本发明的精神和范围下所作出的均等变换和修改，都应涵盖在本发明的范围内。
【权利要求】
1.一种光阻涂布机，包括: 一光刻胶喷嘴(O)，用于在一玻璃基板(3)上进行光阻涂布； 一干涉条(2)设置于所述光刻胶喷嘴(O)的前方； 其特征在于: 一喷流回吸装置(4)设置于所述干涉条(2)的前方，所述喷流回吸装置(4)包括空气驱动装置和喷流回吸主体； 所述喷流回吸主体的上端与所述干涉条(2)枢接； 所述喷流回吸主体下端开口； 所述喷流回吸主体包含喷流腔体(41)和吸入腔体(42)，所述喷流腔体(41)和所述吸入腔体(42)的底部均与空气连通，在所述空气驱动装置的驱动下，从所述喷流腔体(41)喷流出的气体，所述吸入腔体(42)吸入气体； 所述喷流回吸主体的下端不与所述玻璃基板(3)相接触。
2.如权利要求1所述光阻涂布机，其特征在于，所述空气驱动装置包括相互连接的电机和叶轮，所述电机与电源连接，所述电机通电后带动所述叶轮进行旋转，使得空气从所述喷流腔体(41)中向下喷出后被吸入所述吸入腔体(42)内。
3.如权利要求1所述光阻涂布机，其特征在于，所述喷流回吸主体与所述干涉条(2)之间的夹角大于5°且小于45°。
4.如权利要求3所述光阻涂布机，其特征在于，所述喷流回吸主体靠近所述干涉条(2)的一侧为所述喷流腔体(41)，所述喷流回吸主体背向所述干涉条(2)的一侧为所述吸入腔体(42)。
5.如权利要求4所述光阻涂布机，其特征在于，所述喷流腔体(41)的下端端口的前方位置设有遮挡面(411)，所述遮挡面(411)不与所述玻璃基板(3 )相接触。
6.如权利要求1所述光阻涂布机，其特征在于，所述干涉条(2)垂直于所述玻璃基板(3)并与光刻胶喷嘴(O)平行。
【文档编号】B05C5/02GK104162496SQ201310180667
【公开日】2014年11月26日 申请日期:2013年5月15日 优先权日:2013年5月15日
【发明者】吴韦良 申请人:上海和辉光电有限公司