粘合剂组合物、粘合剂层、粘合片、光学构件以及触控面板的制作方法
【专利摘要】本发明涉及粘合剂组合物、粘合剂层、粘合片、光学构件以及触控面板。本发明提供高度地保持胶粘可靠性及透明性并且防腐蚀效果优良的光学构件、以及能够以低成本有效地制造这样的光学构件的粘合剂组合物及粘合片。本发明的粘合剂组合物，其特征在于，含有防锈剂和基础聚合物，所述基础聚合物不含有或者实质上不含有含酸性基团单体作为构成单体成分。另外，本发明提供具有由所述粘合剂组合物形成的粘合剂层的粘合片。
【专利说明】粘合剂组合物、粘合剂层、粘合片、光学构件以及触控面板
【技术领域】
[0001]本发明涉及粘合剂组合物、粘合剂层、粘合片、光学构件以及触控面板。
【背景技术】
[0002]近年来，在各种领域中广泛使用液晶显示器(IXD)等显示装置、触控面板等输入装置。这些显示装置和输入装置的制造等中，在粘贴光学构件的用途中使用粘合片。例如，在触控面板等各种显示装置中的光学构件的粘贴中，使用透明的粘合片。
[0003]对于这些显示装置和输入装置而言，存在由于水分或酸性气体、盐水、腐蚀性成分从外部环境侵入到内部而腐蚀金属布线的问题。随着近年传感器的大型化和窄框化，具备铜布线的例子增多。铜仅次于银具有优良的导电性，作为布线是有用的材料，但是已知容易氧化、腐蚀。一般而言，为了防止金属的氧化、腐蚀，采用通过在金属布线上涂布防湿性的保护层以防止水分或腐蚀成分的浸入的方法(专利文献I)。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:日本特开2011-28594号公报
【发明内容】
[0007]但是，上述涂布需要在设置金属布线后进行，工序增加，费时，因此，在制造成品率的下降、成本方面成为重大课题。另外，使用防湿性的保护层时，有时在胶粘性以及耐发泡剥离性(在高温环境下在粘合片与被粘物的界面处不易产生发泡或剥离的特性)等胶粘可靠性、透明性的确保方面产生问题。
[0008]因此，本发明的目的在于提供高度地保持胶粘性和耐发泡剥离性(在高温环境下在粘合片与被粘物的界面处不易产生发泡或剥离的特性)等胶粘可靠性、透明性并且铜布线等金属布线的防腐蚀效果优良的光学构件(特别是带粘合片的光学构件)、以及能够以低成本有效地制造这样的光学构件的粘合剂层、形成该粘合剂层的粘合剂组合物及粘合片。
[0009]因此，本发明人为了解决上述课题进行了广泛深入的研究，结果发现，通过使用适当的构成粘合剂层的基础聚合物并且使用防锈剂，可以具有胶粘可靠性、透明性以及防腐蚀效果，从而完成了本发明。
[0010]特别是发现，通过不含有或者实质上不含有含酸性基团单体作为构成基础聚合物的单体成分并且使用防锈剂，对防腐蚀效果得到协同作用，从而完成了本发明。 [0011]即，本发明提供一种粘合剂组合物，其特征在于，含有防锈剂和基础聚合物，所述基础聚合物不含有或者实质上不含有含酸性基团单体作为构成单体成分。
[0012]另外，本发明提供一种粘合剂组合物，其特征在于，含有防锈剂和构成基础聚合物的单体成分的混合物或构成基础聚合物的单体成分的混合物的部分聚合物，并且不含有或者实质上不含有含酸性基团单体作为所述单体成分。
[0013]另外，本发明提供一种粘合剂组合物，其特征在于，含有防锈剂和丙烯酸类聚合物(A)，丙烯酸类聚合物(A)不含有或者实质上不含有含羧基单体作为构成单体成分。
[0014]另外，本发明提供一种粘合剂组合物，其特征在于，含有防锈剂和构成丙烯酸类聚合物(A)的单体成分的混合物或构成丙烯酸类聚合物(A)的单体成分的混合物的部分聚合物，并且不含有或者实质上不含有含羧基单体作为所述单体成分。
[0015]上述粘合剂组合物，优选相对于构成丙烯酸类聚合物(A)的单体成分总量(100重量份)，含有5重量份以上含羟基单体。
[0016]上述粘合剂组合物，优选相对于构成丙烯酸类聚合物(A)的单体成分总量(100重量份)，含有5重量份以上含氮原子单体。
[0017]上述防锈剂优选为苯并三唑类化合物。
[0018]上述粘合剂组合物，优选其雾度(根据JIS K7136)为1.0%以下。
[0019]上述粘合剂组合物，优选其总光线透射率(根据JIS K7361-1)为90%以上。
[0020]上述粘合剂组合物，优选下述定义的薄层电阻率的变化率T小于150%，
[0021]薄层电阻率的变化率T (%)= (R1-R0) /R0XlOO
[0022]R0:试验片的薄层电阻值(初期薄层电阻)
[0023]R1:在85°C、85%RH的环境下放置300小时后，在23°C、50%RH的环境下放置24小时后的试验片的薄层电阻值
[0024]试验片:包含作为在三乙酰纤维素基材的一个面上设置有防反射处理层的薄膜的AR薄膜、前述粘合剂组合物、作为在环烯烃基材的一个面上设置有铜层的薄膜的铜薄膜、前述粘合剂组合物和玻璃板，具有按此顺序层叠的结构，所述AR薄膜的三乙酰纤维素基材侧的面与所述粘合剂组合物接触，所述铜薄膜的环烯烃基材侧的面隔着所述粘合剂组合物与所述玻璃板接触的试验片。
[0025]另外，本发明提供一种粘合片，其具有由上述粘合剂组合物构成的粘合剂层。
[0026]上述粘合片，优选其相对于玻璃板的180°剥离胶粘力为8N/20mm以上。
[0027]上述粘合片，优选其厚度为12~350 μ m。
[0028]另外，本发明提供一种光学构件，其至少具有所述粘合片以及基板，其中，所述基板的至少单面上具有金属布线，所述基板的具有所述金属布线的侧的面上粘贴有所述粘合片。
[0029]上述光学构件，优选所述金属布线为铜布线。
[0030]另外，本发明提供一种触控面板，其至少具有所述粘合片以及基板，其中，所述基板的至少单面上具有金属布线，所述基板的具有所述金属布线的侧的面上粘贴有所述粘合片。
[0031]上述触控面板，优选所述金属布线为铜布线。
[0032]发明效果
[0033] 根据本发明的粘合剂组合物，可以具有胶粘可靠性、透明性以及防腐蚀效果，因此，可以得到高度地保持胶粘性及耐发泡剥离性等胶粘可靠性及透明性并且铜布线等金属布线的防腐蚀效果优良的光学构件、以及可以制造这样的光学构件的粘合剂层和粘合片。另外，通过赋予粘合剂层防腐蚀能力，不需要保护层的涂布，工序减少，因此，成本降低，成品率提闻。【专利附图】
【附图说明】
[0034]图1是表示本发明的光学构件的优选方式的具体例的示意图。
[0035]图2是表示本发明的触控面板的优选方式的具体例的示意图。
[0036]图3是耐发泡剥离性评价中使用的带高差玻璃的俯视图。
[0037]图4是上述带高差玻璃的剖视图(A-A’线剖视图)。
[0038]图5是上述带高差玻璃的剖视图(B-B’线剖视图)。
[0039]图6是试验片的概略剖视图。
[0040]图7是表示金属布线图案的一例的平面示意图。
[0041]标号说明
[0042]1、4、5光学构件
[0043]2触控面板
[0044]3金属布线
[0045]10、10a、10b、IOc粘合片
[0046]11透明导电薄膜
[0047]12a、12b透明基板
[0048]13薄膜传感器
[0049]14a、14b偏振板
[0050]15硬涂薄膜
[0051]20带高差玻璃(高差试验片)
[0052]21玻璃板
[0053]22高差
[0054]6试验片
[0055]61AR 薄膜
[0056]611防反射处理层
[0057]612三乙酰纤维素基材
[0058]62粘合剂层
[0059]63铜薄膜
[0060]631铜层
[0061]632环烯烃基材
[0062]64玻璃板
[0063]71a、72a、73a、74a、75a、76a 金属布线(图案布线)
[0064]71b、72b、73b、74b、75b、76b 金属布线(图案布线)
[0065]81、82、83、84、85、86电极(透明电极)
【具体实施方式】
[0066][1.粘合剂组合物及粘合剂层]
[0067]本发明的光学用粘合剂，只要含有防锈剂和基础聚合物，上述基础聚合物不含有或者实质上不含有含酸性基团单体作为构成单体成分即可，其它方面没有特别限制。
[0068]另外，本发明的粘合剂组合物，只要含有防锈剂和构成基础聚合物的单体成分的混合物或者构成基础聚合物的单体成分的混合物的部分聚合物，不含有或者实质上不含有含酸性基团单体作为上述单体成分即可，其它方面没有特别限制。
[0069]另外，本说明书中，上述的“单体成分的混合物”包括由单一单体成分构成的情况和由两种以上单体成分构成的情况。另外，上述“单体成分的混合物的部分聚合物”是指上述的“单体成分的混合物”的构成单体成分中的一种或两种以上单体成分部分地聚合的组合物。
[0070]另外，本发明的粘合剂组合物至少含有基础聚合物和防锈剂。本发明的粘合剂组合物不含有或者实质上不含有含酸性基团单体作为构成基础聚合物的单体成分，并且含有防锈剂，由此，关于防腐蚀效果，可以得到协同效果，具有优良的防腐蚀效果。
[0071]另外，本发明的粘合剂组合物可以含有防锈剂和丙烯酸类聚合物(A)，丙烯酸类聚合物(A)不含有或者实质上不含有含羧基单体作为构成单体成分。另外，本发明的粘合剂组合物可以含有防锈剂和构成丙烯酸类聚合物(A)的单体成分的混合物或者构成丙烯酸类聚合物(A)的单体成分的混合物的部分聚合物，不含有或者实质上不含有含羧基单体作为前述单体成分。
[0072]本发明的粘合剂组合物可以具有任意形态，可以列举例如乳液型、溶剂型、热熔融型(热熔型)、活性能量射线固化型等。 另外，本说明书中，粘合剂组合物是指形成粘合剂层的组合物，包括形成粘合剂的组合物。
[0073]作为上述基础聚合物，没有特别限制，可以列举例如:丙烯酸类粘合剂层作为基础聚合物所含有的丙烯酸类聚合物、橡胶类粘合剂层(天然橡胶类粘合剂层或合成橡胶类粘合剂层等)作为基础聚合物所含有的橡胶类聚合物、聚硅氧烷类粘合剂层作为基础聚合物所含有的聚硅氧烷类聚合物、聚酯类粘合剂层作为基础聚合物所含有的聚酯类聚合物、聚氨酯类粘合剂层作为基础聚合物所含有的聚氨酯类聚合物、聚酰胺类粘合剂层作为基础聚合物所含有的聚酰胺类聚合物、环氧类粘合剂层作为基础聚合物所含有的环氧类聚合物、乙烯基烷基醚类粘合剂层作为基础聚合物所含有的乙烯基烷基醚类聚合物、含氟型粘合剂层作为基础聚合物所含有的含氟型聚合物等。其中，从透明性、耐候性、胶粘可靠性以及由于单体的种类丰富因而容易进行粘合剂层的功能设计等方面考虑，上述基础聚合物优选丙烯酸类聚合物。即，上述粘合剂层优选为含有后述丙烯酸类聚合物(A)作为基础聚合物的丙烯酸类粘合剂层。另外，基础聚合物可以单独使用或者两种以上组合使用。
[0074]上述粘合剂层(由本发明的粘合剂组合物形成的粘合剂层)中上述基础聚合物的含量，没有特别限制，优选为75重量％以上(例如75~99.9重量％)，更优选85重量％以上(例如85~99.9重量％)。
[0075]上述粘合剂层不含有或者实质上不含有含酸性基团单体(例如含羧基单体、含磺基单体、含磷酸基单体等)。因此，可以得到优良的金属布线的防腐蚀效果。另外，可以使薄层电阻率的变化率T的值小于规定的值，从而得到优良的防腐蚀效果。另外，含酸性基团单体的含量相对于上述粘合剂层总量优选为0.05重量％以下(例如O~0.05重量％)，更优选
0.01重量％以下(例如O~0.01重量％)，进一步优选0.001重量％以下(例如O~0.001重量％)，这可以称为实质上不含有。
[0076]上述粘合剂层为丙烯酸类粘合剂层时，上述粘合剂层不含有或者实质上不含有含羧基单体等含酸性基团单体作为构成作为基础聚合物含有的丙烯酸类聚合物的单体成分。上述粘合剂层含有丙烯酸类聚合物(A)作为基础聚合物时，更优选不含有或者实质上不含有含羧基单体作为构成丙烯酸类聚合物(A)的单体成分。因此，上述粘合剂层可以得到优良的防腐蚀效果。另外，可以使薄层电阻率的变化率T的值小于规定的值，从而得到优良的防腐蚀效果。关于含羧基单体的含义、“实质上不含有”的含义、具有羧基以外的酸性基团的单体等，与作为构成丙烯酸类聚合物(A)的单体成分的情况同样。另外，含羧基单体的含量，相对于上述粘合剂层总量优选为0.05重量％以下(例如O~0.05重量％)，更优选0.01重量％以下(例如O~0.01重量％)，进一步优选0.001重量％以下(例如O~0.001重量％)，这可以称为实质上不含有。
[0077]上述粘合剂层是透明的或者具有透明性。因此，透过上述粘合剂层的可视性、外观性优良。因此，上述粘合剂层(由本发明的粘合剂组合物形成的粘合剂层)适合用于光学用途。
[0078]上述粘合剂层(由本发明的粘合剂组合物形成的粘合剂层)的雾度(根据JISK7136)没有特别限制，优选1.0%以下，更优选0.8%以下。雾度为1.0%以下时，得到优良的透明性和优良的外观，因此优选。另外，关于上述雾度，例如可以制成粘合剂层(厚度:10(^111)，将其在常态(231:、50%1^)下至少静置24小时，然后粘贴到载片(例如总光线透射率91.8%、雾度0.4%的载片)上而得到试样，并使用雾度计(株式会社村上色彩技术研究所制造，商品名“HM-150”)进行测定。
[0079]上述粘合剂层的可见光波长范围内的总光线透射率(根据JISK7361-1)没有特别限制，优选85%以上，更优选88%以上。总光线透射率为85%以上时，得到优良的透明性和优良的外观，因此优选。另外，关于上述总光线透射率，例如可以制成粘合剂层(厚度:100 μ m)，将其在常态(23°C、50%RH)下至少静置24小时，然后，在具有隔片的情况下将其剥离，粘贴到载片(例如总光线透射率91.8%、雾度0.4%的载片)上而得到试样，并使用雾度计(株式会社村上色彩技术研究所制造，商品名“HM-150”)进行测定。
[0080]上述粘合剂层(由本发明的粘合剂组合物形成的粘合剂层)的下述定义的薄层电阻率的变化率T没有特别限制，优选小于150%。另外，薄层电阻率的变化率T如下所定义。
[0081]薄层电阻率的变化率T (%)= (R1-R0) /R0XlOO
[0082]R0:试验片的薄层电阻值(初期薄层电阻)
[0083]R1:在85°C、85%RH的环境下放置300小时后，在23°C、50%RH的环境下放置24小时后的试验片的薄层电阻值
[0084]试验片:包含作为在三乙酰纤维素基材的一个面上设置有防反射处理层的薄膜的AR薄膜、粘合剂组合物、作为在环烯烃基材的一个面上设置有铜层的薄膜的铜薄膜、粘合剂组合物和玻璃板，具有按此顺序层叠的结构，AR薄膜的三乙酰纤维素基材侧的面与粘合剂组合物接触，铜薄膜的环烯烃基材侧的面隔着粘合剂组合物与玻璃板接触的试验片。
[0085]另外，本说明书中，有时将这样定义的薄层电阻率的变化率T简称为“薄层电阻率的变化率T ”。 [0086]关于求出上述粘合剂层的薄层电阻率的变化率T时使用的试验片，在图6中示出其概略剖视图。试验片6由AR薄膜61、粘合剂层62、铜薄膜63、玻璃板64构成，具有从一个面朝向另一个面依次层叠有AR薄膜61、粘合剂层62、铜薄膜63、粘合剂层62及玻璃板64的结构。另外，AR薄膜61由防反射处理层611和三乙酰纤维素基材612构成，铜薄膜63由铜层631和环烯烃基材632构成。试验片6具有从一个面朝向另一个面依次层叠有AR薄膜61的防反射处理层611、AR薄膜61的三乙酰纤维素基材612、粘合剂层62、铜薄膜63的铜层631、铜薄膜63的环烯烃基材632、粘合剂层62及玻璃板64的结构。
[0087]上述粘合剂层的薄层电阻率的变化率T，优选小于150%，更优选140%以下，进一步优选135%以下，进一步更优选130%以下。上述粘合剂层的薄层电阻率的变化率T小于150%,因此可以得到更优良的防腐蚀性能，因此优选。
[0088]作为上述粘合剂层的制作方法，没有特别限制。例如，可以通过制作上述粘合剂组合物(前体组合物)并根据需要进行活性能量射线照射、加热干燥等来制作。具体而言，可以列举:通过在聚合性单体混合物或其部分聚合物中根据需要添加防锈剂(例如下述的苯并三唑类化合物等)、添加剂等并进行混合来制作的方法等。
[0089]上述防锈剂包含防止金属的锈(锈蚀)、腐蚀的化合物。作为防锈剂，没有特别限制，可以列举例如胺化合物、苯并三唑类化合物、亚硝酸盐类等。此外，可以列举苯甲酸铵、邻苯二甲酸铵、硬脂酸铵、棕榈酸铵、油酸铵、碳酸铵、二环己胺苯甲酸盐、脲、乌洛托品、硫脲、氨基甲酸苯酯、环己基铵-N-环己基氨基甲酸盐(CHC)等。另外，防锈剂可以单独使用或者两种以上组合使用。
[0090]作为上述胺化合物，可以列举例如:2_氨基-2-甲基-1-丙醇、一乙醇胺、一异丙醇胺、二乙基乙醇胺、氨或氨水等含羟基胺化合物；吗啉等环状胺；环己胺等环状烷基胺化合物；3-甲氧基丙胺等线性烷基胺等。另外，作为亚硝酸盐类，可以列举例如:二环己基亚硝酸铵(DICHAN)、二异丙基亚硝酸铵(DIPAN)、亚硝酸钠、亚硝酸钾、亚硝酸钙等。
[0091]其中，从对基础聚合物的相容性、透明性的方面考虑，并且从添加后使基础聚合物反应时不容易抑制基础 聚合物的反应(交联、聚合)的方面考虑，上述防锈剂优选苯并三唑类化合物。
[0092]上述防锈剂的含量没有特别限制，相对于基础聚合物100重量份优选含有0.02~15重量份。另外，相对于构成基础聚合物的单体成分的混合物或该混合物(构成基础聚合物的单体成分的混合物)的部分聚合物100重量份,优选含有0.02~15重量份。上述含量为
0.02重量份以上时，容易得到良好的防腐蚀性能，因此优选。另一方面，上述含量低于15重量份时，容易确保透明性，另外，容易确保耐发泡剥离性等胶粘可靠性，因此优选。
[0093]特别地，从能够以高水平均衡地得到胶粘可靠性、透明性以及防腐蚀性的特性的观点考虑，优选上述基础聚合物为丙烯酸类聚合物(特别是后述的丙烯酸类聚合物(A))，并且上述防锈剂为苯并三唑类化合物。即，上述粘合剂层优选为至少含有作为基础聚合物的丙烯酸类聚合物(特别是后述的丙烯酸类聚合物(A))和作为防锈剂的苯并三唑类化合物的丙烯酸类粘合剂层。
[0094][1-1.苯并三唑类化合物]
[0095]苯并三唑类化合物的含量没有特别限制，相对于构成丙烯酸类聚合物(A)的单体成分总量(100重量份)优选为0.02~3重量份，更优选为0.02~2.5重量份，进一步优选
0.02~2重量份。即，上述粘合剂层相对于丙烯酸类聚合物(A)IOO重量份优选含有0.02~3重量份苯并三唑类化合物，更优选含有0.02~2.5重量份，进一步优选含有0.02~2重量份。苯并三唑类化合物的量过少时，有时不能使薄层电阻率的变化率T的值小于规定的值。另外，苯并三唑类化合物的量为一定量以下，因此可以可靠地确保耐发泡剥离性等胶粘可靠性，并且也可以可靠地防止粘合片的雾度上升。
[0096]作为上述苯并三唑类化合物，只要是具有苯并三唑骨架的化合物则没有特别限
制，从得到更优良的防腐蚀效果的观点考虑，优选具有下式(I)表示的结构。
[0097]
【权利要求】
1.一种粘合剂组合物，其特征在于， 含有防锈剂和基础聚合物， 所述基础聚合物不含有或者实质上不含有含酸性基团单体作为构成单体成分。
2.一种粘合剂组合物，其特征在于， 含有防锈剂和构成基础聚合物的单体成分的混合物或构成基础聚合物的单体成分的混合物的部分聚合物，并且不含有或者实质上不含有含酸性基团单体作为所述单体成分。
3.一种粘合剂组合物，其特征在于， 含有防锈剂和丙烯酸类聚合物(A)， 丙烯酸类聚合物(A)不含有或者实质上不含有含羧基单体作为构成单体成分。
4.一种粘合剂组合物，其特征在于， 含有防锈剂和构成丙烯酸类聚合物(A)的单体成分的混合物或构成丙烯酸类聚合物(A)的单体成分的混合物的部分聚合物，并且不含有或者实质上不含有含羧基单体作为所述单体成分。
5.如权利要求3或4所述的粘合剂组合物，其中， 相对于构成丙烯酸类聚合物(A)的单体成分总量(100重量份)，含有5重量份以上含羟基单体。
6.如权利要求3~5中任一项所述的粘合剂组合物，其中， 相对于构成丙烯酸类聚合物(A)的单体成分总量(100重量份)，含有5重量份以上含氮原子单体。
7.如权利要求1~6中任一项所述的粘合剂组合物，其中， 所述防锈剂为苯并三唑类化合物。
8.一种光学用的粘合剂层，其由权利要求1~7中任一项所述的粘合剂组合物形成。
9.如权利要求8所述的粘合剂层，其雾度(根据JISK7136)为1.0%以下。
10.如权利要求7或8所述的粘合剂层，其总光线透射率(根据JISK7361-1)为90%以上。
11.如权利要求8~10中任一项所述的粘合剂层，其中， 下述定义的薄层电阻率的变化率T小于150%， 薄层电阻率的变化率T (%)= (R1-R0)ZR0XlOO R0:试验片的薄层电阻值(初期薄层电阻) R1:在85°C、85%RH的环境下放置300小时后，在23°C、50%RH的环境下放置24小时后的试验片的薄层电阻值 试验片:包含作为在三乙酰纤维素基材的一个面上设置有防反射处理层的薄膜的AR薄膜、前述粘合剂组合物、作为在环烯烃基材的一个面上设置有铜层的薄膜的铜薄膜、前述粘合剂组合物和玻璃板，具有按此顺序层叠的结构，所述AR薄膜的三乙酰纤维素基材侧的面与所述粘合剂组合物接触，所述铜薄膜的环烯烃基材侧的面隔着所述粘合剂组合物与所述玻璃板接触的试验片。
12.—种粘合片，其具有权利要求8~11中任一项所述的粘合剂层。
13.如权利要求12所述的粘合片，其相对于玻璃板的180°剥离胶粘力为8N/20mm以上。
14.如权利要求12或13所述的粘合片，其厚度为12~350μ m。
15.一种光学构件，其至少具有权利要求12~14中任一项所述的粘合片以及基板，其中， 所述基板的至少单面上具有金属布线，所述基板的具有所述金属布线的侧的面上粘贴有所述粘合片。
16.如权利要求15所述的光学构件,其中， 所述金属布线为铜布线。
17.—种触控面板，其至少具有权利要求12~14中任一项所述的粘合片以及基板，其中， 所述基板的至少单面上具有金属布线，所述基板的具有所述金属布线的侧的面上粘贴有所述粘合片。
18.如权利要求17所述的触控面板，其中， 所述金属布线为铜布 线。
【文档编号】C09J11/06GK103992753SQ201410051097
【公开日】2014年8月20日 申请日期:2014年2月14日 优先权日:2013年2月14日
【发明者】形见普史, 野中崇弘, 岸冈宏昭 申请人:日东电工株式会社