本发明涉及抛光液，特别涉及一种硅溶胶抛光液及其制备方法。
背景技术：
：抛光剂的作用是将被抛光工件表层凸起处去除，提高工件表面的平整度。例如，对半导体晶片进行抛光时，借助于外力，磨料将晶片表面经过化学反应生成的钝物质去除，加工出所需的平整性。目前常用抛光剂有二氧化硅胶体、氧化铝、氧化铈和纳米金刚石等悬浮抛光剂。目前国际上对铝合金抛光使用的悬浮抛光剂通常为纳米氧化铝液体，其硬度大，机械作用大，能保证较高的抛光速率，但是纳米氧化铝硬度大，很容易对铝或铝合金表面形成严重划伤，用其抛光后表面不易清洗，难以确保平整度。技术实现要素：本发明所要解决的技术问题是提供一种硅溶胶抛光液及其制备方法，解决了传统的铝合金抛光使用的悬浮抛光剂通常为纳米氧化铝液体，其硬度大，容易对铝或铝合金表面形成严重划伤，用其抛光后表面不易清洗，难以确保平整度的问题。为实现上述目的，本发明提供以下的技术方案：一种硅溶胶抛光液的制备方法，其中，所述制备方法包括：将硅溶胶、表面活性剂、钝化剂、缓蚀剂、磷酸、柠檬酸、草酸和氨水混合，并加热搅拌形成所述硅溶胶抛光液，其中，相对于100重量份的硅溶胶，所述表面活性剂的用量为10-15重量份，所述钝化剂的用量为1-4重量份，所述缓蚀剂的用量为2-8重量份，所述磷酸的用量为10-20重量份，所述柠檬酸的用量为2-10重量份，所述草酸的用量为1-5重量份，所述氨水的用量为5-8重量份。优选的，所述表面活性剂为辛基酚聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚和脂肪酸聚氧乙烯酯中的一种或多种。优选的，所述缓蚀剂为铬酸钠、亚硝酸钠和硅酸钠中的一种或多种。优选的，所述加热温度为30-45℃，加热时间为10-20min。优选的，所述搅拌速度为800-1000r/min，搅拌时间为5-10min。优选的，所述钝化剂的原料包括有磷钼酸铵、硬脂酸锌和过氧化氢。本发明还提供了一种硅溶胶抛光液，所述硅溶胶抛光液由上述的制备方法制得。有益效果：本发明提供了一种硅溶胶抛光液及其制备方法，其中，所述制备方法包括：将硅溶胶、表面活性剂、钝化剂、缓蚀剂、磷酸、柠檬酸、草酸和氨水混合，并加热搅拌形成所述硅溶胶抛光液，通过各原料之间的协同作用，使得制得的硅溶胶抛光液不会对铝或铝合金表面形成严重划伤，且容易清洗，同时用于制备该硅溶胶抛光液的方法简单、原料易得。具体实施方式下面详细说明本发明的优选实施方式。实施例1一种硅溶胶抛光液的制备方法，所述制备方法包括：将100g硅溶胶、10g表面活性剂、1g钝化剂、2g缓蚀剂、10g磷酸、2g柠檬酸、1g草酸和5g氨水混合，并加热（加热温度为30℃，加热时间为10min）搅拌（搅拌速度为800r/min，搅拌时间为5min）形成所述硅溶胶抛光液a1。实施例2一种硅溶胶抛光液的制备方法，所述制备方法包括：将100g硅溶胶、15g表面活性剂、4g钝化剂、8g缓蚀剂、20g磷酸、10g柠檬酸、5g草酸和8g氨水混合，并加热（加热温度为45℃，加热时间为20min）搅拌（搅拌速度为1000r/min，搅拌时间为10min）形成所述硅溶胶抛光液a2。实施例3一种硅溶胶抛光液的制备方法，所述制备方法包括：将100g硅溶胶、12g表面活性剂、2g钝化剂、5g缓蚀剂、15g磷酸、5g柠檬酸、2g草酸和6g氨水混合，并加热（加热温度为35℃，加热时间为15min）搅拌（搅拌速度为900r/min，搅拌时间为8min）形成所述硅溶胶抛光液a3。对比例1一种硅溶胶抛光液的制备方法，所述制备方法包括：将100g硅溶胶、5g表面活性剂、0.5g钝化剂、1g缓蚀剂、5g磷酸、1g柠檬酸、0.5g草酸和2g氨水混合，并加热（加热温度为30℃，加热时间为10min）搅拌（搅拌速度为800r/min，搅拌时间为5min）形成所述硅溶胶抛光液d1。对比例2一种硅溶胶抛光液的制备方法，所述制备方法包括：将100g硅溶胶、20g表面活性剂、6g钝化剂、10g缓蚀剂、25g磷酸、15g柠檬酸、10g草酸和10g氨水混合，并加热（加热温度为45℃，加热时间为20min）搅拌（搅拌速度为1000r/min，搅拌时间为10min）形成所述硅溶胶抛光液d2。表1实施例编号测试金属表面粗糙度（μm）a10.159a20.185a30.175d10.325d20.384通过表1可以看出，在本发明范围内制得的抛光液a1-a3对测试金属表面的抛光效果较好，在本发明范围外制得的抛光液d1和d2对测试金属表面的抛光效果较差。以上所述的仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。技术特征：技术总结本发明公开了一种硅溶胶抛光液及其制备方法，其中，所述制备方法包括：将硅溶胶、表面活性剂、钝化剂、缓蚀剂、磷酸、柠檬酸、草酸和氨水混合，并加热搅拌形成所述硅溶胶抛光液，解决了传统的铝合金抛光使用的悬浮抛光剂通常为纳米氧化铝液体，其硬度大，容易对铝或铝合金表面形成严重划伤，用其抛光后表面不易清洗，难以确保平整度的问题。技术研发人员：王飞受保护的技术使用者：合肥博之泰电子科技有限公司技术研发日：2017.06.28技术公布日：2017.08.18