1.一种高粘性低剥离硅胶保护膜,其特征在于,其包括紫外固化硬涂层、电晕处理层、PET基材膜层、高粘硅胶层和氟素膜剥离层,所述紫外固化硬涂层、电晕处理层、PET基材膜层、高粘硅胶层和氟素膜剥离层按照从上至下的顺序依次贴合;所述PET基材膜层的厚度为40~60微米,所述高粘硅胶层的厚度为10~20微米,氟素膜剥离层的厚度为45~55微米。
2.根据权利要求1所述的高粘性低剥离硅胶保护膜,其特征在于,所述紫外固化硬涂层的厚度为10~15微米。
3.根据权利要求1或2所述的高粘性低剥离硅胶保护膜,其特征在于,所述电晕处理层的厚度为3~5微米。
4.根据权利要求1所述的高粘性低剥离硅胶保护膜,其特征在于,其还包括防刮PET膜层,该防刮PET膜层通过压克力胶层贴合在紫外固化硬涂层上。
5.根据权利要求1所述的高粘性低剥离硅胶保护膜,其特征在于,所述防刮PET膜层的厚度为115~135微米,压克力胶层的厚度为22~28微米。