一种用于非金属材料精密抛光的研磨膏及其制备方法与流程

本发明涉及一种研磨膏及其制备方法，特别是涉及一种用于非金属材料精密抛光的研磨膏及其制备方法。

背景技术：

1、研磨膏主要有四大类，分别为刚玉类研磨膏、碳化硅(碳化硼)类研磨膏、氧化铬类研磨膏和金刚石类研磨膏，其中，刚玉类研磨膏主要用于钢铁件研磨，碳化硅、碳化硼类研磨膏主要用于硬质合金、玻璃、陶瓷和半导体等研磨，氧化铬类研磨膏主要用于精细抛光或非金属类的研磨，金刚石类研磨膏主要用于钨钢模具、光学模具、注塑模具等研磨抛光；金相分析实验过程中的研磨抛光，牙科材料(义齿)研磨抛光，牙科材料(义齿)研磨抛光，硬质合金等高硬度材料的研磨。

2、常规的针对金属产品的研磨膏在用于氧化铝、氧化锆、碳化硅陶瓷和石英等材料的精密抛光研磨中往往都需要8-9小时的抛光时间，因加工时间过长，极为影响生产效率。

3、现有技术使用金刚石微粉作为研磨液和研磨膏的磨料，目前该类磨料或是制备工艺复杂成本较高，或是存在抛光效果差、粗糙度达不到设计要求的情况。

4、因而，需要对现有技术进行改进。

技术实现思路

1、本发明提供一种用于非金属材料精密抛光的研磨膏，用以解决上述问题。

2、本发明采用的一个技术方案是：

3、提供一种用于非金属材料精密抛光的研磨膏，该研磨膏按照质量份数计包括：

4、金刚石微粉4份-8份；

5、硅石粉15份-30份；

6、甘油8份-16份；及

7、猪油55份-110份；

8、或者，按照质量份数计包括：

9、金刚石微粉4份-8份；

10、硅石粉15份-30份；

11、甘油15份-30份；及

12、钻石油40份-80份。

13、进一步的，所述研磨膏按照质量份数由以下组分组成：

14、金刚石微粉5份；

15、硅石粉20份；

16、甘油10份；及

17、猪油70份。

18、进一步的，所述研磨膏按照质量份数由以下组分组成：

19、金刚石微粉5份；

20、硅石粉20份；

21、甘油20份；及

22、钻石油50份。

23、进一步的，所述金刚石微粉为单晶金刚石微粉。

24、进一步的，所述单晶金刚石微粉的粒径为0.5μm。

25、提供一种用于非金属材料精密抛光的研磨膏的制备方法，包括以下步骤：

26、(1)在常温状态下，将金刚石微粉、硅石粉和甘油充分搅拌均匀后得到原浆；

27、(2)在常温状态下，向所述原浆中加入猪油或者钻石油并充分搅拌均匀得到研磨膏；

28、(3)对所述研磨膏进行配装。

29、进一步的，步骤(1)中的搅拌速度为30-50rad/min，搅拌时间为5min。

30、进一步的，步骤(2)中的搅拌速度均为30-100rad/min，搅拌时间均为5min。

31、进一步的，在步骤(2)中，向所述原浆中加入猪油时，所述猪油为凝结固体状态。

32、本发明一种用于非金属材料精密抛光的研磨膏及其制备方法的有益效果是：

33、1、该研磨膏能针对氧化铝、氧化锆、碳化硅陶瓷和石英等材料进行精密抛光研磨，仅需抛光30分钟即可达到较好的抛光效果，表面粗糙度可从原来的ra0.4达到ra0.1，提高了抛光精度和效率的同时，提高了产品的成品率；

34、2、该研磨膏由金刚石微粉、硅石粉、甘油、猪油或钻石油组成，成分简单，成本低廉，适宜推广；

35、3、该研磨膏的制备方法便捷，经过十多分钟的搅拌即可配装，便于制备和取用。

技术特征：

1.一种用于非金属材料精密抛光的研磨膏，其特征在于，按照质量份数计包括：

2.根据权利要求1所述的一种用于非金属材料精密抛光的研磨膏，其特征在于，按照质量份数计包括：

3.根据权利要求1所述的一种用于非金属材料精密抛光的研磨膏，其特征在于，按照质量份数计包括：

4.根据权利要求1所述的一种用于非金属材料精密抛光的研磨膏，其特征在于，所述金刚石微粉为单晶金刚石微粉。

5.根据权利要求3所述的一种用于非金属材料精密抛光的研磨膏，其特征在于，所述单晶金刚石微粉的粒径为0.5μm。

6.如权利要求1-5任一所述的一种用于非金属材料精密抛光的研磨膏的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

7.根据权利要求6所述的一种用于非金属材料精密抛光的研磨膏的制备方法，其特征在于，步骤(1)中的搅拌速度为30-50rad/min，搅拌时间为5min。

8.根据权利要求6所述的一种用于非金属材料精密抛光的研磨膏的制备方法，其特征在于，步骤(2)中的搅拌速度为30-100rad/min，搅拌时间均为5min。

9.根据权利要求6所述的一种用于非金属材料精密抛光的研磨膏的制备方法，其特征在于，在步骤(2)中，向所述原浆中加入猪油时，所述猪油为凝结固体状态。

技术总结
本发明一种用于非金属材料精密抛光的研磨膏及其制备方法包括：一定比例的金刚石微粉、硅石粉、甘油和猪油或者一定比例的金刚石微粉、硅石粉、甘油和钻石油，本发明中的研磨膏能针对氧化铝、氧化锆、碳化硅陶瓷和石英等材料进行精密抛光研磨，仅需抛光30分钟即可达到较好的效果，表面粗糙度可从原来的Ra0.4达到Ra0.1，提高抛光精度和效率，提高产品成品率，该研磨膏成本低廉，制备便捷，易于推广。

技术研发人员：肖旭
受保护的技术使用者：常熟颢文电子科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/13