纳米铜覆膜铝箔生产线的制作方法

1.本实用新型涉及一种用于制作纳米铜粉与铝箔构成的纳米铜覆膜铝箔生产线，属复合金属箔生产线制造领域。


背景技术：

2.cn211297571u、名称“一种用于高屏蔽铜铝复合箔”， 本领域技术人员需将上铜箔层和下铜箔层分别镀覆于铝箔层的顶面和底面，将陶瓷纤维层包覆于上铜箔层的顶面后，将纳米涂层涂覆于陶瓷纤维层的顶面，加工完成得到一张完整的复合箔，将复合箔包覆于线缆等需要进 行电磁屏蔽的物体上，铝箔层、上铜箔层和下铜箔层起到屏蔽功能，同时陶瓷纤维层起到防火阻燃、加强整体结构强度的功能，纳米涂层采用钛酸钡为原料，大大提高了本复合箔顶面的绝缘性能。其不足之处：在铝箔面上镀铜，不仅制造成本高，效率低，而且无法有效地提高其抗拉强度，并且在包复电缆的过程中其镀层易产生裂纹和剥落现象。


技术实现要素：

3.设计目的：避免背景技术中的不足，设计一种用于制作纳米铜粉与铝箔构成的纳米铜覆膜铝箔生产线。
4.设计方案：为实现上述设计目的。本实用新型在结构设计上：1、采用改性聚氨酯导电胶料（或eaa导电胶料）与纳米铜粉相结合作为喷涂基材，是本实用新型的技术特征之一。这样设计的目的在于：例如改性乙烯丙烯酸共聚物（ethylene acrylic acid 简称eaa）是一种具有热塑性和极高粘接性的聚合物，还具有抗撕裂、抗穿刺、防腐等保护作用，将此与纳米铜粉相结合所得到的纳米铜粉喷涂液，当其喷涂到铝箔面后，纳米铜粉喷涂液在铝箔面上形成的膜不仅自身具有导电功能，而且能有效地提高铝箔本身的抗撕裂性能和抗穿刺性能，并且能使铝箔面避免被氧化，同时由于纳米铜粉喷涂液本身对纳米铜粉具有很强的粘附性，因此它使纳米铜粉与铝箔面牢固结合在一起，使复合后的纳米铜铝箔的抗静电性、抗拉强度得到根本性的提高。2、采用喷涂方法将纳米铜粉喷涂到铝箔面的设计，是本实用新型的技术特征之二。这样设计的目的在于： 静电喷涂是以被涂物体为正电极，涂料雾化装置为负电极。前者接地，后者通电，这样就形成了两个电极，在利用同性相斥，异性相吸的原理，使涂料由雾化装置（雾化喷头）处喷出，最后形成了一层平均且牢固的薄膜。本实用新型正是利用这一原理，将铝箔作为正电极，将纳米铜粉涂料雾化喷头为负电极，实现了将纳米铜粉与铝箔面高效、快速涂覆的目的，在本领域带来了意想不到的技术效果，即：抗拉强度达到136mpa以上，最大荷重达到46n以上，最大荷重伸长率达到64%以上。更重要的是：裸露的纳米铜粉当与静电相触时，能瞬间释放。故此本实用新型在预处理装置后设置静电喷涂装置，该静电喷涂装置设有阳极导电刷，该阳极导电刷与铝箔一面相触形成正电极，喷涂装置中喷头为负电极，进而完成对铝箔另一面的高效、高品质喷涂。
5.技术方案：一种纳米铜覆膜铝箔生产线，由铝箔放卷辊、预处理装置、喷涂装置、烘干通道、对辊碾压装置、冷却装置及纳米铜覆膜铝箔收卷辊构成，铝箔放卷辊放出的铝箔进
入预处理装置进行预处理使铝箔表面打毛形成粗糙面，喷涂装置中阳性电极与铝箔一面接触，喷涂装置中的涂料雾化喷头喷涂使铝箔另一面被喷涂一层纳米铜粉喷涂层，经过烘干通道烘干后进入冷却装置冷却后收到纳米铜覆膜铝箔收卷辊。
6.本实用新型与背景技术相比，一是采用纳米铜覆膜铝箔生产线制作的纳米铜覆膜铝箔不仅抗撕裂性能和抗穿刺性能好，而且避免了纳米铜覆膜铝箔中铝箔面被氧化；二是由于纳米铜覆膜铝箔中eaa本身对纳米铜粉具有很强的粘附性，在喷涂装置的作用下不仅使纳米铜粉与铝箔面牢固结合在一起，而且所喷涂层薄、弹性好，使复合后的纳米铜铝箔的抗静电性能得到根本性的提高，有效地提高其导电性和抗拉强度。
附图说明
7.图1是纳米铜覆膜铝箔生产线示意图。
8.图2是纳米铜覆膜铝箔示意图。
具体实施方式
9.实施例1：参照附图1。一种纳米铜覆膜铝箔生产线，由铝箔放卷辊1、预处理装置2、喷涂装置3、烘干通道5、对辊碾压装置6、冷却装置7及纳米铜覆膜铝箔收卷辊8构成，铝箔放卷辊1放出的铝箔进入预处理装置2进行预处理使铝箔表面打毛形成粗糙面，喷涂装置3中阳性电极4与铝箔一面接触，喷涂装置中的涂料雾化喷头喷涂使铝箔另一面被喷涂一层纳米铜粉喷涂层，经过烘干通道5烘干后进入冷却装置7冷却（既可是常温冷却，也可以是强制冷却）后收到纳米铜覆膜铝箔收卷辊8。喷涂装置3系现有技术，如静电喷涂，在此不作叙述。
10.纳米铜粉喷涂材料中60-75%纳米铜粉、25-40%聚氨酯胶液的取值包括端值，并且可以在其范围内任何取值且两者取值之和小于或等于100%。例如：60-75%纳米铜粉取值为60，61，62，63，64，65，66，67，68，69，70，71，72，73，74，75，并且包括两个整数之间的小数，即60.1，
……
,74.9（%）；聚氨酯胶液25-40%取值25，26，27，28，29，30，31，32，33，34，35，36，37，38，39，40，并且包括两个整数之间的小数，即25.1，
……
,39.9（%）。
11.图2是采用图1生产线所制作的纳米铜覆膜铝箔，纳米铜覆膜铝箔，包括粗糙面铝箔，所粗糙面铝箔9厚度等于或小于9μｍ，铝箔面上附有一层纳米铜粉导电膜且铝箔和铝箔面上的纳米铜导电膜10的厚度之和等于或小于13μｍ。纳米铜粉导电膜10耐温温度大于190℃。所述纳米铜粉导电膜10厚度等于或小于3μｍ。蜂窝状结构形成是通过控制纳米铜粉与改性聚氨酯导电胶液的配比量，以及控制改性聚氨酯导电胶液与纳米铜粉混合的均匀度，当达到二者指标后即形成类似的蜂窝状结构（由纳米铜粉粒立和改性聚氨酯导电胶构成）。二者指标取值实现蜂窝状结构的方法：二种材料混合、搅拌、显微镜下观察形成结构，根据形成的现状增加或减少纳米铜粉的添加量，直到在显微镜下观察形成类似蜂窝状结构时为止，即确定为两者的取值量。其制作方法：包括电晕处理后铝箔，电晕处理后铝箔表面喷涂一层由改性聚氨酯导电胶液与纳米级铜粉构成的纳米铜粉喷涂膜层，然后进入烘道烘干冷却后，清除表面残留纳米铜粉后收卷。所述铝箔厚度小于或等于9μｍ。所述纳米铜粉喷涂层小于或等于3μｍ。所述改性聚氨酯导电胶液为eaa导电胶液，改性聚氨酯导电胶（液）或eaa导电胶（液）均系现有技术，在此不作叙述。所述改性聚氨酯导电胶液耐温温度大于190℃。
12.需要理解到的是：上述实施例虽然对本实用新型的设计思路作了比较详细的文字
描述，但是这些文字描述，只是对本实用新型设计思路的简单文字描述，而不是对本实用新型设计思路的限制，任何不超出本实用新型设计思路的组合、增加或修改，均落入本实用新型的保护范围内。


技术特征：
1.一种纳米铜覆膜铝箔生产线，其特征是由铝箔放卷辊（1）、预处理装置（2）、喷涂装置（3）、烘干通道（5）、对辊碾压装置（6）、冷却装置（7）及纳米铜覆膜铝箔收卷辊（8）构成。

技术总结
本实用新型涉及一种纳米铜覆膜铝箔生产线，由铝箔放卷辊、预处理装置、喷涂装置、烘干通道、对辊碾压装置、冷却装置及纳米铜覆膜铝箔收卷辊构成，铝箔放卷辊放出的铝箔进入预处理装置进行预处理使铝箔表面打毛形成粗糙面，喷涂装置中阳性电极与铝箔一面接触，喷涂装置中的涂料雾化喷头喷涂使铝箔另一面被喷涂一层纳米铜粉喷涂层，经过烘干通道烘干后进入冷却装置冷却后收到纳米铜覆膜铝箔收卷辊。优点：由于纳米铜覆膜铝箔中EAA本身对纳米铜粉具有很强的粘附性，在喷涂装置的作用下不仅使纳米铜粉与铝箔面牢固结合在一起，而且所喷涂层薄、弹性好，使复合后的纳米铜铝箔的抗静电性能得到根本性的提高，有效地提高其导电性和抗拉强度。抗拉强度。抗拉强度。


技术研发人员：沈国忠
受保护的技术使用者：杭州巨力绝缘材料有限公司
技术研发日：2021.10.24
技术公布日：2023/1/12