本发明涉及抛光,更具体的涉及一种抛光磨料及其制备方法和抛光方法。
背景技术:
1、目前,精密加工技术应用越来越广泛,而抛光工艺是该技术中经常利用到的一个环节,占据重要地位,可广泛应用于计算机磁头、半导体芯片、光学玻璃器件及陶瓷制品等表面抛光,以获得高精度、低粗糙度的表面。众所周知,通过喷丸抛光机将高速旋转的离心盘将弹性磨粒(又称喷丸)以一定的速度甩抛在工件的表面,能达到镜面抛光的效果。当前,抛光磨料的制备通常是将若干磨料粒子和载体混合,以得到抛光磨料,大部分磨料粒子内嵌载体内部,这会使得载体表面的磨料粒子量少,抛光效果欠佳。
2、因此,有必要提供一种抛光效果优良的抛光磨料以解决上述现有技术的不足。
技术实现思路
1、为了克服现有技术缺陷,本发明提供了一种抛光磨料的制备方法,通过该方法能够在弹性橡胶表面包覆一层磨料粒子,具有优良的抛光效果。
2、为实现上述目的,一方面,本发明提供一种抛光磨料的制备方法,包括步骤:
3、将橡胶材料压制成条状的胶条,然后粉碎成橡胶粒子,过筛,得到磨料载体;
4、通过粘合剂将磨料粒子包覆在所述磨料载体表面,形成抛光磨料。
5、与现有技术相比,本发明的抛光磨料的制备方法中,通过对弹性橡胶材料进行加工使其成为磨料载体,再借助粘合剂将磨料粒子粘附在磨料载体表面,使得磨料粒子包覆该磨料载体表面。采用高速离心力将抛光磨料甩射而出,抛光磨料在变形滑移的过程中,对工件表面进行反复抛光,由于磨料粒子全部包覆该磨料载体表面,故而可达到优良的抛光效果,且由于橡胶材料为弹性体,在抛光时既可以降低工件表面粗糙度,又不会伤到工件尺寸,且该磨料粒子不容易碳化,可以循环使用,使用寿命长且降低成本。
6、另一方面,本发明还提供一种抛光磨料,采用上述抛光磨料的制备方法制得。
7、又一方面,本发明还提供一种抛光方法,采用离心式抛射方式将该抛光磨料高速喷射撞击工件本体。当具有弹性的抛光磨料高速接触工件表面,会使抛光磨料压缩产生变异,于工件表面造成滑动摩擦,达成高效率和高质量的抛光工作。
1.一种抛光磨料的制备方法,其特征在于,包括步骤:
2.如权利要求1所述的抛光磨料的制备方法,其特征在于,所述磨料载体的粒径为0.2-0.8mm。
3.如权利要求1所述的抛光磨料的制备方法,其特征在于,所述橡胶材料选自氟橡胶。
4.如权利要求1所述的抛光磨料的制备方法,其特征在于,所述橡胶材料的密度≥1.8g/cm3。
5.如权利要求1所述的抛光磨料的制备方法,其特征在于,所述粘合剂选自改性硅烷胶粘剂。
6.如权利要求1所述的抛光磨料的制备方法,其特征在于,所述磨料粒子选自钻石微粉、碳化硅微粉、三氧化二铝微粉、单晶刚玉微粉、石英微粉、河砂微粉、金刚微粉中的至少一种。
7.一种抛光磨料,其特征在于,采用如权利要求1-6任一项所述的抛光磨料的制备方法制得。
8.一种抛光方法,其特征在于,采用离心式抛射方式将权利要求7所述的抛光磨料高速喷射撞击工件。
9.如权利要求8所述的抛光方法,其特征在于,采用抛光装置实现离心式抛射,所述抛光装置包括:
10.如权利要求9所述的抛光方法,其特征在于,所述皮带运输装置包括从动轮和主动轮及位于所述从动轮和主动轮之间的皮带,所述皮带上间隔设有若干凸出板。