本发明涉及封装胶膜,具体为一种双玻组件用黑色高反射封装胶膜及其制备方法。
背景技术:
1、现有的夹胶膜存在以下不足:黑颜料自身是吸光材料,对红外波段光均被吸收,黑色组件提升功率问题。现有技术中黑色背板,只适用于单玻组件,双玻组件中无法适用。
技术实现思路
1、针对现有技术的不足,本发明提供一种所制备的胶膜适用于双玻bipv组件,有效的降低隐裂提升组件功率的一种双玻组件用黑色高反射封装胶膜及其制备方法。
2、为实现以上目的,本发明通过以下技术方案予以实现:
3、一种双玻组件用黑色高反射封装胶膜,包括按照重量份数计的原料组成:eva树脂或poe树脂70-98.5份,耐老化助剂0-3份,偶联剂0.3-2份,交联剂0.5-3份,抗pid助剂0-2份,功能母粒0.5-20份。
4、作为优选,所述偶联剂为n-(β-氨乙基)-γ-氨丙基三甲氧基硅烷,3,3,3-三氟丙基甲基二甲氧基硅烷,乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三过氧叔丁基硅烷、γ―甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰基氧基硅烷、3-缩水甘油丙基三甲氧基硅烷、3-氨丙基三乙氧基硅烷,3-(2,3-环氧丙氧)-丙基甲基二乙氧基硅烷、环氧基改性聚硅氧烷、三乙氧基乙烯基硅烷一种或多种。
5、作为优选,所述交联剂为过氧化合物,taic。
6、作为优选,所述抗pid助剂为多官能团笼型聚倍半硅氧烷,乙烯基环氧类化合物,含乙氧基或者含丙氧基的丙烯酸酯,乙氧化季戊四醇三丙烯酸酯一种或多种。
7、作为优选,所述功能母粒为白色母粒或高反射黑色母粒其中一种或两种。
8、作为优选,所述白色母粒组成为:基体树脂80-50份和金红石型纳米级钛白粉20-50份,无机有机包覆处理,tio2含量为95-99%之间;
9、或,
10、所述的高反射黑色母粒组成为:基体树脂60-98份,黑色颜料为2-40份,黑色母粒在780-1100nm波段反射率≥79.5%。
11、作为优选,所述黑色颜料为碳黑、石墨、铁铬黑、铬绿黑、锰铁黑、锰铬镍黑、钛铁黑,苯系物中的一种或几种。黑色颜料为碳黑、石墨、铁铬黑、铬绿黑、锰铁黑、锰铬镍黑、钛铁黑,苯系物中的一种或几种。
12、一种双玻组件用黑色高反射封装胶膜的制备方法,物料按照比例配料,高速混合3-10h,待助剂完全吸收后,工艺温度75-110℃流延挤出成型,胶膜预交联处理,制得太阳能组件用双玻黑色高反射封装胶膜。
13、作为优选,所述封装胶膜为单层或多层结构;封装胶膜可见光波段反射率≥94%,780-1100nm近红外波段反射率≥75%。
14、作为优选,所述封装胶膜为双层结构;一层为白色胶膜,一层为黑色胶膜,复合后厚度比为1:3至3:1。解决组件白色与黑色颜料上溢的问题。
15、作为优选,双层共挤白加黑色胶膜,复合方式为膜内覆合或分配器覆合中的一种。
16、作为优选,封装胶膜经过高能电子束轰击活化预交联处理后形成产品,所述高能电子束能量为5~30kgy。
17、作为优选,运用抗pid助剂、大分子量偶联剂、低聚物偶联剂,从结构中抑制eva降解,降低老化poe剥离强度衰减,双玻组件pid192h功率衰减﹤3%;dh2000h功率衰减﹤4%。
18、运用多层结构、预交联技术,解决封装胶膜颜色上溢带来的外观缺陷,胶膜在780-1100nm近红外波段,反射率≥75%,双玻组件功率提升2-5w。
19、广泛应用于bipv组件
20、优点:
21、1、运用高效的黑色高反材料添加到配方中,与白色物料,共挤流延成膜,制得黑白封装胶膜。
22、2、多种结构,多层结构预交联后形成黑+白封装胶膜,解决外观颜料上溢到电池片问题。
23、3、抗pid助剂与长效偶联剂,降低湿热老化、pid测试功率衰减。
1.一种双玻组件用黑色高反射封装胶膜,其特征在于:包括按照重量份数计的原料组成:eva树脂或poe树脂70-98.5份,耐老化助剂0-3份,偶联剂0.3-2份,交联剂0.5-3份,抗pid助剂0-2份,功能母粒0.5-20份。
2.根据权利要求1所述一种双玻组件用黑色高反射封装胶膜,其特征在于:所述偶联剂为n-(β-氨乙基)-γ-氨丙基三甲氧基硅烷,3,3,3-三氟丙基甲基二甲氧基硅烷,乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三过氧叔丁基硅烷、γ―甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰基氧基硅烷、3-缩水甘油丙基三甲氧基硅烷、3-氨丙基三乙氧基硅烷,3-(2,3-环氧丙氧)-丙基甲基二乙氧基硅烷、环氧基改性聚硅氧烷、三乙氧基乙烯基硅烷一种或多种。
3.根据权利要求1所述一种双玻组件用黑色高反射封装胶膜,其特征在于:所述交联剂为过氧化合物,taic。
4.根据权利要求1所述一种双玻组件用黑色高反射封装胶膜,其特征在于:所述抗pid助剂为多官能团笼型聚倍半硅氧烷,乙烯基环氧类化合物,含乙氧基或者含丙氧基的丙烯酸酯,乙氧化季戊四醇三丙烯酸酯一种或多种。
5.根据权利要求1所述一种双玻组件用黑色高反射封装胶膜,其特征在于:所述功能母粒为白色母粒或高反射黑色母粒其中一种或两种。
6.根据权利要求5所述一种双玻组件用黑色高反射封装胶膜,其特征在于:所述白色母粒组成为:基体树脂80-50份和金红石型纳米级钛白粉20-50份,无机有机包覆处理,tio2含量为95-99%之间;
7.根据权利要求6所述一种双玻组件用黑色高反射封装胶膜,其特征在于:所述黑色颜料为碳黑、石墨、铁铬黑、铬绿黑、锰铁黑、锰铬镍黑、钛铁黑,苯系物中的一种或几种。
8.根据权利要求1所述的一种双玻组件用黑色高反射封装胶膜的制备方法,其特征在于:物料按照比例配料,高速混合3-10h,待助剂完全吸收后,工艺温度75-110℃流延挤出成型,胶膜预交联处理,制得太阳能组件用双玻黑色高反射封装胶膜。
9.根据权利要求1所述一种双玻组件用黑色高反射封装胶膜,其特征在于:所述封装胶膜为单层或多层结构;封装胶膜可见光波段反射率≥94%,780-1100nm近红外波段反射率≥75%。
10.根据权利要求9所述一种双玻组件用黑色高反射封装胶膜,其特征在于:所述封装胶膜为双层结构;一层为白色胶膜,一层为黑色胶膜,复合后厚度比为1:3至3:1。
11.据权利要求10所述一种双玻组件用黑色高反射封装胶膜,其特征在于:双层共挤白加黑色胶膜,复合方式为膜内覆合或分配器覆合中的一种。
12.根据权利要求8所述一种双玻组件用黑色高反射封装胶膜的制备方法,其特征在于:封装胶膜经过高能电子束轰击活化预交联处理后形成产品,所述高能电子束能量为5~30kgy。
13.根据权利要求8所述一种双玻组件用黑色高反射封装胶膜的制备方法,其特征在于:运用抗pid助剂、大分子量偶联剂、低聚物偶联剂,从结构中抑制eva降解,降低老化poe剥离强度衰减,双玻组件pid192h功率衰减﹤3%;dh2000h功率衰减﹤4%。