本技术涉及减粘膜,具体涉及一种uv减粘膜。
背景技术:
1、uv减粘膜是一种工业产品保护胶带,其常态下具有很强的粘性,但经过uv光照后其粘性会急剧下降,以便于轻松的从工件表面剥离,常用于电子工业中对工件的研磨、切割等制程的载带及保护。现有的uv减粘膜通常包括pet薄膜基材层,涂以uv光固化减粘型丙烯酸胶粘剂而成uv减粘胶层,以及叠设置pet薄膜基材层一侧的离型保护层。
2、但在印刷电路板等清洗过程中,需要uv减粘膜具有较好的阻隔水溶性清洁剂的作用,而目前的uv减粘膜由于对水溶性清洁剂的阻隔性能不佳,在清洗过程中水溶性清洁剂在保护膜表面残留甚至侵蚀到uv减粘胶层中,导致uv减粘膜粘性下降,从而使uv减粘膜整块脱落,失去对工件的保护能力。
3、因此,一种具有对水溶性清洁剂阻隔性能好的uv减粘膜有待设计。
技术实现思路
1、本实用新型的目的在于针对现有技术的缺陷和不足,提供一种uv减粘膜,其具较佳的阻隔水溶性清洁剂的性能优势。
2、为实现上述目的,本实用新型提供了一种uv减粘膜,包括:
3、基材层,其具有第一表面和相对设置的第二表面;
4、水溶性清洁剂阻隔层,其覆盖于所述基材层的第一表面;
5、uv减粘胶层,覆盖于所述基材层的第二表面;
6、离型膜层,粘附于所述uv减粘胶层远离所述基材层的一侧。
7、可选地,所述水溶性清洁剂阻隔层为af膜,其厚度为0.15~0.2mm。
8、可选地,该uv减粘膜还包括一抗静电层,其设于所述离型膜层远离所述基材层的一侧或设于所述水溶性清洁剂阻隔层和所述基材层之间。
9、可选地,所述抗静电层为氧化锡和氧化钛涂料复合层。
10、可选地,该uv减粘膜还包括一紫外光阻隔层,其设于所述离型膜层远离所述基材层的一侧。
11、可选地,所述紫外光阻隔层为紫外光阻隔膜,其厚度为20~35μm。
12、可选地,所述基材层为pet片材,其厚度为25~75μm。
13、可选地,所述uv减粘胶层为丙烯酸型减粘树脂片材,其厚度为25~50μm。
14、可选地,所述基材层与所述uv减粘胶层的连接面为磨砂面结构。
15、可选地,所述离型膜层为硅油离型膜。
16、采用上述技术方案后,本实用新型有益效果为:
17、1、所述基材层的第一表面覆盖一层水溶性清洁剂阻隔层,具体的为af膜,由于af膜可以在基材层表面形成低表面张力层或防尘层,为基材层表面提供高疏油疏水性能,使得该uv减粘膜具有较佳的阻隔水溶性清洁剂的性能,因此在具有水溶性清洁剂的使用环境中仍具有较强的粘性;
18、2、在离型膜层远离基材层的一侧或水溶性清洁剂阻隔层和基材层之间设置抗静电层,可以使得uv减粘膜具有良好防静电能力。当抗静电层设于离型膜层远离基材层的一侧时,即可在uv减粘膜使用之前防止uv减粘膜带静电,避免在uv减粘膜带静电并与受保护零件贴合时,静电会对受保护工件产生影响,例如吸附灰尘、放电破坏、放电产热和放电产生电磁场干扰等。当抗静电层设于水溶性清洁剂阻隔层和基材层之间时,则由于uv减粘膜贴附于工件后,在对印刷电路板进行清洗时,清洗剂能带走uv减粘膜上所带的静电,也能避免静电会对受保护工件产生影响。
19、3、在离型膜层远离基材层的一侧设置紫外光阻隔层,使得uv减粘膜在使用前能够阻挡紫外光照射到uv减粘膜内部,避免其粘性下降。
1.一种uv减粘膜,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的uv减粘膜,其特征在于,所述水溶性清洁剂阻隔层(1)为af膜,其厚度为0.15~0.2mm。
3.如权利要求1所述的uv减粘膜,其特征在于,还包括一抗静电层(5),其设于所述离型膜层(4)远离所述基材层(2)的一侧或设于所述水溶性清洁剂阻隔层(1)和所述基材层(2)之间。
4.如权利要求1~3任一项所述的uv减粘膜,其特征在于,还包括一紫外光阻隔层(6),其设于所述离型膜层(4)远离所述基材层(2)的一侧。
5.如权利要求4所述的uv减粘膜,其特征在于,所述紫外光阻隔层(6)为紫外光阻隔膜,其厚度为20~35μm。
6.如权利要求1所述的uv减粘膜,其特征在于,所述基材层(2)为pet片材,其厚度为25~75μm。
7.如权利要求1所述的uv减粘膜,其特征在于,所述uv减粘胶层(3)为丙烯酸型减粘树脂片材,其厚度为25~50μm。
8.如权利要求1所述的uv减粘膜,其特征在于,所述基材层(2)与所述uv减粘胶层(3)的连接面为磨砂面结构。
9.如权利要求1所述的uv减粘膜,其特征在于,所述离型膜层(4)为硅油离型膜。