专利名称：容积流体输送系统中的流体状态的控制的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于控制容积流体分配系统中流体压力的装置和方法D更具 体地，本发明提供一种改进的、用于控制容积流体供给管线中半导体加工流体(例 如超高纯度或者浆料流体)压力的装置和方法，所述供给管线提供用于半导体制造 或者其它相关应用的加工工具。
背景技术：
半导体装置的制造是一个复杂的过程，常常需要超过200道工序。每个步骤 需要工况的最优设置以获得半导体装置的高产出率。这些工序中的很多步骤需要利 用流体，尤其是在制造过程中用于蚀刻、曝光、镀层和抛光装置的表面。在高纯度 流体应用中，流体必须基本上不含颗粒和金属杂质，以避免成品装置中的缺陷。在 化学一机械抛光浆料应用中，流体必须不含能够刮伤装置表面的大颗粒。此外，在 制造过程中，必须有稳定充足的流体供应到执行不同步骤的加工工具，以避免操作 变动和生产停工。
自从九十年代引入半导体市场以来，具有真空压力发动机的容积流体分配系 统已经在半导体制造过程中扮演了重要角色。因为这些系统基本上由惰性的润湿的 材料构造，例如过氟烷氧基(PFA)和聚四氟乙烯(PTFE)，并且因为它们使用惰性 的压縮气体作为供给流体的动力，它们基本上不会使加工流体带有颗粒和金属杂 质。另外，单个容积流体分配系统可以以足够的压力向多个加工工具提供连续的加
工流体供给。因此，真空压力流体分配系统的出现在半导体市场中起到了重要需求 的作用。
由于种种理由(例如O型圈失效、阀失效或者输入流体被污染)，容积流体分 配系统在流体供给管线中包括过滤器。然而，通过过滤器的流体的流速的急剧变化 对过滤器造成液压冲击，导致之前被滤过的颗粒释放到流体中，因此产生颗粒浓度 的峰值。尽管保持通过过滤器的流体的最小流速有助于减少颗粒的释放，但是问题
没有消除。相应地，流体的压力和流量波动会导致在流体中颗粒浓度的波动，这会 导致半导体晶片的缺陷。
此外，正如以上的讨论，流体分配系统常常供给许多工具。当工具需要加工 流体时，流体从供给管线被泵送，这造成供给管线中的流体压力下降大约5到
25psi。如接下来将会详细讨论的，具有真空一压力发动机的典型的流体分配系统，
造成供给管线中的压力波动，这反过来会影响供给到工具的流体的流量和纯净状 态。因此，需要有一种流体分配系统，其可以最小化或者消除供给管线中流体的压
力和流量波动。
图la描述了一个标准的、用于向半导体加工工具供应加工流体的真空一压力 流体分配系统。其它类型的真空一压力流体分配系统在美国专利号5,330,072和 6,019,250中有描述，其在此作为参考引入。
参见图la，真空一压力流体分配系统通常包括两个压力一真空容器101和 103。每个容器配备有至少两个液位传感器105、 107、 109和111 (例如电容传感 器)。传感器105和109分别监测容器101和103中的低液位状态；而传感器107 和111分别监测容器101和103中的高液位状态。加工流体从流体源113通过两通 阀115进入容器101，并通过两通阀117进入容器103。流体通过两通阀119流出 容器IOI，并且通过两通阀121流出容器103。当流出容器101或者容器103时， 流体流过容积加工流体供给管线123。
在充填循环中，真空发生装置125 (例如抽气器或者文氏管)在容器101中产 生真空以吸入流体。当在充填循环中流体流入容器101时，两通阀115和127打开， 并且三通阀129位于位置"A"。当在容器101中产生真空时，随着流体从流体源 113被吸入容器，容器101中的所有气体流向排气装置(未显示)。当流体到达液 位传感器107 (例如电容传感器)时，阀115、 127和129关闭，真空停止。
在分配循环中，惰性气体131，例如氮，流过"从"调节器133，并且流过三 通阀129的位置"B"进入容器101。容器101开始加压到设定值，之后阀119打 开允许流体在惰性气体的压力作用下流过阀119，流过过滤器(未显示)进入容积 流体供给管线123。容器101分配流体，直到它达到低液位传感器105，在该位置 阀119关闭，充填循环再次开始。
在工作过程中，容器101和103在充填和分配循环之间交替，如此以致于当 容器101充填时，容器103分配。在容器103的充填循环中，阀117和127打开，
阀137处于位置"A"。在容器103的分配循环中，惰性气体131流过从调节器135 和阀137的端口 "B"，以使容器103中的流体加压，并且驱动流体通过阀121进入 供给管线123。在容器103的分配循环结束时，容器转换，因此容器103开始充填 循环而容器101开始分配循环。特别是，真空发生装置125被配置成使容器的充填 比分配更快，以便向供给管线123提供连续的流体流。
在如图la所示的系统中，手动调节的主调节器141易于使用来自高压气源141 的气体，例如压缩的干空气。主调节器137向从调节器133和135发送恒定的气体 导引信号，因此从调节器133和135分别向阀129和137提供恒定的惰性气体压力。 供应给每个阀129和127的压力是相同的。因此，在容器101或者103的分配循环 过程中，供应给每个容器的惰性气体压力是恒定的并且是相同的。
图la所示系统的问题在于它不能保持供给管线123中流体的稳定压力。图lb 显示了简化的示例以说明供给管线123中的流体压力如何随着时间的推移而波动。 由于加工工具要求造成的损耗，存在于复杂流体分配系统中的配件、管道及其它部 件在此图示中没有考虑。在系统100工作过程中，随着容器从其高位传感器分配到 其低位传感器，供给管线123中的压力降低一个相当于位于高位和低位传感器之间 的流体的高差压力(head pressure)损失的量值。该高差压力定义为由于容器中 流体的重量而作用于供给管线中的流体上的压力。当容器转换时，开始其分配循环 的容器开始充填流体到其高位传感器，而施加到正好完成分配循环的那个容器的相 同压力被施加到该分配容器上。因此，当容器转换时，供给管线中的压力形成峰值 或者增加一个相当于刚刚分配完的容器的高差压力的量值。
已经通过积极地控制供给管线中的流体压力以试图改进图la所示的系统。图 2a显示了改变的真空一压力系统200。系统200基本上类似于系统100，除了使用 电气致动的主调节器241代替手动调节的调节器141。图2a的系统还包括传感器 245，监测位于供给管线223中点的压力。与图la的系统类似，容器201和203 在真空充填和压力分配循环之间交替，并且主调节器241向两个从调节器233和 235提供相同的气动信号。
在分配循环过程中，基于来自压力指示器245的信号调整施加到分配容器201 或者203的流体上的惰性气体的压力。考虑到简化的流体分配系统没有加工工具要 求或者其它的压力损失，在分配时被提供给分配容器201或203的惰性气体压力增 加，以补偿位于容器中的高位和低位传感器(分别为207、 211和205、 209)之间的高差压力的损失。
尽管系统200预防了由于分配容器中的落差损失导致的压力下降，但是它不
能对供给管线223中的流体提供稳定的压力控制。图2b图表说明了在一个没有加 工工具要求或者其它的压力损失的分配系统中，供给管线223中的压力如何随着时 间的推移而波动。在工作过程中，当容器转换时，主调节器241继续向开始分配循 环的容器发送相同的信号(或者压力要求)，就如发送给那些正好完成分配循环的 容器的信号一样。因此，当容器转换时，供给管线223中的压力产生峰值，该峰值 相当于正好完成其分配循环的容器的高位和低位传感器之间的高差压力的变化。因 此，系统200有效地试图降低供给管线223中的流体压力，并且继续调整该压力直 到它达到预定的给定值。因此，系统200的问题在于供给管线223中的流体压力发 生摆动直到它达到如图2b所示的稳定状态。
另外，系统200的另一个问题在于它频繁地调整传递给非分配或者备用容器 的从调节器的气动信号。因此，用于非分配容器的从调节器在备用容器的从调节器 上引起显著的磨损或者撕裂。
因此，在半导体工业中需要对流体分配系统进行改善，包括对加工流体的流 动状态提供稳定的控制而不会造成零部件的磨损或者撕裂。
发明内容
一种控制容积流体分配系统中的流体压力的方法，包括从第一容器和第二容 器交替地将流体分配到至少一个应用位置，在这样的状态下，其中在该至少一个应 用位置的流体压力基本上保持恒定。
一种控制容积流体分配系统中的流体压力的方法，该分配系统具有用于向供 给管线提供流体的第一容器和第二容器，用于向第一和第二容器提供惰性气体的惰 性气体源，设置在供给管线中的控制器和传感器，该方法包括以下步骤在控制器 接收来自传感器的控制信号；开始第一容器的分配循环包括以下步骤根据控制信 号和位于第二容器的第一液位和第二液位之间的流体的高差压力确定第一信号；基 于第一信号向第一容器中的流体施加第一压力；和将流体从第一容器的第一液位分 配到第二液位；和开始第二容器的分配循环包括以下步骤根据控制信号和位于第 一容器的第一液位和第二液位之间的高差压力确定第二信号；基于第二信号向第二 容器中的流体施加第二压力；并且将流体从第二容器的第一液位分配到第二液位。
一种用于在交替的容器容积流体分配系统中控制流体压力的设备，包括第 一容器，具有用于检测第一容器中的流体的第一液位和第二液位的第一对传感器； 第二容器，具有用于检测第二容器中的流体的第一液位和第二液位的第二对传感 器；用于向容器提供惰性气体的惰性气体供应管道；第一对调节器，包括第一主调 节器和第一从调节器，其中第一从调节器适合于调节第一容器的惰性气体的压力； 第二对调节器，包括第二主调节器和第二从调节器，其中第二从调节器适合于调节 第二容器的惰性气体的压力；流体供给管线，具有设置在该供给管线内部的控制传 感器，其中所述容器适合于交替地向供给管线分配流体；和控制器，适合于接收来
自控制传感器的控制信号，基于该控制信号和第二容器的第一和第二液位之间的流 体的高差压力的变化确定第一信号，基于该控制信号和第一容器的第一和第二液位 之间的流体的高差压力的变化确定第二信号，将第一信号发送到第一主调节器，将 第二信号发送到第二主调节器。
图la是现有技术的真空一压力流体分配系统的示意图。
图lb是在图la的现有技术的流体分配系统的供给管线中的流体压力波动的 图表。
图2a是现有技术的流体分配系统的示意图。
图2b是在图2a的现有技术的流体分配系统的供给管线中的流体压力波动的 图表。
图3是依照本发明的流体分配系统的示意图。
具体实施例方式
本发明的实施例如图3所示。本发明涉及一种真空一压力流体分配系统300， 其对容积流体供给管线323中的流体压力提供了稳定的控制。系统300基本上消除 了如图1和2所示的现有技术中的系统的所有压力波动。
系统300具有两个容器301和303，每个容器装备有至少一个液位感应设备(例 如305、 307、 309和311)。虽然真空一压力发动机通常使用电容传感器作为液位 感应设备，本发明还可以使用光学传感器、数字传感器、测力传感器(未显示)等。 如图3所示的系统包括两个传感器305和309，其分别用于监测容器301和303中 的低液位状态；以及传感器307和311，其分别用于监测容器301和303中的高液 位状态。流体从流体源313 (例如泵、另外的化学分配系统、加压圆筒等等)通过 两通阀315进入容器301，并且通过两通阀317进入容器303。流体通过两通阀319 流出容器301，并且通过两通阀321流出容器303。在流出容器301或者容器303 时，流体流过过滤器(未显示)，并且流向流体供给管线323。
在充填循环中，容器301和303可以在压力或者真空状态下充填。例如，泵 或者来自另外的流体分配系统的供给管线可以向容器301和303提供加压流体供 应。如果利用压力源，那么当容器充填时，该容器中的排气孔(未显示)将打开以 从容器中排出剩余气体。相反，当该容器是在真空状态下充填时，真空发生装置(未 在图3中显示)，例如抽气机，将会使流体吸入到该容器中，如上文所述，并且如 图la和2a所示。
在容器301的充填循环过程中，阀315在流体流入该容器时打开。当流体达 到预定的高液位时，正如通过液位传感器307 (例如电容式的、光学的、数字的等 等)或者通过测力传感器(未显示)指示的那样，阀315关闭。
在容器301的分配循环过程中，惰性气体331，例如氮，流过"从"调节器 333和阀329以向容器301加压，从而通过阀319将流体分配给供给管线323,直 到容器301中的液位达到预定的"低"液位，正如通过液位传感器305 (例如电容 式的、光学的、数字的等等)或者测力传感器(未显示)检测的那样，在该位置阀 319关闭，真空充填序列开始。
在工作过程中，容器301和303在充填和分配循环之间交替，以致于当容器 301装填时，容器303分配。在容器303的分配循环过程中，惰性气体331流过从 调节器335和阀337以向容器303加压，从而通过阀321将流体分配给供给管线 323，直到容器303中的液位达到预定的"低"液位，正如通过液位传感器309或 者测力传感器检测的那样，在该位置阀321关闭，真空充填序列开始。特别的是， 系统被配置成使容器的充填比分配更快，以便向供给管线323提供连续的流体流。
系统300使用传感器345 (例如压力变换器、流量计等等)以监测供给管线
323中流体的状态，系统调整供给到容器的惰性气体的压力，以补偿供给管线323
中流体状态的变化。传感器345可以设置在供给管线323中的任一点上，但是优选
的是设置在供给管线323的中点。此外，系统300基本上消除了容器的分配循环过
程中由于高差压力的变化而导致的供给管线323中流体压力的所有变化。
系统300包括控制器343，其从传感器345接收控制信号。该控制器连接到主 调节器341和342 (例如电动一气动调节器)，其分别控制从调节器333和335 (例 如圆顶形负荷压力调节器)。传感器345和主调节器341及342可以通过模拟电缆、 数字电缆(例如以太网电缆)或者无线连接与控制器连接。从调节器333和335 分别控制供给到每个容器301和303的惰性气体的压力。
为了消除由于在分配循环过程中容器的高差压力的变化而造成的供给管线 323中的流体压力波动，在分配循环开始的时候控制器使发送给每个容器的信号产 生偏差。下面的例子说明了本发明的工作过程，以消除由于高差压力的变化产生的 波动。
例子1
假定通过向容器中充注液体达到其高液位(如图3中所示的307)的容器301 已经完成了充填循环并且在通过分配流体达到了其低液位(如图3中所示的309) 的容器303完成了它的分配循环的同时处在备用状态。
在容器303的分配循环中，控制器343周期性地或者连续不断地接收来自传 感器345的信号，并且调整供给到容器303的惰性气体的压力以保持供给管线323 中的预定的流动状态(例如压力、流速等等)。当容器303从它的高液位(如图3 中所示的311)到它的低液位(如图3中所示的309)分配流体时，流体的高差压 力根据下列表示容器中的流体的高差压力变化的等式在液位h，和液位h,皿之间 减少
AP则二P,.加i一P2,3。P Pg (h,.鄉一h2,:")3)(其中P =流体的密度，g二9.8tn/s2)。 因此，为了防止供给管线323中的流体压力减少，控制器343发送信号(例 如4一20 mA的信号)给主调节器342来增加通过从调节器335控制的、传递给容 器303的惰性气体的压力。特别的是，传感器345可以检测由于工具要求或者通过 流体分配系统中的管道和零部件的压力损失造成的其它压力变化，但是对此例子来 说，这些损失没有考虑。当容器303中的流体达到低液位时，该容器转换，容器 301开始分配循环而容器303开始充填循环。
当容器303分配时，控制器独立地确定或者计算发送给调节器的第一信号， 当该容器开始它的分配循环时，该调节器控制供给到容器301的惰性气体的压力。 在这个例子中，控制器监测通过传感器345发送的控制信号，并且通过将控制信号 减小与容器303的高差压力变化相关的量值来确定第一信号。因此，当容器301
开始它的分配循环时，施加到容器301中的流体的惰性气体的压力减少了相当于流
体在容器303中的高差压力的变化的量值。没有这些减少，施加于容器的压力将会 过高，并且使供给管线323中的压力达到峰值。
在开始分配循环之后，控制器343用如上所述的有关容器303的同样方法来 调整供给到容器301的惰性气体的压力，以保持供给管线323中的预定的流体的流 动状态。
本发明的系统300提供一种改进的加工流体的压力控制，优于现有技术的系 统100和200。实际上，根据传感器的设置，(即它们之间的垂直距离)，本发明可 以提供一种供给管线中流体的压力控制，利用连续调整控制到预定的给定值的大约 土0.2 psi到大约±1.5 psi，以保持稳态状态，而系统200最多能提供预定的给 定值的从1.5到3 psi的控制。
本发明的另一个优点是那些成对的调节器333、 341和335、 342可以独立地 控制。这使得控制过程更加灵活，并且减少了从调节器的磨损和撕裂，因此用于非 分配容器的从调节器不需要频繁地调整。
另外，如上所述，系统300可以补偿其它的压力或者流动状态的变化(通过 传感器345监测)，该变化尤其是由于工具要求、通过过滤器的压力损失和来自管 道及其它系统部件的摩擦损失导致的。因此，本发明的系统300与其它的现有技术 的系统相比能对供给到应用位置的流体的流动状态提供更加稳定的控制。
可以预料的是，根据上述的描述和例子本发明其它的实施例和变化对本领域 的技术人员是显而易见的，而上述的实施例和变化同样包括在随后的权利要求所阐 述的本发明的范围之内。
权利要求
1.一种用于控制容积流体分配系统中的流体的压力的方法，该分配系统具有用于向供给管线供给流体的第一容器和第二容器，用于向第一和第二容器供给惰性气体的惰性气体源，设置在供给管线中的控制器和传感器，该方法包括以下步骤在控制器接收来自传感器的控制信号；开始第一容器的分配循环，包括以下步骤根据控制信号和位于第二容器的第一液位和第二液位之间的流体的高差压力确定第一信号；基于第一信号向第一容器中的流体施加第一压力；和将流体从第一容器的第一液位分配到第二液位；和开始第二容器的分配循环，包括以下步骤根据控制信号和位于第一容器的第一液位和第二液位之间的流体的高差压力确定第二信号；基于第二信号向第二容器中的流体施加第二压力；和将流体从第二容器的第一液位分配到第二液位。
2. 根据权利要求l所述的方法，其特征在于，控制器独立于第二容器的分配 循环地控制第一容器的分配循环。
3. 根据权利要求l所述的方法，其特征在于，从第一容器分配流体的步骤包 括响应控制信号来调整施加于第一容器的流体的惰性气体的压力，以保持供给管线 中的预定压力。
4. 根据权利要求l所述的方法，其特征在于，从第二容器分配流体的步骤包 括响应控制信号来调整施加于第二容器的流体的惰性气体的压力，以保持供给管线 中的预定压力。
5. 根据权利要求l所述的方法，其特征在于，进一步包括在将流体分配到第 一容器的第二液位的步骤之后和在从第二容器分配流体的步骤过程中，从流体源充 填第一容器的步骤。
6. 根据权利要求5所述的方法，其特征在于，流体源供给加压流体。
7. 根据权利要求5所述的方法，其特征在于，充填第一容器的步骤包括在第 一容器中产生真空以从流体源吸入流体。
8. 根据权利要求l所述的方法，其特征在于，进一步包括在将流体分配到第二容器的第二液位的步骤之后和在从第一容器分配流体的步骤过程中，从流体源充 填第二容器的步骤。
9. 根据权利要求8所述的方法，其特征在于，流体源供给加压流体。
10. 根据权利要求8所述的方法，其特征在于，充填第一容器的步骤包括在第一容器中产生真空以从流体源吸入流体。
11. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，控制信号对应于供给管线中 的流体的压力。
12. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，控制信号对应于供给管线中 的流体的流速。
13. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，流体从半导体加工流体组群 中挑选，该组群由酸、底基、溶剂和化学-机械抛光浆料组成。
14. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包括利用电容式的、 光学的或者数字的传感器检测第一容器中流体的第一液位和第二液位的步骤。
15. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包括利用测力传感器 检测第一容器中流体的第一液位和第二液位的步骤。
16. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包括利用电容式的、 光学的或者数字的传感器检测第二容器中流体的第一液位和第二液位的步骤。
17. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包括利用测力传感器 检测第二容器中流体的第一液位和第二液位的步骤。
18. —种用于控制容积流体分配系统中的流体压力的方法，该分配系统具有 用于向供给管线供给流体的第一容器和第二容器，用于向第一和第二容器供给惰性 气体的惰性气体源，设置在供给管线中的控制器和传感器，该方法包括以下步骤向位于第一容器中第一液位的流体施加惰性气体；从第一容器的第一液位到第二液位分配第一容器中的流体；响应于供给管线中来自传感器的信号调整传递给第一容器的惰性气体的压力，以保持供给管线中的预定的流体压力；向位于第二容器中第一液位的流体施加惰性气体；从第二容器的第一液位到第二液位分配第二容器中的流体；响应于供给管线中来自传感器的信号调整传递给第二容器的惰性气体的压力，以保持供给管线中的预定的流体压力； 其中，调整供给到位于第一容器的第一液位的流体的惰性气体的压力用于第 二容器的第一和第二液位之间的高差压力的变化，并且其中，调整供给到位于第二 容器的第一液位的惰性气体的压力用于第一容器的第一和第二液位之间的高差压 力。
19. 一种用于控制容积流体分配系统中的流体压力的方法，该分配系统具有 供给管线，用于向供给管线供给流体的第一容器和第二容器，用于向第一和第二容 器供给惰性气体的惰性气体源，设置在供给管线中的控制器和传感器，该方法包括 以下步骤将来自传感器的控制信号传送到控制器；根据控制信号和位于第二容器的第一液位和第二液位之间的流体的高差压力 的变化来确定第一信号；基于第一信号向第一容器施加第一惰性气体压力； 将流体从第一容器分配到供给管线，，和根据控制信号和位于第一容器的第一液位和第二液位之间的流体的高差压力 的变化来确定第二信号；基于第二信号向第二容器施加第二惰性气体压力；和 将流体从第二容器中分配到供给管线。
20. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，从第一容器分配流体的步骤 包括响应于控制信号来调整第一容器的惰性气体的压力，以保持供给管线中的预定 压力。
21. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，从第二容器分配流体的步骤 包括响应于控制信号来调整第二容器的惰性气体的压力，以保持供给管线中的预定 压力。
22. —种用于在容积流体分配系统中控制流体压力的方法，包括交替地从 第一容器和第二容器将流体分配到至少一个应用位置，在这样的情况下，在该至少一个应用位置的流体的压力基本上保持恒定。
23. —种用于在交替的容器容积流体分配系统中控制流体压力的设备，包括: 第一容器，具有用于检测第一容器中的流体的第一液位和第二液位的第一对传感器；第二容器，具有用于检测第二容器中的流体的第一液位和第二液位的第二对 传感器；用于向容器供给惰性气体的惰性气体供应管道；第一对调节器，包括第一主调节器和第一从调节器，其中第一从调节器适合 于调节第一容器的惰性气体的压力；第二对调节器，包括第二主调节器和第二从调节器，其中第二从调节器适合 于调节第二容器的惰性气体的压力；流体供给管线，具有设置在该供给管线中的控制传感器，其中所述容器适合 于交替地向供给管线分配流体；和控制器，适合于接收来自控制传感器的控制信号，基于该控制信号和第二容 器的第一和第二液位之间的流体的高差压力的变化确定第一信号，基于该控制信号 和第一容器的第一和第二液位之间的流体的高差压力的变化确定第二信号，并且将 第一信号发送到第一主调节器，将第二信号发送到第二主调节器。
24.根据权利要求23所述的设备，其特征在于，第一和第二对传感器是电容式的、光学的或者数字的传感器。
25. 根据权利要求23所述的设备，传感器。
26. 根据权利要求23所述的设备，器。
27. 根据权利要求23所述的设备， 调节器。
28. 根据权利要求23所述的设备，
29. 根据权利要求23所述的设备，
30. 根据权利要求23所述的设备， 该控制器适合于接收无线信号。其特征在于，第一和第二对传感器是测力其特征在于，主调节器是电动一气动调节其特征在于，从调节器是圆顶形负荷压力其特征在于， 其特征在于， 其特征在于，控制传感器是压力变换器。 控制传感器是流量计。 控制传感器是无线的，并且
全文摘要
一种改进的、用于向半导体加工工具提供加工流体的容积流体分配系统。该具有交变的压力容器式发动机的改进系统基本上消除了容积流体供给管线中由于来自分配容器中的流体的重量变化的落差损失而导致的压力波动。该系统还能够灵活控制流体供给管线中的流体的流动状态。
文档编号B67D7/72GK101193815SQ200680006460
公开日2008年6月4日 申请日期2006年3月6日 优先权日2005年3月4日
发明者D·杰肯 申请人:波克爱德华兹股份有限公司