本技术涉及陶瓷片表面清洗,具体为陶瓷片表面胶膜清洗机构。
背景技术:
1、现有技术中,来料陶瓷片的单面附有一层水溶胶,对陶瓷片进行清洗没有好的办法,往往需要对物料进行连续2-3天的浸泡处理,等到水完全渗透完胶层,然后用清洗布料将胶水清理干净。在实际进行操作的过程中,往往需要花大量的时间,大量的空间,大量的人力,去处理侵泡陶瓷片。
2、但现有技术还存在一些问题:
3、降低产品生产的良品率,并且对员工的劳动强度大大增强,从而降低生产效率与质量,也增大员工使用的操作空间。
技术实现思路
1、本实用新型的目的在于提供陶瓷片表面胶膜清洗机构,降低了操作人员的劳动强度,提高了生产的效率,且也提高了产品的良率和产能节省了生产空间;以解决上述背景技术中提出的问题。
2、为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:陶瓷片表面胶膜清洗机构,包括支撑架,所述支撑架的顶部设有用于输送陶瓷片的输送组件,且输送组件包括输送带支架、上料区域、分料机构、电机和皮带线,所述输送带支架固定安装于支撑架的顶部四周,且输送带支架的内侧通过转轴安装有用于陶瓷片输送的皮带线,皮带线的一端设有用于陶瓷片放置的上料区域,所述皮带线的下方一端设有用于皮带线转动工作的电机;
3、所述上料区域的一端设有用于陶瓷片分料的分料机构;所述皮带线的中心部位设有用于陶瓷片表面清洗的清洗组件。
4、优选的,所述皮带线的下方安装有用于废水存放的水壳,且水壳的内部两侧设有用于皮带线上废水排水的排水槽。
5、优选的,所述水壳的两侧固定连接于支撑架的内侧上,且水壳的底部一端固定安装有电机。
6、优选的,所述分料机构包括安装架、旋钮和固定块,所述安装架的顶部中心转动安装有旋钮,且旋钮的一端转动连接有用于陶瓷片分离阻挡的挡板,所述安装架的底部两端固定连接有固定块,且固定块固定安装于输送带支架上。
7、优选的,所述清洗组件包括清洗罩壳、喷淋头和导向板,所述清洗罩壳的固定安装于输送带支架上,且清洗罩壳的内部上安装有喷淋头,清洗罩壳内的底部两端固定安装有用于陶瓷片导向的导向板,导向板的内侧开设有漏孔。
8、优选的,所述皮带线的一端安装有用于陶瓷片清洗后叠加存放的收料盘,所述输送带支架靠近上料区域的一端表面开设有清洗孔。
9、与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
10、本实用降低了操作人员的劳动强度,提高了生产的效率,且也提高了产品的良率和产能节省了生产空间。
1.陶瓷片表面胶膜清洗机构,包括支撑架(1),其特征在于:所述支撑架(1)的顶部设有用于输送陶瓷片的输送组件,且输送组件包括输送带支架(5)、上料区域、分料机构、电机(4)和皮带线(9),所述输送带支架(5)固定安装于支撑架(1)的顶部四周,且输送带支架(5)的内侧通过转轴安装有用于陶瓷片输送的皮带线(9),皮带线(9)的一端设有用于陶瓷片放置的上料区域,所述皮带线(9)的下方一端设有用于皮带线(9)转动工作的电机(4);
2.根据权利要求1所述的陶瓷片表面胶膜清洗机构,其特征在于:所述皮带线(9)的下方安装有用于废水存放的水壳(2),且水壳(2)的内部两侧设有用于皮带线(9)上废水排水的排水槽(3)。
3.根据权利要求2所述的陶瓷片表面胶膜清洗机构,其特征在于:所述水壳(2)的两侧固定连接于支撑架(1)的内侧上,且水壳(2)的底部一端固定安装有电机(4)。
4.根据权利要求1所述的陶瓷片表面胶膜清洗机构,其特征在于:所述分料机构(7)包括安装架(71)、旋钮(72)和固定块(73),所述安装架(71)的顶部中心转动安装有旋钮(72),且旋钮(72)的一端转动连接有用于陶瓷片分离阻挡的挡板,所述安装架(71)的底部两端固定连接有固定块(73),且固定块(73)固定安装于输送带支架(5)上。
5.根据权利要求1所述的陶瓷片表面胶膜清洗机构,其特征在于:所述清洗组件(8)包括清洗罩壳(81)、喷淋头(82)和导向板(83),所述清洗罩壳(81)的固定安装于输送带支架(5)上,且清洗罩壳(81)的内部上安装有喷淋头(82),清洗罩壳(81)内的底部两端固定安装有用于陶瓷片导向的导向板(83),导向板(83)的内侧开设有漏孔。
6.根据权利要求1所述的陶瓷片表面胶膜清洗机构,其特征在于:所述皮带线(9)的一端安装有用于陶瓷片清洗后叠加存放的收料盘(10),所述输送带支架(5)靠近上料区域的一端表面开设有清洗孔(6)。