一种硅粉匀速连续下料系统的制作方法

文档序号:37918793发布日期:2024-05-10 23:58阅读:22来源:国知局
一种硅粉匀速连续下料系统的制作方法

本技术涉及下料设备,特别涉及一种硅粉匀速连续下料系统。


背景技术:

1、在硅化工合成工序和冷氢化工序,涉及到硅粉下料,传统的手工称量后直接加料,车间粉体飞扬,环境恶劣,效率较低。也有采用市场上流行的下料系统,但这种下料系统多为间隙性下料,将料仓灌满后,计量额定重量后,停止上料,开始下料,当料仓下料完毕后,停止下料再上料,这样大大降低了工作效率,粉体下料量不均匀,且无法调速,造成流化床内转换效率低,阀门高频开关易造成磨损、泄漏,生产成本居高不下。目前亟需一种能够实现匀速、定量连续下料系统,来满足现场的生产需求。


技术实现思路

1、针对背景技术中提到的技术问题,本实用新型提供一种硅粉匀速连续下料系统。

2、为解决上述技术问题,本实用新型了一种硅粉匀速连续下料系统,采用自上而下串罐连接结构,包括dcs控制器、粉料罐、锁气罐、喷吹罐、流化气源装置、以及与流化气源装置连通的送风单元和吹扫单元;

3、粉料罐的进料口与送料单元连通;

4、粉料罐的出料口与锁气罐的进料口之间通过第一管路连接,第一管路上设置第一进料控制阀;

5、锁气罐的出料口与喷吹罐的进料口之间通过第二管路连接,第二管路上设置第二进料控制阀;

6、喷吹罐的出料口连接旋转给料机;

7、旋转给料机的出料口能匀速下料;

8、粉料罐与锁气罐之间通过第一平衡排气管连通;

9、锁气罐与喷吹罐之间通过第二平衡排气管连通;

10、第一平衡排气管上设置排气阀;

11、第二平衡排气管上设置平衡阀;

12、其中,

13、锁气罐内设置第一料位计,第一料位计与dcs控制器连接;

14、喷吹罐内设置第二料位计,第二料位计与dcs控制器连接;

15、送风单元的输出端分别与锁气罐、喷吹罐连通,用于向罐内物料提供向下流动的气压;

16、吹扫单元的输出端分别与第一管路、第二管路连通,用于进行物料吹扫作业。

17、进一步地,所述送风单元包括与流化气源装置依次连接的第一送风管和第二送风管;第一送风管连通至锁气罐内,用于向罐内物料提供向喷吹罐内流动的气压;第二送风管连通至喷吹罐内,用于向罐内物料提供向旋转给料机内流动的气压。

18、进一步地,所述吹扫单元包括与流化气源装置依次连接第一吹扫管、第二吹扫管和第三吹扫管;第一吹扫管连通至第一管路内;第二吹扫管连通至第二管路内;第三吹扫管连通至旋转给料机内。

19、本实用新型实施例的上述技术方案具有如下有益的技术效果:

20、本实用新型提供的一种硅粉匀速连续下料系统,整体采用自上而下串罐连接结构,硅粉从粉料罐定量投入至锁气罐内储存后,再倒灌至喷吹罐中,经旋转给料机定量、连续、稳定地加入到反应器中。整个过程中,通过送风单元配合硅粉自重,控制硅粉流动速度。通过料位计监控罐内硅粉计量,确保及时定量补料。通过吹扫单元将物料气固混合并在罐体内进行充分流化循环、防止在罐体出料口处搭桥,便于落料。全过程通过dcs控制器自动控制,实现了连续化作业,提高了流化床内转换效率。



技术特征:

1.一种硅粉匀速连续下料系统,其特征在于,采用自上而下串罐连接结构,包括dcs控制器、粉料罐(1)、锁气罐(2)、喷吹罐(3)、流化气源装置(4)、以及与流化气源装置(4)连通的送风单元和吹扫单元;

2.根据权利要求1所述的硅粉匀速连续下料系统,其特征在于,所述送风单元包括与流化气源装置(4)依次连接的第一送风管(14)和第二送风管(15);第一送风管(14)连通至锁气罐(2)内,用于向罐内物料提供向喷吹罐(3)内流动的气压;第二送风管(15)连通至喷吹罐(3)内,用于向罐内物料提供向旋转给料机(7)内流动的气压。

3.根据权利要求2所述的硅粉匀速连续下料系统,其特征在于,所述吹扫单元包括与流化气源装置(4)依次连接第一吹扫管(16)、第二吹扫管(17)和第三吹扫管(18);第一吹扫管(16)连通至第一管路内;第二吹扫管(17)连通至第二管路内;第三吹扫管(18)连通至旋转给料机(7)内。


技术总结
本技术公开了一种硅粉匀速连续下料系统,包括DCS控制器、粉料罐、锁气罐、喷吹罐、流化气源装置、以及与流化气源装置连通的送风单元和吹扫单元,粉料罐的出料口与锁气罐的进料口之间通过第一管路连接,第一管路上设置第一进料控制阀,锁气罐的出料口与喷吹罐的进料口之间通过第二管路连接,第二管路上设置第二进料控制阀,喷吹罐的出料口连接旋转给料机,粉料罐与锁气罐之间通过第一平衡排气管连通,锁气罐与喷吹罐之间通过第二平衡排气管连通,第一平衡排气管上设置排气阀,第二平衡排气管上设置平衡阀,本技术整体采用自上而下串罐连接结构,全过程通过DCS控制器自动控制,实现了连续化作业,提高了流化床内转换效率。

技术研发人员:王新军,刘世浩,金浩军,李春丽
受保护的技术使用者:烟台金泰美林科技股份有限公司
技术研发日:20230928
技术公布日:2024/5/9
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