一种连续式等离子体处理设备的制作方法

本技术涉及等离子体处理，尤其涉及一种连续式等离子体处理设备。

背景技术：

1、等离子体处理设备是一种用于金属、聚合物和非金属等表面处理的设备。它主要通过等离子体放电来实现对金属、聚合物和非金属等表面的改性和清洁处理，在半导体领域有着广泛的应用。

2、现有连续式等离子体处理设备采用传送带携带待处理材料进入反应腔，存在以下不足：

3、1、现有技术需要通过人工拆卸皮带、通过人工调整与皮带存在传送关联的主动辊和传动辊的位置来实现传送带的松紧度，此过程操作繁琐，不便捷。若是传送带松紧度调节不及时，会导致传送带脱轨，无法传送待处理材料，影响生产效率。

4、2、在待处理材料进入反应腔前，现有技术采用吹气管直接对待处理材料进行除尘，此种处理方式，导致灰尘颗粒四处飘散，部分灰尘颗粒继续沉积或吸附于待处理材料的可能性极高，除尘效果差。

技术实现思路

1、鉴于上述的分析，本实用新型旨在提供一种连续式等离子体处理设备，用以解决现有连续式等离子体处理设备的除尘效果差和传送皮带的松紧度需人工调节操作繁琐和不及时的问题。

2、本实用新型的目的主要是通过以下技术方案实现的：

3、本实用新型提供了一种连续式等离子体处理设备，包括反应腔、传送架、传送带、皮带调节机构和除尘机构；

4、皮带调节机构包括弹簧、限制槽、限制轮和支撑架；限制槽设置在传送架上，通过弹簧，支撑架与限制槽连接；支撑架上连接限制轮且限制轮绕自身转轴旋转；传送架上的传送带紧贴限制轮的外壁，且传送带设置在限制槽和限制轮之间；

5、除尘机构包括毛刷和吸尘风机；毛刷设置在反应腔外，吸尘风机设置在反应腔内。

6、进一步地，皮带调节机构设置多组。

7、进一步地，除尘机构还包括电动推杆和与电动推杆连接的连接架；电动推杆固定在反应腔的外壁，毛刷连接在连接架上。

8、进一步地，除尘机构还包括第二电机，第二电机与毛刷连接。

9、进一步地，吸尘风机包括吸尘口；吸尘口朝向传送带设置。

10、进一步地，还包括导向架，导向架随传送带移动。

11、进一步地，导向架包括竖向调节件和横向调节件，竖向调节件与横向调节件可拆卸连接。

12、进一步地，导向架还包括挡板；沿传送带的运动方向，挡板设置在传送带的两侧。

13、进一步地，挡板的顶端与竖向调节件可拆卸连接。

14、进一步地，还包括设置在反应腔内部且依次连接的等离子发射器、喷射管和喷射头，喷射头的出口朝向传送带。

15、与现有技术相比，本实用新型至少可实现如下有益效果之一：

16、1、本实用新型中的皮带调节机构包括弹簧、限制槽、限制轮和支撑架；限制槽设置于连续式等离子体处理设备的传送架上，通过弹簧，支撑架与限制槽连接，支撑架上连接限制轮且限制轮绕自身转轴旋转；传送带紧贴限制轮的外壁。本实用新型通过弹簧的拉伸，带动支撑架向传送带方向移动，支撑架进一步带动限制轮对传送带施加压力，以此实现传送带的松紧度调节，避免传送带过于松弛，导致脱轨。本实用新型不需要调整主动辊和传动辊的位置，也不需要拆卸传送带即可实现传送带的松紧度，操作过程简单，便捷，且不影响生产效率。

17、2、本实用新型中的除尘机构包括毛刷和吸尘风机，毛刷设置于反应腔外壁，吸尘风机设置于反应腔的内部。毛刷接触待处理材料，清理表面杂质颗粒。待处理材料随着传送带进入反应腔内，在进行等离子体处理前，利用吸尘风机将附着于待处理材料表面上或待处理材料附近漂浮的灰尘颗粒吸走，并排出反应腔外。因为进行等离子体处理前，清除了飘散于待处理材料附近或附着于待处理材料上的颗粒，提高对待处理材料的除尘效果，减少在等离子体处理过程中，灰尘颗粒对待处理材料处理影响。

18、3、本实用新型中的导向架用于限定待处理材料在传送带上的位置，保证待处理材料由传送带带至等离子体处理区进行等离子体处理。

19、本实用新型中，上述各技术方案之间还可以相互组合，以实现更多的优选组合方案。本实用新型的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分优点可从说明书中变得显而易见，或者通过实施本实用新型而了解。本实用新型的目的和其他优点可通过说明书实施例以及附图中所特别指出的内容中来实现和获得。

技术特征：

1.一种连续式等离子体处理设备，其特征在于，包括反应腔(1)、传送架(2)、传送带(4)、皮带调节机构和除尘机构；

2.根据权利要求1所述连续式等离子体处理设备，其特征在于，所述皮带调节机构设置多组。

3.根据权利要求1所述连续式等离子体处理设备，其特征在于，所述除尘机构还包括电动推杆(8)和与所述电动推杆(8)连接的连接架(9)；

4.根据权利要求1-3任意一项所述连续式等离子体处理设备，其特征在于，所述除尘机构还包括第二电机(11)，所述第二电机(11)与所述毛刷(10)连接。

5.根据权利要求4所述连续式等离子体处理设备，其特征在于，所述吸尘风机(12)包括吸尘口(13)；所述吸尘口(13)朝向所述传送带(4)设置。

6.根据权利要求5所述连续式等离子体处理设备，其特征在于，还包括导向架(6)，所述导向架(6)随所述传送带(4)移动。

7.根据权利要求6所述连续式等离子体处理设备，其特征在于，所述导向架(6)包括竖向调节件(61)和横向调节件(62)，所述竖向调节件(61)与所述横向调节件(62)可拆卸连接。

8.根据权利要求7所述连续式等离子体处理设备，其特征在于，所述导向架(6)还包括挡板(63)；

9.根据权利要求8所述连续式等离子体处理设备，其特征在于，所述挡板(63)的顶端与所述竖向调节件(61)可拆卸连接。

10.根据权利要求1-3、5-9任意一项所述连续式等离子体处理设备，其特征在于，还包括设置在所述反应腔(1)内部且依次连接的等离子发射器(14)、喷射管(15)和喷射头(16)，所述喷射头(16)的出口朝向所述传送带(4)。

技术总结
本技术公开了一种连续式等离子体处理设备，涉及等离子体处理技术领域。本技术解决了现有连续式等离子体处理设备的除尘效果差和传送皮带的松紧度需人工调节操作繁琐和调节不及时的问题。本技术包括反应腔、传送架、传送带、皮带调节机构和除尘机构；皮带调节机构包括弹簧、限制槽、限制轮和支撑架；除尘机构包括毛刷和吸尘风机，毛刷设置在反应腔外，吸尘风机设置在反应腔内。本技术通过弹簧的拉伸实现传送带的松紧度调节，避免传送带过于松弛，导致脱轨。本技术实现了在等离子体处理前，对飘散于待处理材料附近或附着于待处理材料上颗粒的清除。

技术研发人员：乐卫平,林桂浩,吴基锴,刘涛
受保护的技术使用者：深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
技术研发日：20231018
技术公布日：2024/6/20