一种柔性显示用高阻隔膜制备方法与流程

本发明属于柔性薄膜新材料，具体地，涉及一种柔性显示用高阻隔膜制备方法。

背景技术：

1、水氧阻隔膜是oled(有机发光半导体)、qled（量子点发光半导体）、epd（电子纸）和opv（有机薄膜太阳能电池）柔性封装的核心材料，主要隔绝水汽和氧对有机发光材料、量子点、有机发光元件的破坏作用，是制约器件使用寿命的关键因素。可以起到非柔性器件玻璃封装同样的水氧隔绝效果。

2、目前，市场上绝大部分高效水氧阻隔膜采用的制备技术有蒸镀、溅射、化学沉积方式，其中蒸镀方式制备阻隔层的膜层致密度较差，阻隔性能较低，难以达到高效阻水要求；溅射方式的致密度略微低于化学气相沉积，镀膜前需要在基材上做一下平坦层，阻隔性能可以达到-10-2g/m2·24h级别；化学气相沉积方式的具备较高的致密度，沉积镀膜时也需要在基材上做一下平坦层，阻隔性能可以达到-10-3g/m2·24h级别，耐弯折性差，成本稍高。

3、目前，关于柔性显示用高阻隔膜，报道出来多采用溅射和化学气相沉积，这两种方式存在基材需要做平坦层等预涂方式，无疑增加了生产成本，兼具镀膜厚度大，柔韧性差缺点，另一方面，无论溅射和化学气相沉积，膜层致密度不是最好的，在阻隔性能方面，达不到极致阻隔性能。为提升有机发光显示产品更长的使用寿命，更高终端产品的柔性化，以及对保护材料更低的成本需求，需要开发一种阻隔性能更高，柔韧性更好，成本更低，生产更便捷工业化生产方法。

技术实现思路

1、为了解决背景技术中提到的技术问题，本发明的目的在于提供种柔性显示用高效阻隔膜制备方法，在pet基材上，直接采用原子层沉积方式，镀出交替结合的氧化铝和氧化锌薄膜，具备镀膜致密性高，膜层覆盖性强，无需平坦层，膜层柔韧性好，并且阻隔性能高的特点，在镀膜工艺的基础上，复合agpet，最终产品，具备抗眩光，耐摩擦，抗紫外，高阻隔高透明的柔性阻隔保护材料。

2、本发明的目的可以通过以下技术方案实现：

3、一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，包括如下步骤：

4、步骤s1、对阻隔膜基材进行热处理，直至td、md方向的收缩率均小于0.5%；

5、步骤s2、在阻隔膜基材一侧表面羟基化处理，之后送入ald沉积设备，真空环境下，惰性气体携带金属氧化物前驱体，与惰性气体携带的纯水反应交替生长金属氧化物薄膜，形成阻隔层；

6、步骤s3、将oca光学胶涂覆在阻隔膜基材另一侧表面，粘结带ag涂层的pet基材。

7、进一步地，所述阻隔膜基材为pet聚酯薄膜、pp聚丙烯薄膜或pi聚酰亚胺薄膜。

8、进一步地，步骤s2中电晕处理为电晕、预涂或等离子体处理。

9、进一步地，步骤s2中所述惰性气体为氮气、氩气或氦气。

10、进一步地，所述金属氧化物薄膜氧化镁，氧化锌，氧化锆，氧化钛，氧化锰，氧化铝，氧化铪，氧化铁和氧化钙中的一种或多种按任意比例堆叠而成。

11、进一步地，步骤s2中阻隔层折射率在1.60到1.8之间，控制阻隔层膜层整体厚度在10nm-100nm，镀膜成品的阻隔性能≤8e-3g/m2·24h，可见光透过率大于88%。

12、进一步地，步骤s3中所述oca光学胶的uv截止要求在280-380nm波长，平均透过截止率小于1%，对阻隔膜基材的粘结强度≥1.2kg/2.5cm。

13、进一步地，步骤s3中所述带ag涂层的pet基材一侧表面粘结有ag涂层，另一侧表面通过oca光学胶与阻隔膜基材粘结。

14、进一步地，所述带ag涂层的pet基材厚度为50-180μm，ag涂层厚度为2-20μm，表面硬度＞3h，雾度要求在2-20。

15、本发明的有益效果：

16、鉴于ald技术的镀膜全覆盖特点，在基材无需平坦化层，工艺上制程简洁，成本相对其他方法更低。以及膜层全覆盖和致密性更强特点，阻隔性能更为优异。膜层厚度可以较薄，其耐弯折性能更好。在阻隔膜基材上复合uv截止的oca胶，以及复合抗眩光和耐摩擦的ag pet。综合这些特点，产品足以满足oled(有机发光半导体)、qled（量子点发光半导体）和epd（电子纸）等柔性封装要求。

技术特征：

1.一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，所述阻隔膜基材为pet聚酯薄膜、pp聚丙烯薄膜或pi聚酰亚胺薄膜。

3.根据权利要求1所述的一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，步骤s2中电晕处理为电晕、预涂或等离子体处理。

4.根据权利要求1所述的一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，步骤s2中所述惰性气体为氮气、氩气或氦气。

5.根据权利要求1所述的一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，所述金属氧化物薄膜氧化镁，氧化锌，氧化锆，氧化钛，氧化锰，氧化铝，氧化铪，氧化铁和氧化钙中的一种或多种按任意比例堆叠而成。

6.根据权利要求1所述的一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，步骤s2中阻隔层折射率在1.60到1.8之间，控制阻隔层膜层整体厚度在10nm-100nm，镀膜成品的阻隔性能≤8e-3g/m2·24h，可见光透过率大于88%。

7.根据权利要求1所述的一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，步骤s3中所述oca光学胶的uv截止要求在280-380nm波长，平均透过截止率小于1%，对阻隔膜基材的粘结强度≥1.2kg/2.5cm。

8.根据权利要求1所述的一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，步骤s3中所述带ag涂层的pet基材一侧表面粘结有ag涂层，另一侧表面通过oca光学胶与阻隔膜基材粘结。

9.根据权利要求8所述的一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，所述带ag涂层的pet基材厚度为50-180μm，ag涂层厚度为2-20μm，表面硬度＞3h，雾度要求在2-20。

技术总结
本发明涉及一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，包括如下步骤：步骤S1、对阻隔膜基材进行热处理，直至TD、MD方向的收缩率均小于0.5%；步骤S2、在阻隔膜基材一侧表面羟基化处理，之后送入ALD沉积设备，真空环境下，惰性气体携带金属氧化物前驱体，与惰性气体携带的纯水反应交替生长金属氧化物薄膜，形成阻隔层；步骤S3、将OCA光学胶涂覆在阻隔膜基材另一侧表面，粘结带AG涂层的PET基材。在阻隔膜基材上复合UV截止的OCA胶，以及复合抗眩光和耐摩擦的AG PET。综合这些特点，产品足以满足OLED(有机发光半导体)、QLED（量子点发光半导体）和EPD（电子纸）等柔性封装要求。

技术研发人员：辜勇,方元,邹云
受保护的技术使用者：江苏思尔德科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15