本技术涉及硅块烘房用蒸汽发生器,具体为硅块烘房用蒸汽发生器。
背景技术:
1、硅块烘房是一种用于加热和干燥硅块或硅晶圆的设备。硅块烘房通常用于半导体制造和其他工业应用中,以去除硅块表面或内部的水分或其他溶剂,从而确保硅块的质量和可靠性。
2、硅块烘房通常包括一个加热室,硅块或硅晶圆会在其中放置,以进行加热和干燥,硅块放置在适当的支撑结构上,通常在加热室内均匀分布,以确保均匀的干燥,目前的大多硅块烘房都是采用电加热直接对其进行烘干处理,如果需要对多个硅块进行烘干处理时,较为靠近电加热机构的硅块会烘干的比较快,而距离电加热机构硅块急救烘干的较为的慢一点,从而可能会造成烘干不均匀的现象发生,实用性不佳;因此,为了解决上述问题,特此提出硅块烘房用蒸汽发生器。
技术实现思路
1、本实用新型主要是解决上述现有技术所存在的技术问题,提供硅块烘房用蒸汽发生器。
2、为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:硅块烘房用蒸汽发生器,包括蒸汽烘干机构和蒸汽输送机构,所述蒸汽烘干机构包括蓄水箱,所述蓄水箱内部安装有通电插口,所述通电插口的一侧电性连接有安装架,所述安装架的一侧固定安装有加热棒,所述蓄水箱的内侧固定安装有第一水位传感器,所述蓄水箱的内侧固定安装有第二水位传感器,蓄水箱的内部开设有蓄水槽,在该装置的内会设置有通水管,并在通水管内会设置有电磁阀,用于往蓄水槽内输送水源。
3、优选的,所述第二水位传感器设置在第一水位传感器的上侧,所述安装架、加热棒、第一水位传感器及第二水位传感器均设置在蓄水槽的内部,第一水位传感器及第二水位传感器均设置有三个,蒸汽输送机构也设置在蓄水箱内,位置在蓄水箱内部的上侧位置。
4、优选的,所述蒸汽输送机构包括封闭罩,所述封闭罩的上侧固定连接有疏通管,所述疏通管的上侧固定连接有软管,所述软管的一端固定连接有分散喷管,所述分散喷管与蓄水箱固定连接,软管与分散喷管均设置有四个,分散喷管设置在蓄水箱内部的四角位置。
5、优选的,所述蓄水箱的内部固定连接有防护板,所述防护板的表面贯穿开设有通气槽,通气槽设置若干个,使得蒸汽可以通过防护板散出,防护板设置在蓄水箱内部的上端位置。
6、优选的,所述蓄水箱的内部螺纹连接有螺栓,所述螺栓的外部螺纹连接有侧盖,所述侧盖设置在蓄水箱的一侧,螺栓设置有四个,分别设置在蓄水箱积极侧盖的内部四角位置,通过螺栓将侧盖与蓄水箱连接在一起。
7、优选的,所述蓄水箱的内部开设有安置槽,所述安置槽的内部固定连接有把手,安置槽开设在蓄水箱内部的两侧位置,把手完全隐藏在安置槽内不占用多余的空间。
8、与现有技术相比,本实用新型的有益效果如下:
9、1、本实用新型通过蒸汽烘干机构的设置,在蓄水槽的内部蓄上水源,使得水源完全没过加热棒、同时启动加热棒对水进行加热,在水加热的过程中会产生蒸汽,通过蒸汽对硅块进行烘干处理,通过蒸汽的蔓延,使得通过蒸汽对硅块进行均匀的烘干处理,蒸汽在硅块表面均匀分布热量,确保整个硅块或硅晶圆受到均匀的加热,这有助于避免温度梯度引起的变形或应力。
1.硅块烘房用蒸汽发生器,包括蒸汽烘干机构和蒸汽输送机构,其特征在于:所述蒸汽烘干机构包括蓄水箱(1),所述蓄水箱(1)内部安装有通电插口(2),所述通电插口(2)的一侧电性连接有安装架(3),所述安装架(3)的一侧固定安装有加热棒(4),所述蓄水箱(1)的内侧固定安装有第一水位传感器(5),所述蓄水箱(1)的内侧固定安装有第二水位传感器(6),蓄水箱(1)的内部开设有蓄水槽(7)。
2.根据权利要求1所述的硅块烘房用蒸汽发生器,其特征在于:所述第二水位传感器(6)设置在第一水位传感器(5)的上侧,所述安装架(3)、加热棒(4)、第一水位传感器(5)及第二水位传感器(6)均设置在蓄水槽(7)的内部。
3.根据权利要求1所述的硅块烘房用蒸汽发生器,其特征在于:所述蒸汽输送机构包括封闭罩(8),所述封闭罩(8)的上侧固定连接有疏通管(9),所述疏通管(9)的上侧固定连接有软管(10),所述软管(10)的一端固定连接有分散喷管(11),所述分散喷管(11)与蓄水箱(1)固定连接。
4.根据权利要求1所述的硅块烘房用蒸汽发生器,其特征在于:所述蓄水箱(1)的内部固定连接有防护板(12),所述防护板(12)的表面贯穿开设有通气槽(13)。
5.根据权利要求1所述的硅块烘房用蒸汽发生器,其特征在于:所述蓄水箱(1)的内部螺纹连接有螺栓(14),所述螺栓(14)的外部螺纹连接有侧盖(15),所述侧盖(15)设置在蓄水箱(1)的一侧。
6.根据权利要求1所述的硅块烘房用蒸汽发生器,其特征在于:所述蓄水箱(1)的内部开设有安置槽(16),所述安置槽(16)的内部固定连接有把手(17)。