专利名称：防静电离心干燥保护装置及含有这种保护装置的甩干设备的制作方法
技术领域：
防静电离心干燥保护装置及含有这种保护装置的甩干设备技术领域：
本实用新型涉及一种基片生产工艺中使用的部件和含有这种部件的设备， 尤其是一种在基片甩干过程中使用的保护装置和含有这种保护装置的设备。
背景4支术
镜片生产工艺中，在镜片镀膜切割成中片之后，需要对中片进行漂洗和甩 干，以清除镜片上的污物。在现有的甩干设备中，均是采用高速旋转脱水的方
法进行甩干。如图1所示，甩干机上设有中心轴1和底座2，以及可跟随中心轴 l旋转的悬挂架3，基片托盘4两端固定在悬挂架上3并可绕两固定端翻转。基 片托盘4上放置清洗架，镜片中片垂直放置在清洗架中。甩干机工作时，中心 轴1带动悬挂架3、基片托盘4和其上的清洗架高速旋转，在离心力的作用下中 片上的水滴被甩干。
现有设备的缺陷是，基片托盘4的高度低于清洗架6的高度，在高速旋转 时，靠近清洗架6外部边缘的镜片，与周边的空气发生高速摩擦，极易产生静 电。在静电的作用下，边缘部位的镜片吸附了空气中的很多灰尘，影响镜片质 量，降低了成品率。
对其他需要清洗甩干的基片或电子元器件而言，如果对于防静电要求比较 高，那么在甩干的过程中也同样存在类似的问题。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提供一种可防止基 片在甩干过程中与空气摩擦产生静电而吸附灰尘的保护装置。本实用新型还可 以提供含有这种保护装置的甩干设备。
为了解决上述技术问题，本实用新型采用以下技术方案
一种防静电离心干燥保护装置，其所述防静电保护装置为设有闭合侧壁的
保护罩，所述保护罩侧壁的高度与放置待甩干基片的清洗架高度适配。
其中所述保护罩为金属保护罩，该金属保护罩采用不锈钢材料制成。 其中所述^f呆护罩为上下贯通的环形。 其中所述保护罩为上下贯通的方形。
一种含有防静电离心干燥保护装置的甩干设备，包含马达、由马达驱动的 中心轴、随同中心轴旋转的基片托盘，放置待甩干基片的清洗架置于所述基片 托盘上，其特征在于还包含一置于基片托盘上的防静电离心干燥保护罩，所 述清洗架位于所述防静电离心干燥保护罩内部空间中，且两者的高度相适配。
其中所述防静电离心干燥保护罩为金属保护罩。
其中所述防静电离心干燥4呆护罩为上下贯通的环形。
其中所述防静电离心干燥保护罩为上下贯通的方形。
其中所述防静电离心干燥保护罩上端封闭。
其中防静电离心干燥保护装置为侧壁高度与所述清洗架高度相适配的基 片托盘。
本实用新型具有以下有益效果
1. 本实用新型采用金属制成的保护罩，高度与放置基片的清洗架高度相当， 并且环绕清洗架设置，能够有效阻隔基片与周边空气摩擦而产生静电，进而防 止基片沾附污物。不锈钢相对于铁等金属，不会因沾附清洗液、水等物质而产 生锈蚀，不会因此影响基片质量。
2. 本实用新型的保护罩采用有盖或无盖上下贯通的形式，可保证基片上的 清洗液及杂质全部脱离不残留，尤其是上下贯通的形式，甩干的效果更为彻底。
3. 本实用新型的保护罩制作简单、成本低廉，效果好。
4. 本实用新型的甩千i殳备既可以配备分离的保护罩，也可以将基片托盘的 边缘高度增加到与放置基片的清洗架的高度一致，达到阻隔基片与周边空气摩 擦而产生静电的效果。甩干设备生产厂家或使用者可以根据需要选择使用上述 方案。
图1为现有甩干i殳备的示意图 图2为本实用新型基片离心干燥保护罩结构示意图 图3为本实用新型基片离心干燥保护罩设置于甩干设备的示意图 图4为本实用新型基片离心干燥保护罩与基片托盘、清洗架之间的位置关 系示意图 其中
1- 中心轴 4-基片托盘 51-侧壁
2- 底座 5-基片离心干燥保护罩 6-清洗架
3- 悬挂架
具体实施方式
本实用新型提供一种基片离心干燥保护装置，该基片保护装置为设有闭合 侧壁的金属保护罩，侧壁的高度与放置待甩干基片的清洗架高度适配。同时还 提供一种含有基片离心干燥保护装置的甩干设备。
以下结合附图进行具体说明。 实施例一
如图2所示，本实用新型提供一下端敞开，周边有金属侧壁51的基片离心 干燥保护罩5。金属側壁51的高度与清洗架6的高度相当。
如图3所示，甩干机上设有中心轴1和底座2,以及可跟随中心轴1旋转的 悬挂架3,底部为网状的基片托盘4两端固定在悬挂架上3并可绕两固定端翻转。 基片托盘4上放置清洗架6,基片中片垂直放置在清洗架6中。防静电离心干燥 保护罩5放置在基片托盘4上，并环绕在清洗架6的四周(如图4所示)。当甩 干机工作时，基片托盘4、清洗架6和防静电离心干燥保护罩5随同中心轴1高 速旋转，基片托盘4、清洗架6和防静电离心干燥保护罩5在离心力的作用下会 被甩高，绕固顶端翻转成一定的角度倾斜，残留清洗液在离心力的作用下被甩
出，同时基片托盘4的底部为网格状可以方便甩出残留液体。
基片托盘4的底部也可以不为网格状，如底部是中空的，只要在底部增设 几个卡紧装置，保^〖正清洗架6能够在其上》文稳，甩干时不滑落即可。
由于防静电离心干燥保护罩5的侧壁51环绕在清洗架6的四周，清洗架6 边缘的基片与周边空气的摩4察被防静电离心干燥保护罩5阻隔，变成了周边空 气与防静电离心干燥保护罩5的高速摩擦。因此，保护罩5应为金属制作，这 样既可以阻挡高速旋转产生的风，避免直接吹到基片上，基片上就不会因产生 静电而吸附灰尘，减少基片污染，提高合格率。采用金属还有一个好处是，金 属质地较重，高速旋转时不容易被甩掉，结实耐用；若用塑料制成，虽然可以 挡住风，但是质量太轻较容易甩掉，并且容易损坏。最好为不锈钢，可以防止 在残留清洗液的作用下生锈而污染基片。
防静电离心干燥保护罩5的形状根据基片托盘4或清洗架6的形状而定， 可为图示方形，或为圆环形状，与基片托盘4或清洗架6的形状相适配，达到 上述目的即可。
防静电离心干燥保护罩5上方可以封闭，也可以上下贯通。相对于顶端封 闭，上下贯通的方式可更加保证基片上清洗液及杂质全部脱离不残留。
采用此种方法，可以很方便地对采购来的甩干设备进行改进，因此非常适 合基片生产商使用。而设备生产商也可以为甩干设备配置相应的防静电离心千 燥保护罩5，供基片生产商选择。
实施例二
本实用新型也可以将防静电离心干燥保护罩5与基片托盘4合为一体。由 于防静电离心干燥保护罩5的主要目的是阻隔清洗架6边缘基片与周边空气的 摩擦，因此将基片托盘4四周边缘的高度调整为与清洗架6的高度相当即可， 此时基片托盘4即有托盘的作用又有保护罩的作用。
采用此种方法，需要对甩干设备本身配备的部件-基片托盘4进行改进，因 此比较适合设备生产厂家使用。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和 详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是， 对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以 做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型 专利的保护范围应以所附权利要求为准。
权利要求1.一种防静电离心干燥保护装置，其特征在于所述防静电保护装置为设有闭合侧壁的保护罩，所述保护罩侧壁的高度与放置待甩干基片的清洗架高度适配。
2. 如权利要求1所述的防静电离心干燥保护装置，其特征在于所述保护 罩为金属保护罩，该金属保护罩采用不锈钢材料制成。
3. 如权利要求1或2所述的防静电离心干燥保护装置，其特征在于所述 保护罩为上下贯通的环形。
4. 如权利要求1或2所述的防静电离心干燥保护装置，其特征在于所述 保护罩为上下贯通的方形。
5. —种含有防静电离心干燥保护装置的甩干设备，包含马达、由马达驱动 的中心轴、随同中心轴旋转的基片托盘，放置待甩干基片的清洗架置于所述基片 托盘上，其特征在于还包含一置于基片托盘上的防静电离心干燥保护罩，所述 清洗架位于所述防静电离心干燥保护罩内部空间中，且两者的高度相适配。
6. 如权利要求5所述的含有防静电离心干燥保护装置的甩干设备，其特征 在于所述防静电离心干燥保护罩为金属保护罩。
7. 如权利要求5或6所述的含有防静电离心干燥保护装置的甩干设备，其 特征在于所述防静电离心干燥保护罩为上下贯通的环形。
8. 如权利要求5或6所述的含有防静电离心干燥保护装置的甩干设备，其 特征在于所述防静电离心干燥保护罩为上下贯通的方形。
9. 如权利要求5或6所述的含有防静电离心干燥保护装置的甩干设备，其 特征在于所述防静电离心干燥保护罩上端封闭。
10. 如权利要求5或6所述的含有防静电离心干燥保护装置的甩干设备， 其特征在于防静电离心干燥保护装置为侧壁高度与所述清洗架高度相适配的基 片托盘。
专利摘要本实用新型公开了一种防静电离心干燥保护装置以及含有这种装置的甩干设备。这种保护装置为设有闭合侧壁的金属保护罩，侧壁的高度与放置待甩干基片的清洗架高度适配。保护罩可以是上下贯通的环形、方形，也可以上端封口。这种甩干设备，包含马达、由马达驱动的中心轴以及随同中心轴旋转的基片托盘，还包含一防静电离心干燥保护罩，该保护罩环绕着放置待甩干基片的清洗架设置，且其高度与所述清洗架高度相适配。采用这种防静电离心干燥保护罩，能够防止清洗架边缘的基片在甩干过程中与周边空气摩擦产生静电而吸附灰尘，能够提高基片的合格率，而且制造简单，成本低廉。
文档编号F26B11/00GK201196523SQ20082009226
公开日2009年2月18日 申请日期2008年2月5日 优先权日2008年2月5日
发明者蔡华雄, 赵刚科 申请人:深圳欧菲光科技股份有限公司