专利名称：可避免超声清洗镀膜玻璃基片烘干水印的烘干装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种可避免超声清洗镀膜玻璃基片烘干水印的烘干装置。
背景技术：
在光学镀膜中，前道工序是要获得洁净无污染的玻璃基片。常规的做法是 对少量的玻璃基片，用特定的有机溶剂擦洗，对于大量的玻璃基片，采用超声清 洗。在超声清洗过程中，最后一道工序是干燥，因为超声清洗过程的后几道工序 都是在纯水中完成，最后一道工序需要将水处理干净。常规的几种干燥方法有热 风烘干、异丙醇干燥以及离心干燥等。这三种干燥技术中，热风烘干装置最便宜， 使用成本也低，但在热风烘干过程中非常容易出现水印，水印出现的原因是由于 热的水蒸汽与玻璃表面的Si02发生反应引起，最容易出现水印的地方是固定玻 璃基片的三区域，竖直方向两个侧面各一个区域，底下支撑玻璃基片的一个区域， 玻璃基片与支座的接触点示意图如图1所示，图1为方形玻璃基片固定状态图； 玻璃基片1均通过三个支座2进行固定。
由于玻璃基片与支座接触的地方是水滴最多的地方，要花很长时间才能干 燥，在热风烘干中，这三个点就是水蒸汽的源头，如果时间烘长了，会出现三个 如图2所示的呈辐射状的腐蚀区3。
被腐蚀的水印有的很明显，可以直接用肉眼在灯光下看到，有的是在镀完膜 以后才能看到。 一旦有水印，镀出来的滤光片就是废品。所以，在烘干过程中必 须做到无水印。通过调节烘干温度，烘干时间等参数，在一定程度上能緩解水印 的产生，但对不同厚度和大小的基片，要采用不同的烘干工艺。对于薄的基片，比如小于lmm厚的基片，很难通过调节烘干温度和烘干时间来緩解或消除水印。 而且，现有技术中，由于采用热风烘干，需要在烘干过程中加热，升高风的 温度。增加了能源投入。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了克服现有技术中的不足，提供一种可避免玻璃基片 产生水印的可避免超声清洗镀膜玻璃基片烘干水印的烘干装置。
为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案实现
可避免超声清洗镀膜玻璃基片烘干水印的烘干装置，其特征在于，包括第一 壳体，第一壳体具有第一容腔，容腔内安装有风机，风机出口与进风通道相通， 所述第一壳体内还设置有第二壳体，第二壳体具有第二容腔，第二壳体设置有进 风口和出风口，进风口与进风通道相通，出风口与第一壳体的容腔相通。
优选地是，所述的进风通道内安装有滤网。优选地是，所述的第一壳体内 安装有水冷装置，水冷装置安装在第二壳体出风口处。
优选地是，所述的第一壳体安装有排水管。
本实用新型中的可避免超声清洗镀膜玻璃基片烘干水印的烘干装置，由于采 用低温大风量吹干的方法，可有效地避免烘干过程中产生水印。采用滤网对烘干 风进行过滤，烘干风洁净循环，减少了对玻璃基片的污染；对不同基片的干燥工 艺只有时间不同，而且不会由于时间延长产生水印；干燥装置的动力源只有一个 风机，相比热风烘干要节能得多。冷却装置釆用普通的水冷，由于发热量低，采 用常温水冷即可，无需特别制冷装置。本实用新型结构简单，制作容易，使用方便。
图1为现有技术中的玻璃基片固定状态示意图； 图2为现有技术中的玻璃基片烘干后的状态示意图； 图3为本实用新型结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型进行详细的描述 实施例1
可避免超声清洗镀膜玻璃基片烘干水印的烘干装置，包括第一壳体4,第 一壳体4具有第一容腔5，第一容腔5内安装有风机6,风机6出口与进风通道 7相通，进风通道7内安装有滤网8，所述第一壳体内4还设置有第二壳体9， 第二壳体9具有第二容腔15,第二壳体9设置有进风口 IO和出风口 11,进风口 10与进风通道7相通，出风口 11与第一壳体4的第一容腔5相通，第一壳体4 内安装有水冷装置12，水冷装置12安装在第二壳体9出风口处，第一壳体4安 装有排水管14。
本实用新型的使用方法为，需烘干的玻璃基片13放置在第二容腔15内， 风机6送风，经进风通道7输送到第二壳体9的第二容腔15内，对玻璃基片进 行吹风烘干。在进风通道7内安装滤网8对风进行过滤，可过滤风，防止混入杂质；风进入第二容腔15后，从出风口 11出去，返回第一容腔5内，进行循环， 在风返回第一容腔5的通道上设置水冷装置12,对风进行冷却，防止风温升高。 烘干过程中被风吹下的水通过排水管14排出，在烘千前，也可在排水管14内灌 装一些水，灌装7j^后可将排水管14密封。
本实用新型中的实施例仅用于对本实用新型进行说明，并不构成对权利要求 范围的限制，本领域内技术人员可以想到的其他实质上等同的替代，均在本实用 新型保护范围内。
权利要求1.可避免超声清洗镀膜玻璃基片烘干水印的烘干装置，其特征在于，包括第一壳体，第一壳体具有第一容腔，容腔内安装有风机，风机出口与进风通道相通，所述第一壳体内还设置有第二壳体，第二壳体具有第二容腔，第二壳体设置有进风口和出风口，进风口与进风通道相通，出风口与第一壳体的容腔相通。
2. 根据权利要求1所述的可避免超声清洗镀膜玻璃基片烘干水印的烘干装置，其特征在于，所述的进风通道内安装有滤网。
3. 根据权利要求1所述的可避免超声清洗镀膜玻璃基片烘干水印的烘干装置，其特征在于，所述的第一壳体内安装有水冷装置，水冷装置安装在第二壳体 出风口处。
4. 根据权利要求1所述的可避免超声清洗镀膜玻璃基片烘干水印的烘干装置，其特征在于，所述的第一壳体安装有排水管。
专利摘要本实用新型公开了一种可避免超声清洗镀膜玻璃基片烘干水印的烘干装置，其特征在于，包括第一壳体，第一壳体具有第一容腔，容腔内安装有风机，风机出口与进风通道相通，所述第一壳体内还设置有第二壳体，第二壳体具有第二容腔，第二壳体设置有进风口和出风口，进风口与进风通道相通，出风口与第一壳体的容腔相通。
文档编号F26B9/06GK201421241SQ20092007148
公开日2010年3月10日 申请日期2009年4月30日 优先权日2009年4月30日
发明者汤兆胜 申请人:上海兆九光电技术有限公司