专利名称：太阳光谱选择性吸收涂层板的制作方法
技术领域：
本实用新型属涉及对太阳能利用领域，尤其涉及到太阳光热发电、太阳光热取暖、太阳能热水器等应用，具体的说是ー种高效大面积的太阳光谱选择性吸收涂层制备方法及涂层板。
背景技术：
随着能源和环境问题的日益严峻，太阳能热利用技术在エ业上的应用成为人们关注的焦点。其中太阳能选择性吸收涂层制备技术是太阳能热利用的关键技术之一。目前主要的太阳能选择性吸收涂层主要制备在铝板、铜板、不锈钢等金属衬底上。虽然可以达到光热转换的效果，但因其材质的限制无法在建筑等领域得到广泛应用。
发明内容实用新型目的本实用新型提供一种高效大面积的太阳光谱选择性吸收涂层制备方法及涂层板，其目的是解决以往的太阳能热利用的效果不理想的问题。技术方案本实用新型是通过以下技术方案来实现的一种高效大面积的太阳光谱选择性吸收涂层制备方法，其特征在于在以玻璃材质为衬底的材料上利用磁控溅射法制备太阳光谱选择性吸收涂层，具体制备过程为备衬底，对衬底进行清洗，然后锁室大气真空转换，再依次对衬底进行进行真空过渡、磁控溅射镀制、真空过渡、锁室真空大气转换，之后在衬底上便形成太阳光谱选择性吸收涂层，使具有太阳光谱选择性吸收涂层的衬底具备性能优异的太阳光谱选择性吸收性能。具备性能优异的太阳光谱选择性吸收性能是指具有高的吸收比和低的发射比。吸收比大于0. 80，发射比小于0. 20。所述衬底为玻璃材质的材料。所述衬底材料包括所有玻璃材质，包括具有陷光结构或者经过处理后具备陷光结构的材料。所述太阳光谱选择性吸收涂层被制备在玻璃衬底的具有陷光结构的面上。由上面所述的高效大面积的太阳光谱选择性吸收涂层制备方法所制备的太阳光谱选择性吸收涂层板，其特征在于该涂层板包括玻璃衬底和太阳光谱选择性吸收涂层，太阳光谱选择性吸收涂层制备在玻璃衬底上形成太阳光谱选择性吸收结构。所述玻璃衬底为陷光结构。所述太阳光谱选择性吸收涂层被制备在玻璃衬底上的具有陷光结构的面上。优点及效果本实用新型提供一种高效大面积的太阳光谱选择性吸收涂层制备方法，其特征在于在以玻璃材质为衬底的材料上利用磁控溅射法制备太阳光谱选择性吸收涂层。做为本实用新型的进ー步改进，若所述衬底材料具备陷光结构，则在具备陷光结构的衬底材料上利用磁控溅射法制备太阳光谱选择性吸收涂层。所述具备陷光结构的衬底包括所有具有陷光结构或者经过处理后具备陷光结构的材料。太阳光谱选择性吸收涂层被制备在所述衬底材料具有陷光结构的一面上。本实用新型提供的新型、高效、高产能、大面积太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法的优势在于，使用磁控溅射法制备该涂层可实现大面积、高效、高产能的目的，且制造成本较其他方法低廉。使用玻璃材质为衬底，使得该材料可与玻璃材料一祥应用于多个领域。尤其是在做为建材应用于建筑上，除具备玻璃制品本身的时尚、美观、采光好、环保的优势夕卜，还结合了太阳光谱选择性吸收涂层的特点，根据涂层的性质，通过光热转换使得该材料更具价值。
图I是本新型高效高产能大面积太阳光谱选择性吸收涂层镀在玻璃材质的衬底材料上的示意图。I玻璃衬底、2太阳光谱选择性吸收图层、5入射的太阳光。图2是本新型高效高产能大面积太阳光谱选择性吸收涂层镀在衬底材料具备陷·光结构一面上的整体示意图附图标记说明1具备陷光结构的玻璃衬底，2太阳光谱选择性吸收图层，3表示在该形式的结构中的入射的太阳光，4被一次反射的入射光，6被二次反射的入射光。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型做进ー步的描述如图I所示，本实用新型提供一种高效大面积的太阳光谱选择性吸收涂层制备方法，在以玻璃材质为衬底I的材料上利用磁控溅射法制备太阳光谱选择性吸收涂层2，具体制备过程为备衬底1，对衬底I进行清洗，然后锁室大气真空转换，再依次对衬底I进行进行真空过渡、磁控溅射镀制、真空过渡、锁室真空大气转换，之后在衬底I上便形成太阳光谱选择性吸收涂层2，使具有太阳光谱选择性吸收涂层2的衬底I具备性能优异的太阳光谱选择性吸收性能。具备性能优异的太阳光谱选择性吸收性能是指具有高的吸收比和低的发射比。吸收比大于0. 80，发射比小于0. 20。所述衬底I为玻璃材质的材料。所述衬底材料I包括所有玻璃材质，包括具有陷光结构或者经过处理后具备陷光结构的材料3。所述太阳光谱选择性吸收涂层2被制备在衬底材料的具有陷光结构的面上。通过反射、折射和散射，将入射光线分散到各个角度，从而增加光在太阳光谱选择性吸收涂层材料中的光程，使光吸收增加，从而增加吸收率。该涂层板包括玻璃衬底I和太阳光谱选择性吸收涂层2，太阳光谱选择性吸收涂层2制备在玻璃衬底I上形成太阳光谱选择性吸收结构。所述玻璃衬底I为陷光结构。如图2所示，所述太阳光谱选择性吸收涂层2被制备在玻璃衬底I上的具有陷光结构的面上。。
以下结合附图对本实用新型实施作进ー步详细说明。请參阅图I所示的本新型高效高产能大面积太阳光谱选择性吸收涂层镀在玻璃材质的衬底材料上的示意图。如图所示，本实用新型包括衬底材料I、太阳光谱选择性吸收涂层2。[0035]做为本实用新型的一种实施方式，太阳光谱选择性吸收涂层2被以磁控溅射法镀在玻璃材质的衬底材料I上。当入射光5照射到太阳光谱选择性吸收涂层2上，被吸收并根据涂层性质进行能量的转换。參阅图2所示为本实用新型的衬底材料具备陷光结构时的整体示意图。如图所示，I为具备陷光结构的衬底材料，2为太阳光谱选择性吸收涂层。做为本实用新型的另ー种实施方式，太阳光谱选择性吸收涂层2被以磁控溅射法镀在具备陷光结构的玻璃材质衬底材料I上。因太阳光谱选择性吸收涂层2被镀在陷光结构材质I上，并形成表面的倒金字塔形状，因而当入射光3照射到太阳光谱选择性吸收涂层2上，部份入射光被衬底材料I吸收,部份入射光3而被衬底材料I反射，反射光4反射到太阳光谱选择性吸收涂层2上，同样，部份反射光4被吸收，部份反射光4被再次反射，形成再次反射光6，再次反射光6反射到太阳光谱选择性吸收涂层2上，且周而复始。因入射角的不同，入射光被反射的次数也不尽相同。总体而言，光被最大限度的留在太阳光谱选择性吸收涂层2并被吸收。从而达到増加吸收率的目的本实用新型很好的解决了以往在光能利用方面所存在的问题，大大提高了太阳光谱选择性吸收涂层的工作效率。
权利要求1.太阳光谱选择性吸收涂层板，其特征在于该涂层板包括玻璃衬底(I)和太阳光谱选择性吸收涂层(2)，太阳光谱选择性吸收涂层(2)制备在玻璃衬底(I)上形成太阳光谱选择性吸收结构。
2.根据权利要求I所述的太阳光谱选择性吸收涂层板，其特征在于所述玻璃衬底(I)为陷光结构。
3.根据权利要求2所述的太阳光谱选择性吸收涂层板，其特征在于所述太阳光谱选择性吸收涂层(2)被制备在玻璃衬底(I)上的具有陷光结构的面上。
4.根据权利要求I所述的太阳光谱选择性吸收涂层板，其特征在于太阳光谱选择性吸收涂层(2)为具有高的吸收比和低的发射比的结构。
5.根据权利要求4所述的太阳光谱选择性吸收涂层板，其特征在于吸收比大于O.80，发射比小于O. 20。
专利摘要太阳光谱选择性吸收涂层板，其特征在于该涂层板包括玻璃衬底和太阳光谱选择性吸收涂层，太阳光谱选择性吸收涂层制备在玻璃衬底上形成太阳光谱选择性吸收结构。本实用新型很好的解决了以往在光能利用方面所存在的问题，大大提高了太阳光谱选择性吸收涂层的工作效率。
文档编号F24J2/48GK202532768SQ20122012545
公开日2012年11月14日 申请日期2012年3月29日 优先权日2012年3月29日
发明者张浙军, 解欣业 申请人:张浙军, 解欣业