专利名称：座便器烧成支架的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及陶瓷的生产技术领域，具体地说是涉及座便器烧成支架。
背景技术：
现有技术中，座便器烧成支架是一个圈体，烧成过程中放置在座便器的下方，由于座便器具有较大的重量，在烧制的过程中，座便器坯体会变软，特别是水箱部分，往往会下沉，影响产品质量。
发明内容本实用新型的目的就是针对上述缺点，提供一种有利于产品质量提高、使用方便 的座便器烧成支架。本实用新型所采取的技术方案是座便器烧成支架，包括支架本体，支架本体下面具有吻合座便器底部的结构，其特征是在所述的支架本体在一侧的水箱部位还有一个立式支撑部，所述的立式支撑部吻合座便器水箱下面的结构。进一步的讲，所述的立式支撑部的高度小于座便器水箱底部向下的距离3 5毫米。本使用新型的有益效果是由于本实用新型采取了以上结构，使得这样的座便器烧成支架具有有利于产品质量提高、使用方便的优点。
图I是本实用新型的结构示意图。其中I、支架本体 2、立式支撑部。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型作进一步的描述。如图I所示，座便器烧成支架，包括支架本体1，支架本体I下面具有吻合座便器底部的结构，其特征是在所述的支架本体I在一侧的水箱部位还有一个立式支撑部2，所述的立式支撑部2吻合座便器水箱下面的结构。进一步的讲，所述的立式支撑部2的高度小于座便器水箱底部向下的距离3 5毫米。这样，在烧制的过程中，立式支撑部2会支撑着座便器水箱下面，放置座便器变形，能够进一步提闻广品质量。
权利要求1.座便器烧成支架，包括支架本体，支架本体下面具有吻合座便器底部的结构，其特征是在所述的支架本体在一侧的水箱部位还有一个立式支撑部，所述的立式支撑部吻合座便器水箱下面的结构。
2.根据权利要求I所述的座便器烧成支架，其特征是所述的立式支撑部的高度小于座便器水箱底部向下的距离3 5毫米。
专利摘要本实用新型涉及陶瓷的生产技术领域，具体地说是涉及座便器烧成支架，它包括支架本体，支架本体下面具有吻合座便器底部的结构，在所述的支架本体在一侧的水箱部位还有一个立式支撑部，所述的立式支撑部吻合座便器水箱下面的结构，所述的立式支撑部的高度小于座便器水箱底部向下的距离3～5毫米，这样的座便器烧成支架具有有利于产品质量提高、使用方便的优点。
文档编号F27D5/00GK202734566SQ20122038074
公开日2013年2月13日 申请日期2012年8月2日 优先权日2012年8月2日
发明者张延伟 申请人:长葛市新大都瓷业有限公司