专利名称：一种vd真空炉屏蔽炉盖的制作方法
技术领域：
—种VD真空炉屏蔽炉盖技术领域[0001]本实用新型属于冶金工业生产的技术领域，涉及钢的真空精炼工艺设备，更具体地说，本实用新型涉及一种VD真空炉屏蔽炉盖。
背景技术：
[0002]VD真空炉盖需要依托屏蔽炉盖降低钢水对真空炉盖直接影响，进而延长真空炉盖的使用寿命。[0003]现有技术中的VD屏蔽炉盖对真空炉盖起到了一定的保护作用，如图1所示(即现在一般厂家提供的VD屏蔽炉盖)。经过一段时间的生产使用，发现了许多弊端[0004]1、屏蔽炉盖每次更换需先制作钢板外壳，并在其内部焊接挂料钉，打结时将其倒置，然后填充耐材料，并进行振动压实，自然干燥，随后进行烘烤，时间长且效果不理想。[0005]2、屏蔽炉盖的钢板外壳易变形，焊口易脱焊，且炉盖内挂料钉与打结料易脱落，成品不牢固。[0006]3、屏蔽炉盖受高温钢水烘烤后，打结料脱落迅速，造成屏蔽钢壳易变形，影响生产且减少真空炉盖使用时间。[0007]4、更换周期长，钢性外壳必须与打结料同时进行烘烤使用，更换前必须等待其制作，严重影响正常使用。[0008]5、由于打结料的脱落，钢性外壳的变形损坏，造成屏蔽炉盖使用次数短，增加了成本且影响了生产节奏。实用新型内容本实用新型提供一种VD真空炉屏蔽炉盖，其目的是延长屏蔽炉盖的使用寿命。[0010]为了实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为[0011]本实用新型所提供的VD真空炉屏蔽炉盖，所述的VD真空炉屏蔽炉盖设有由钢材制成的炉盖壳体及屏蔽盖钢圈，还包括耐材屏蔽层，在所述的炉盖壳体的内表面，设有挂料钉，所述的炉盖壳体上设有一个观察孔，该观察孔位于炉盖壳体的圆锥面上。[0012]所述的观察孔的直径为lm。[0013]所述的耐材屏蔽层的下沿口由所述的屏蔽盖钢圈的支撑，且所述的耐材屏蔽层与为屏蔽盖钢圈为可拆卸式的连接结构。[0014]在所述的耐材屏蔽层中设有钢筋结构。[0015]本实用新型采用上述技术方案，改变了 VD屏蔽炉盖的结构，更有效地保护了真空炉盖，同时减少了钢水对屏蔽炉盖内壁的冲刷点，延长了炉盖的过钢炉次；在维修进行更换过程中，杜绝了因用力过大致使部分耐材掉的现象；减少维修更换炉盖的时间，提高了工作效率。
[0016]下面对本说明书各幅附图所表达的内容及图中的标记作简要说明[0017]图1为背景技术中所述结构示意图；[0018]图2为本实用新型的结构示意图；[0019]图3为图2所示结构的俯视示意图。[0020]图中标记为[0021]1、炉盖壳体，2、吊耳，3、挂料钉，4、观察孔，5、屏蔽盖钢圈。
具体实施方式
[0022]下面对照附图，通过对实施例的描述，对本实用新型的具体实施方式
作进一步详细的说明，以帮助本领域的技术人员对本实用新型的发明构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解。[0023]如图2、图3所表达的本实用新型的结构，为一种VD真空炉屏蔽炉盖，设有由钢材制成的炉盖壳体I及屏蔽盖钢圈5，还包括耐材屏蔽层，在所述的炉盖壳体I的内表面，设有挂料钉3。本实用新型主要是要实现保护VD真空炉盖，防止其变形，增加VD炉屏蔽炉盖使用次数，降低耐材消耗，达到降低成、提高效益的目的。[0024]为了解决现有技术存在的问题并克服其缺陷，实现延长屏蔽炉盖的使用寿命的发明目的，本实用新型采取的技术方案为[0025]如图2、图3所示，本实用新型所提供的VD真空炉屏蔽炉盖，所述的炉盖壳体I上设有一个观察孔4，该观察孔4位于炉盖壳体I的圆锥面上。[0026]所述的观察孔4的直径为lm。[0027]经过如图3所示的改进，改变原有炉盖上三个观察口，改成一个直径为Im的观察口，其作用为改变了三个观察口时因钢渣反应剧烈，致使观察口堵塞，影响生产的效果； 通过更改成一个大直径的观察口，更有效地保护了真空炉盖，同时减少了钢水对屏蔽炉盖内壁的冲刷点(原先三个点，现在一个点)，延长了炉盖的过钢炉次；[0028]所述的耐材屏蔽层的下沿口由所述的屏蔽盖钢圈5的支撑，且所述的耐材屏蔽层与为屏蔽盖钢圈5为可拆卸式的连接结构。[0029]本实用新型改造VD炉屏蔽炉盖结构，更改VD炉屏蔽炉盖托圈材料及结构、炉盖的打结方式，使耐材打结时间短，方便且效果好；炉盖耐火材料与托圈能够灵活拆装。使打结炉盖与托圈能够自由拆装，以增加屏蔽炉盖的使用寿命，减少炉盖更换时间；改变炉盖托圈材料及结构，更大程度上延长了托圈的使用次数。很大程度上降低了耐材消耗，更好地保护了真空炉盖，降低了生产成本；增加了生产效率。[0030]在所述的耐材屏蔽层中设有钢筋结构。[0031]在耐材结构中增加钢筋结构，对炉盖内部拉力及重心力有一定的作用。在更换了钢板后，杜绝了因内部耐材脱落，致使屏蔽炉盖托圈变形，降低使用寿命的局限。[0032]上面结合附图对本实用新型进行了示例性描述，显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制，只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进，或未经改进将本实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本实用新型的保护范围之内。
权利要求1.一种VD真空炉屏蔽炉盖，所述的VD真空炉屏蔽炉盖设有由钢材制成的炉盖壳体(I)及屏蔽盖钢圈(5)，还包括耐材屏蔽层，在所述的炉盖壳体(I)的内表面，设有挂料钉(3)，其特征在于所述的炉盖壳体(I)上设有一个观察孔(4)，该观察孔(4)位于炉盖壳体(I)的圆锥面上。
2.按照权利要求1所述的VD真空炉屏蔽炉盖，其特征在于所述的观察孔(4)的直径为lm。
3.按照权利要求1所述的VD真空炉屏蔽炉盖，其特征在于所述的耐材屏蔽层的下沿口由所述的屏蔽盖钢圈(5)的支撑，且所述的耐材屏蔽层与为屏蔽盖钢圈(5)为可拆卸式的连接结构。
4.按照权利要求1所述的VD真空炉屏蔽炉盖，其特征在于在所述的耐材屏蔽层中设有钢筋结构。
专利摘要本实用新型公开了一种VD真空炉屏蔽炉盖，设有由钢材制成的炉盖壳体(1)及屏蔽盖钢圈(5)，还包括耐材屏蔽层，在所述的炉盖壳体(1)的内表面，设有挂料钉(3)，其特征在于所述的炉盖壳体(1)上设有一个观察孔(4)，该观察孔(4)位于炉盖壳体(1)的圆锥面上。采用上述技术方案，改变了VD屏蔽炉盖的结构，更有效地保护了真空炉盖，同时减少了钢水对屏蔽炉盖内壁的冲刷点，延长了炉盖的过钢炉次；在维修进行更换过程中，杜绝了因用力过大致使部分耐材掉的现象。减少维修更换炉盖的时间，提高了工作效率。
文档编号F27D1/18GK202849478SQ20122043129
公开日2013年4月3日 申请日期2012年8月28日 优先权日2012年8月28日
发明者韩伦杰, 张峰, 赵建 申请人:芜湖新兴铸管有限责任公司