半导体用气体加热器的制作方法

文档序号:35991930发布日期:2023-11-16 01:11阅读:32来源:国知局
半导体用气体加热器的制作方法

本发明属于半导体加工,尤其是涉及一种半导体用气体加热器。


背景技术:

1、在集成电路制造过程中,湿法清洗作为一种非常重要的表面处理手段,被用于清洗芯片制造过程中各工序引入的各种污染物。在清洗过程中,当采用各种化学品及去离子水将半导体晶圆(wafer)表面的污染物去除后,通常都会伴随一个干燥过程去除晶圆表面残留的水渍,保证晶圆可直接用于下一工序。

2、半导体的干燥方式包括气体干燥方法,利用加热器将气体加热后再对半导体进行干燥,一般的加热器如公开号为cn109631559a公开的名为芯片烘干用气体加热器的发明专利所示,气流是在整个系统内循环使用的,气流在干燥晶圆后会携带水蒸气,同时气流在流动时会携带较多杂质,此时气流直接进入到气管内容易造成气管的堵塞,同时也会使得气体加热不均匀,进而影响对晶圆的干燥效果。


技术实现思路

1、本申请的内容部分用于以简要的形式介绍构思,这些构思将在后面的具体实施方式部分被详细描述。本申请的内容部分并不旨在标识要求保护的技术方案的关键特征或必要特征,也不旨在用于限制所要求的保护的技术方案的范围。

2、本发明为了克服现有技术的不足,提供一种半导体用气体加热器。

3、为了实现上述目的,本发明采用以下技术方案:一种半导体用气体加热器,包括:加热器本体,用于加热气流;过滤器装置,用于过滤进入到加热器本体内的气流;过滤器装置包括:进气管,与加热器本体内部相连通;转盘,设于进气管上;滤板,设于转盘上;吸水棉,设于滤板一侧;转盘上设有通道,进气管至少具有通道和进气管相连通的开启状态和通道和进气管相错开的关闭状态;进气管处于开启状态时,吸水棉相对于滤板静止并处于滤板一侧;进气管处于关闭状态时,吸水棉相对于滤板移动并挤压在滤板上。

4、进一步的,进气管上设有中转腔,转盘设于中转腔内,中转腔底部设有第一通槽。

5、进一步的,过滤器装置还包括:安装板,设于通道内;电机,用于驱动转盘转动;电推杆,用于推动安装板移动;吸水棉设于安装板上。

6、进一步的,过滤器装置还包括:安装架,设于通道内;螺纹套筒,转动连接于安装架上;刮杆,设于螺纹套筒上;螺纹杆,设于安装板上;刮杆抵在滤板表面。

7、进一步的,过滤器装置还包括:滑块,设于安装板上;第一复位弹簧,设于滑块上;第一推板,滑块移动而移动;刮杆一端铰接于螺纹套筒上,通道内设有供第一推板移动的环槽。

8、进一步的,过滤器还包括:第一推杆,设于滑块上;若干第一推块,设于第一推杆上;第二推板,转动连接于第一推板上;第一推板上设有与第一推杆相对应的缺口,第二推板设于缺口内,第二推板上连接有第一扭簧。

9、进一步的,过滤器还包括:第二推杆,设于滤板一侧;第一连接辊,设于第二推杆一端;第一传动轮,与第一连接辊传动配合;第二传动轮,与第一传动轮传动配合;第一连接辊上连接有第二扭簧。

10、进一步的,第一传动轮上设有传动齿,传动齿进设于第一传动轮的部分圆周面上,第二传动轮在转盘转动时转动。

11、进一步的,通道侧壁上设有多个排水槽,过滤器装置还包括:挡板,倾斜设于排水槽上方;活动块,与挡板的一端通过一个第一连接绳相连;转盘转动时带动活动块移动,使得挡板翻转至水平状态上。

12、进一步的,过滤器装置还包括:第二推块,设于活动块底部;挡杆,推动第二推块移动;固定块,将第二推块固定于指定位置上;转杆,设于第二推块上;第二推块上设有通腔,转杆转动连接于通腔内,转杆转动时带动固定块移动。

13、本发明的有益之处在于:提供一种有效去除进气中杂质和水汽的半导体用气体加热器。



技术特征:

1.一种半导体用气体加热器,包括:

2.根据权利要求1所述的半导体用气体加热器,其特征在于:所述进气管上设有中转腔,所述转盘设于所述中转腔内,所述中转腔底部设有第一通槽。

3.根据权利要求1所述的半导体用气体加热器,其特征在于:所述过滤器装置还包括:

4.根据权利要求3所述的半导体用气体加热器,其特征在于:所述过滤器装置还包括:

5.根据权利要求4所述的半导体用气体加热器,其特征在于:所述过滤器装置还包括:

6.根据权利要求5所述的半导体用气体加热器,其特征在于:所述过滤器还包括:

7.根据权利要求1所述的半导体用气体加热器,其特征在于:所述过滤器还包括:

8.根据权利要求7所述的半导体用气体加热器,其特征在于:所述第一传动轮上设有传动齿,所述传动齿进设于所述第一传动轮的部分圆周面上,所述第二传动轮在所述转盘转动时转动。

9.根据权利要求1所述的半导体用气体加热器,其特征在于:所述通道侧壁上设有多个排水槽,所述过滤器装置还包括:挡板,倾斜设于所述排水槽上方;

10.根据权利要求9所述的半导体用气体加热器,其特征在于:所述过滤器装置还包括:


技术总结
本发明公开了一种半导体用气体加热器,包括:加热器本体,用于加热气流;过滤器装置,用于过滤进入到加热器本体内的气流;过滤器装置包括:进气管,与加热器本体内部相连通;转盘,设于进气管上;滤板,设于转盘上;吸水棉,设于滤板一侧;转盘上设有通道,进气管至少具有通道和进气管相连通的开启状态和通道和进气管相错开的关闭状态;进气管处于开启状态时,吸水棉相对于滤板静止并处于滤板一侧;进气管处于关闭状态时,吸水棉相对于滤板移动并挤压在滤板上;本发明能够有效去除进气中的杂质和水汽。

技术研发人员:吴利娟,杜亦兵,杜永昊
受保护的技术使用者:绍兴永昊精密电热器件有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/16
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