一种双层高真空烤箱自动门的制作方法

本技术属于锂电池加工，具体地说，涉及一种双层高真空烤箱自动门。

背景技术：

1、在锂电池的制作过程中，烘烤是其中一个重要的环节，在现行工艺条件下，主要是通过高真空烤箱来实现对电芯的烘烤。

2、目前市场上的双层高真空烤箱的门都是通过铰链与机架连接，通过锁扣进行锁紧，门的开启或关闭必须通过人手操作，烤箱的门比较重，这种结构既浪费人力又给引入自动化烘烤造成了瓶颈。

技术实现思路

1、本实用新型要解决的技术问题在于克服现有技术的不足，提供一种可以克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的双层高真空烤箱自动门。

2、为解决上述技术问题，本实用新型采用技术方案的基本构思是：一种双层高真空烤箱自动门，包括上烤箱门、下烤箱门、机架和控制柜，还包括：上门l型支撑臂，所述上门l型支撑臂对称分布在机架的两侧，两个所述上门l型支撑臂的转角处均设置有上门无油衬套，所述上门无油衬套通过轴承转动连接机架的外壁上；上门i型支撑臂，所述上门i型支撑臂设置在上门l型支撑臂的正下方，其一端通过轴承与机架的外壁转动连接，两个所述上门i型支撑臂和上门l型支撑臂的一端均通过第一安装座安装在上烤箱门的侧面上；下门l型支撑臂，所述下门l型支撑臂位于上门i型支撑臂的下方对称分布在机架的两侧，两个所述下门l型支撑臂的转角处均设置有下门无油衬套，所述下门无油衬套通过轴承转动连接在机架的外壁上，两个所述下门l型支撑臂的一端通过第二安装座安装在下烤箱门相连；下门i型支撑臂，所述下门i型支撑臂与上门i型支撑臂交错分布设置，所述下门i型支撑臂的一端通过第二安装座安装在下烤箱门的侧面上，所述下门i型支撑臂的另一端通过第二安装座安装在机架上。

3、进一步地，两个所述上门l型支撑臂的另一端连接有上门y型接头，所述上门y型接头的一端与上门气缸的输出端相连。

4、进一步地，两个所述下门l型支撑臂的另一端连接有下门y型接头，所述下门y型接头的一端与下门气缸的输出端相连。

5、进一步地，所述上门气缸安装在上门气缸支架上，所述上门气缸支架安装在上门气缸固定座的表面上，所述上门气缸固定座与机架的外壁相连。

6、进一步地，所述下门气缸安装在下门气缸支架上，所述下门气缸支架的安装在下门气缸固定座的表面上，所述下门气缸固定座与机架的外壁相连。

7、进一步地，所述上门气缸和下门气缸上均设置有电磁阀。

8、采用上述技术方案后，本实用新型与现有技术相比具有以下有益效果：通过上门l型支撑臂、上门i型支撑臂、下门l型支撑臂和下门i型支撑臂的配合下，在使用时能够实现对上烤箱门和下烤箱门的上下平移自动控制，无需人工操作，既节约人员成本，又为引入全自动烘烤线攻克一个技术瓶颈，使用方便快捷，实用性强。

9、下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的描述。

技术特征：

1.一种双层高真空烤箱自动门，包括上烤箱门(1)、下烤箱门(2)、机架(3)和控制柜(4)，其特征在于，还包括：

2.根据权利要求1所述的一种双层高真空烤箱自动门，其特征在于：两个所述上门l型支撑臂(10)的另一端连接有上门y型接头(9)，所述上门y型接头(9)的一端与上门气缸(8)的输出端相连。

3.根据权利要求1所述的一种双层高真空烤箱自动门，其特征在于：两个所述下门l型支撑臂(18)的另一端连接有下门y型接头(17)，所述下门y型接头(17)的一端与下门气缸(16)的输出端相连。

4.根据权利要求2所述的一种双层高真空烤箱自动门，其特征在于：所述上门气缸(8)安装在上门气缸支架(6)上，所述上门气缸支架(6)安装在上门气缸固定座(5)的表面上，所述上门气缸固定座(5)与机架(3)的外壁相连。

5.根据权利要求3所述的一种双层高真空烤箱自动门，其特征在于：所述下门气缸(16)安装在下门气缸支架(15)上，所述下门气缸支架(15)的安装在下门气缸固定座(14)的表面上，所述下门气缸固定座(14)与机架(3)的外壁相连。

6.根据权利要求2所述的一种双层高真空烤箱自动门，其特征在于：所述上门气缸(8)和下门气缸(16)上均设置有电磁阀(7)。

技术总结
本技术公开了一种双层高真空烤箱自动门，涉及锂电池加工领域。一种双层高真空烤箱自动门，包括上烤箱门、下烤箱门、机架和控制柜，还包括：上门L型支撑臂，所述上门L型支撑臂对称分布在机架的两侧，两个所述上门L型支撑臂的转角处均设置有上门无油衬套，所述上门无油衬套通过轴承转动连接机架的外壁上；上门I型支撑臂，所述上门I型支撑臂设置在上门L型支撑臂的正下方；本技术通过上门L型支撑臂、上门I型支撑臂、下门L型支撑臂和下门I型支撑臂的配合下，在使用时能够实现对上烤箱门和下烤箱门的上下平移自动控制，无需人工操作，既节约人员成本，又为引入全自动烘烤线攻克一个技术瓶颈，使用方便快捷。

技术研发人员：魏家雄
受保护的技术使用者：湖南瑞达智能装备有限公司
技术研发日：20231010
技术公布日：2024/5/8