一种真空烧结炉的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种真空烧结炉，包括加热机构和位于加热机构内的支撑机构；所述加热机构设置有一个圆形的加热内腔，所述支撑机构包括支架、底板、若干个高度调节块和若干个支撑块；所述底板通过支架安装在加热内腔的底部，所述底板的顶部设置有一个凹槽，所述高度调节块和支撑块均位于凹槽内，其中高度调节块的两端与凹槽铰接从而可以使其旋转到底板的顶部或者收纳到凹槽内，所述支撑块可滑动地插接在凹槽内用于支撑旋转到底板顶部的高度调节块。本实用新型的真空烧结炉可以实现支撑机构的高度调节，可以放置长度过长的产品，又不会使产品损坏加热内腔的内壁。
【专利说明】
一种真空烧结炉
技术领域
[0001]本实用新型属于一种真空烧结技术领域，具体涉及一种真空烧结炉。
【背景技术】
[0002]传统的真空烧结炉中的烧结腔室都是圆形的，而烧结腔室用于放置产品的支撑机构的高度是固定不变的，所以当烧结宽度过长的产品时，产品是无法放置到支撑架上，而是会与烧结腔室的内壁接触，而损坏烧结腔室。
【实用新型内容】
[0003](一)要解决的技术问题
[0004]本实用新型要解决的技术问题是要提供一个可以调节支撑架高度的真空烧结炉。
[0005](二)技术方案
[0006]为解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案是:一种真空烧结炉，包括加热机构和位于加热机构内的支撑机构;所述加热机构设置有一个圆形的加热内腔，所述支撑机构包括支架、底板、若干个高度调节块和若干个支撑块;所述底板通过支架安装在加热内腔的底部，所述底板的顶部设置有一个凹槽，所述高度调节块和支撑块均位于凹槽内，其中高度调节块的两端与凹槽铰接从而可以使其旋转到底板的顶部或者收纳到凹槽内，所述支撑块可滑动地插接在凹槽内用于支撑旋转到底板顶部的高度调节块。
[0007]上述的真空烧结炉中，所述支撑机构还设置有一个使高度调节块始终旋转向下收纳到凹槽内的复位机构。
[0008]上述的真空烧结炉中，所述高度调节块和支撑块均有两个。
[0009]上述的真空烧结炉中，所述加热机构的两侧设置有前屏和后屏。
[0010]上述的真空烧结炉中，所述前屏朝向加热机构的一侧和后屏朝向加热机构的一侧均设有双层钼片。
[0011](三)有益效果
[0012]本实用新型的真空烧结炉，可以实现支撑机构的高度调节，从而可以放置长度过长的产品，又不会使产品损坏加热内腔的内壁。
【附图说明】
[0013]图1为本实用新型的真空烧结炉的结构示意图；
[0014]图2为图1中A-A的横截面图；
[0015]图3为图2中B的向视图；
[0016]图中I为加热机构、2为支撑机构、3为支架、4为底板、5为高度调节块、6为支撑块、7为凹槽、8为前屏、9为后屏、10为双层钼片。
【具体实施方式】
[0017]下面结合附图和实施例，对本实用新型的【具体实施方式】作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。
[0018]如图1-图3所示的一种真空烧结炉，包括加热机构I和位于加热机构I内的支撑机构2;所述加热机构I设置有一个圆形的加热内腔，所述支撑机构2包括支架3、底板4、2个高度调节块5和2个支撑块6;所述底板4通过支架3安装在加热内腔的底部，所述底板4的顶部设置有一个凹槽7，所述高度调节块5和支撑块6均位于凹槽7内，其中高度调节块5的两端与凹槽7铰接从而可以使其旋转到底板4的顶部或者收纳到凹槽7内，所述支撑块6可滑动地插接在凹槽7内用于支撑旋转到底板4顶部的高度调节块5。
[0019]上述的支撑机构2还设置有一个使高度调节块5始终旋转向下收纳到凹槽7内的复位机构。
[0020]上述的加热机构I的两侧设置有前屏8和后屏9。所述前屏8朝向加热机构I的一侧和后屏9朝向加热机构的一侧均设有双层钼片10。因此提高了前后屏的保温效果，减少温度流失，并且减少前后屏的变形，从而延长了其使用寿命，能够提高所烧结产品的质量。
[0021]调节时，控制支撑块6旋转向上使其位于底板4的顶部，然后支撑块6移动垫在支撑块6即可，从而放置宽度过长的产品，此结构操作非常方便，而且又不会使产品损坏加热内腔的内壁。
[0022]以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种真空烧结炉，其特征在于，所述真空烧结炉包括加热机构(I)和位于加热机构(I)内的支撑机构(2);所述加热机构(I)设置有一个圆形的加热内腔，所述支撑机构(2)包括支架(3)、底板(4)、若干个高度调节块(5)和若干个支撑块(6);所述底板(4)通过支架(3)安装在加热内腔的底部，所述底板(4)的顶部设置有一个凹槽(7)，所述高度调节块(5)和支撑块(6)均位于凹槽(7)内，其中高度调节块(5)的两端与凹槽(7)铰接从而可以使其旋转到底板(4)的顶部或者收纳到凹槽(7)内，所述支撑块(6)可滑动地插接在凹槽(7)内用于支撑旋转到底板(4)顶部的高度调节块(5)。2.根据权利要求1所述的真空烧结炉，其特征在于，所述支撑机构(2)还设置有一个使高度调节块(5)始终旋转向下收纳到凹槽(7)内的复位机构。3.根据权利要求1所述的真空烧结炉，其特征在于，所述高度调节块(5)和支撑块(6)均有两个。4.根据权利要求1所述的真空烧结炉，其特征在于，所述加热机构(I)的两侧设置有前屏(8)和后屏(9)。5.根据权利要求4所述的真空烧结炉，其特征在于，所述前屏(8)朝向加热机构(I)的一侧和后屏(9)朝向加热机构的一侧均设有双层钼片(10)。
【文档编号】F27B17/00GK205664672SQ201620520032
【公开日】2016年10月26日
【申请日】2016年5月31日
【发明人】陈平
【申请人】宁波科升磁业有限公司