一种用于光学设备中的隔热装置的制作方法

本发明属于应用于光学设备中黑体隔热手段，具体而言，是一种用于光学设备中的隔热装置。

背景技术：

在光学系统中，对光源要求分为可见光源和不可见光源。可见光源就是正常光源，不可见光源则需要产生一定温度才能得到。正常不可见光源我们称之为黑体。黑体产生红外光线会发出热量。但是光学设备对温度也是非常敏感的。所以在有黑体的光学设备中，对黑体隔热就非常重要了。本次提出黑体隔热手段。

技术实现要素：

针对现有技术中存在的问题，本发明采用的技术方案为：一种用于光学设备中的隔热装置，它包括黑体炉1、制冷罩壳2、电机3、电机座4、不锈钢隔板5、靶轮组件6、隔热板7、遮光筒8、半导体制冷组件9，所述电机3是伺服电机3，所述制冷罩壳2的上方设置所述伺服电机3，所述黑体炉1位于所述伺服电机3的下方，所述制冷罩壳2是铜质制冷罩壳10，所述半导体制冷组件9与所述铜质制冷罩壳10相连，中和所述铜质制冷罩壳10传递过来的热量，达到快速降温的目的。所述伺服电机3通过电机座4、不锈钢隔板5连接到靶轮组件6上，所述黑体炉1的一端设有所述隔热板7和遮光筒8。

同样道理，本发明的用于光学设备中的隔热装置，另一种方案为：它包括黑体炉1、制冷罩壳2、靶轮组件6、隔热板7、遮光筒8，所述制冷罩壳2是水冷制冷罩壳11，所述水冷制冷罩壳11由水冷罩壳组件12和水循环机13组成，所述黑体炉1的一端设有所述隔热板7和遮光筒8。所述黑体炉1置于过渡板14和上层板15上，并通过角铝固定件16固定。

整个设备是处于密封的罩壳组件17里，并置于支架18上，黑体炉1的发热会对里面其他零件产生影响。如图3、图4所示，整个水冷罩壳11主要分为两部分：水冷罩壳组件12；水循环机13。水冷罩壳11中水不断的流过，从而带走黑体炉1产生的热量。水循环机13通过源源不断的循环水。

有益效果：本发明通过铜质制冷罩壳或者水冷制冷罩壳这样处理黑体炉，有效的减少热量对周围其他零件的影响。

附图说明

图1为本发明实施例1的用于光学设备中的隔热装置结构示意图。

图2为本发明实施例1的用于光学设备中的隔热装置结构立体图。

图中，黑体炉1、制冷罩壳2、电机3、电机座4、不锈钢隔板5、靶轮组件6、隔热板7、遮光筒8、半导体制冷组件9，铜质制冷罩壳10。

图3为本发明实施例1的用于光学设备中的隔热装置结构示意图。

图4为本发明实施例1的用于光学设备中的隔热装置结构立体图。

图中，黑体炉1、制冷罩壳2、靶轮组件6、隔热板7、遮光筒8，水冷制冷罩壳11，水冷罩壳组件12，水循环机13，过渡板14，上层板15，角铝固定件16，罩壳组件17，支架18。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本发明作进一步详细说明。

现有技术的光学设备中使用黑体炉对光学靶标进行照射，黑体炉会产生高温，对其附近的其他光学设备有很大影响，为此需要加入制冷罩壳。

【实施例1】

针对现有技术中存在的问题，本实施例的用于光学设备中的隔热装置，如图1、图2所示，是本实施例的结构示意图，它包括黑体炉1、制冷罩壳2、电机3、电机座4、不锈钢隔板5、靶轮组件6、隔热板7、遮光筒8、半导体制冷组件9，所述电机3是伺服电机3，所述制冷罩壳2的上方设置所述伺服电机3，所述黑体炉1位于所述伺服电机3的下方，所述制冷罩壳2是铜质制冷罩壳10，所述半导体制冷组件9与所述铜质制冷罩壳10相连，中和所述铜质制冷罩壳10传递过来的热量，达到快速降温的目的。所述伺服电机3通过电机座4、不锈钢隔板5连接到靶轮组件6上，所述黑体炉1的一端设有所述隔热板7和遮光筒8。

制冷罩壳2上方为伺服电机3位置，黑体炉1的发热口正好位于伺服电机3正下方，不做处理的话，伺服电机会受到影响。所以，增加铜质制冷罩壳2。

如图1、图2所示，整个制冷罩壳2主要分为两部分：半导体制冷组件9和铜质制冷罩壳10。

半导体制冷组件9可以快速降温，中和铜质制冷罩壳2传递过来的热量。

铜质制冷罩壳2的热传导系数大，热传导效率高。

这样处理，有效的减少热量对周围其他零件的影响。

【实施例2】

针对现有技术中存在的问题，本实施例的用于光学设备中的隔热装置，如图3、图4所示，是本实施例的结构示意图，它包括黑体炉1、制冷罩壳2、靶轮组件6、隔热板7、遮光筒8，所述制冷罩壳2是水冷制冷罩壳11，所述水冷制冷罩壳11由水冷罩壳组件12和水循环机13组成，所述黑体炉1的一端设有所述隔热板7和遮光筒8。所述黑体炉1置于过渡板14和上层板15上，并通过角铝固定件16固定。

整个设备是处于密封的罩壳组件17里，并置于支架18上，黑体炉1的发热会对里面其他零件产生影响。如图3、图4所示，整个水冷罩壳11主要分为两部分：水冷罩壳组件12；水循环机13。水冷罩壳11中水不断的流过，从而带走黑体炉1产生的热量。水循环机13通过源源不断的循环水。这样处理，有效的减少热量对周围其他零件的影响。

以上的实施例仅为说明本发明的技术思想，不能以此限定本发明的保护范围，凡是按照本发明提出的技术思想，在技术方案基础上所做的任何改动，均落入本发明保护范围之内。本发明未涉及的技术均可通过现有的技术加以实现。

技术特征：

1.一种用于光学设备中的隔热装置，其特征在于：它包括黑体炉(1)、制冷罩壳(2)、电机(3)、电机座(4)、不锈钢隔板(5)、靶轮组件(6)、隔热板(7)、遮光筒(8)、半导体制冷组件(9)，所述电机(3)是伺服电机(3)，所述制冷罩壳(2)的上方设置所述伺服电机(3)，所述黑体炉(1)位于所述伺服电机(3)的下方，所述制冷罩壳(2)是铜质制冷罩壳(10)，所述半导体制冷组件(9)与所述铜质制冷罩壳(10)相连，中和所述铜质制冷罩壳(10)传递过来的热量，达到快速降温的目的。

2.根据权利要求1所述的用于光学设备中的隔热装置，其特征在于：所述伺服电机(3)通过所述电机座(4)、不锈钢隔板(5)连接到所述靶轮组件(6)上，所述黑体炉(1)的一端设有所述隔热板(7)和遮光筒(8)。

3.一种用于光学设备中的隔热装置，其特征在于：它包括黑体炉(1)、制冷罩壳(2)、靶轮组件(6)、隔热板(7)、遮光筒(8)，所述制冷罩壳(2)是水冷制冷罩壳(11)，所述水冷制冷罩壳(11)由水冷罩壳组件(12)和水循环机(13)组成，所述黑体炉(1)的一端设有所述隔热板(7)和遮光筒(8)。

4.根据权利要求3所述的用于光学设备中的隔热装置，其特征在于：所述黑体炉(1)置于过渡板(14)和上层板(15)上，并通过角铝固定件(16)固定。

5.根据权利要求3或4所述的用于光学设备中的隔热装置，其特征在于：整个设备是处于密封的罩壳组件(17)里，并置于支架(18)上，所述黑体炉(1)所发出的热量通过所述水冷罩壳组件(12)和水循环机(13)中源源不断的循环水带走。

技术总结
本实用新型公开一种用于光学设备中的隔热装置，它包括黑体炉1、制冷罩壳2、电机3、电机座4、不锈钢隔板5、靶轮组件6、隔热板7、遮光筒8、半导体制冷组件9，所述电机3是伺服电机3，所述制冷罩壳2的上方设置所述伺服电机3，所述黑体炉1位于所述伺服电机3的下方，所述制冷罩壳2是铜质制冷罩壳10，所述半导体制冷组件与所述铜质制冷罩壳相连，中和所述铜质制冷罩壳传递过来的热量，达到快速降温的目的。所述伺服电机通过电机座、不锈钢隔板连接到靶轮组件上，所述黑体炉的一端设有所述隔热板和遮光筒。本实用新型通过铜质制冷罩壳或者水冷制冷罩壳这样处理黑体炉，有效的减少热量对周围其他零件的影响。

技术研发人员：秦仕杰
受保护的技术使用者：南京英田光学工程股份有限公司
技术研发日：2019.09.06
技术公布日：2020.04.28